JSD500 电子束蒸发镀膜系统

可以用于蒸镀半导体、金属膜，纳米级单层及多层功能膜。

 1、真空室：

1.1、真空室内腔尺寸：500×500×680mm 可与手套箱联接使用。 

1.2、真空室材料：整个真空室采用 SUS304 不锈钢材料制造，内表面抛光， 外表面喷丸处理；极限真空度高。

1.3、真空室结构：真空室四周配有不锈钢防污染屏蔽板；前滑门、后拉门、 侧面抽气系统结构，四壁壳体外壳水冷，采用不锈钢水冷槽通水冷却。

1.4、观察窗：Φ100mm 观察窗 2 个，观察窗内有遮挡活动板，配有两套防 辐射射玻璃（一套备用）。

1.5、CF35 陶瓷封接引线法兰：2 个（照明及内烘烤引线 1 个、预留空置 6 芯电极法兰 1 个）

1.6、晶振膜厚仪接口 1 个

 2、工件架旋转与烘烤：

2.1、采用调速电机调节转速、磁流体密封；3 到 60rpm 无级调速 

2.2、样品托盘尺寸：可放置单片 4 英寸（配有单独样品托和样品夹具）。 

2.3、样品温度：样品盘带有水冷； 

2.4、基片与蒸发源之间距离 350～500mm 可调， 

3、直流离子轰击 

3.1、离子轰击：轰击电压 3000V,电流 160mA 及以上。可清洗样品表面。 

3.2、配轰击铝棒 1 根

 4、蒸发源： 电子束蒸发源

4.1、用超高真空 E 型电子枪； 

4.2、270°E 型电子枪及高压电源，电子枪功率 0--8KW 可调；

4.3、电子枪阳极电压：6kv、8 kv；两挡 

4.4、电子束可二维扫描调节，最大扫描正负 15mm（X，Y）；

4.5、六工位水冷式电动坩埚；每穴容积 11-22ml 

4.6、可调角度气动控制蒸发挡板，采用磁流体密封； 

4.7、电子枪配有触摸屏，可远控； 

4.8、带有高压灭弧自动复位功能。 

5、真空抽气系统 

5.1、复合分子泵与控制电源：可达 6.0×10-5Pa，真空漏率≤10-7Pa.l/s， 真空室从大气到抽到≤6.0×10-4Pa，小于 30min。 

5.2、分子泵与真空室连接采用 DN200 气动挡板阀门； 

5.3、机械泵和分子泵连接采用不锈钢金属波纹管；

5.4、 系统漏率：系统停泵关机 12 小时后，真空室的真空度≤10Pa。

 6、石英晶体测厚仪： 采用石英晶体振荡膜厚监控仪

◇用于监控镀膜蒸发速率及控制膜层物理厚度 

◇配单个水冷探头 

◇监测膜厚显示范围：0～99μ9999Å 

◇厚度分辨率：1Å 

◇速率显示分辨率： 0～9999.9 Å 

◇控制精度： 0.01 Å 

◇监测时间显示范围：1 分～99 小时 

7、真空测量系统： 复合数显真空计

热偶规： 1.0x103Pa ---1.0x10-1Pa 

电离规：（CF35 刀口法兰） 1.0x10-1Pa ---1.0x10-5Pa

8、水冷系统 

配备水冷循环系统：满足设备需求（功率大于 2kW） 

9、其他： 

9.1 不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等 

9.2 产品相关的金属密封铜圈及氟橡胶密封圈 1 套

9.3 电子枪灯丝 5 

9.4 坩埚 10