核心参数
产地类别: 国产
靶材材质: 金 铂 铜 银
靶材尺寸: φ160x160
控制方式: 触摸屏智能控制
样品仓尺寸: φ160x160
样品台尺寸: φ50
溅射气体: 根据需求气体
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高纯度金靶材磁控溅射仪
在不同的蒸发速率下沉积300nm的Au薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。金薄膜方阻随着蒸发速率提高无明显变化,而方阻均匀性变差,但在可接受的范围内。但蒸发速率过高会引起金属大颗粒增多。因此,选用适合的蒸发速率对Au膜质量有很大影响。
高纯度金靶材
应用领域:
离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。
高纯度金靶材磁控溅射仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数;
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
溅射电源 | 直流溅射电源 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
输出电压电流 | 电压≤1000V 电流≤1A |
真空 | 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤5*10^-3Pa |
溅射真空 | ≤30Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
样品台 | 可旋转φ62 (可安装φ50基底) |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品溅射源调节距离 | 40-105mm |
真空测量 | 皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa) |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
企业名称
郑州科探仪器设备有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
91410102358043099C
成立日期
2015-09-01
注册资本
510000
经营范围
销售:仪器仪表,电子元器件,高低压成套设备,机电设备,阀门,五金交电,管件,实验室设备的安装;机电设备安装工程(凭有效资质证经营);实验室设备及配件的技术开发;软件开发;自动化控制设备的技术开发;从事货物和技术的进出口业务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后放可开展经营活动)
郑州科探仪器设备有限公司
公司地址
河南开郑州高新技术产业开发区西三环路289号6幢11单元3层
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