核心参数
仪器种类: 磁控溅射镀膜机
产地类别: 国产
应用领域: 微电子学
基片尺寸: 最大8吋向下兼容
基片温度范围: RT800℃-1200℃
成膜厚度均匀性: ±2%
极限真空: 优于5×10^(-9)mbar(胶圈密封)
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