March 等离子清洗机AP600/AP1000

 吴先生

Nordson MARCH AP 系列批处理真空等离子系统提供了小、中、大三种不同真空腔体尺寸的选择，无论客户是希望用于R&D还是不同等级的生产环境，均可以给客户提供工艺关联的、控制连续的、可靠的、和可重复的真空气体等离子处理系统。

AP 系列等离子处理机器适合于广泛的等离子清洗、表面活化和粘接力增强应用。这些能力可用于半导体封装工厂，微电子封装和组装，也可以用于医药和生命科学器件的生产。

等离子处理设备的特点和优势

• 带触摸屏的PLC控制器提供了直观图形界面和实时工艺呈现。
• 无论是直接等离子，还是下游等离子模式，弹性架板结构都可以应对各种不同的样品载具。
• 13.56 MHz 射频发生器有自动阻抗调谐，实现了成熟的工艺再现性。
• 专有的软件控制系统生成工艺和生产数据用于统计制成控制。
• 批处理类型，每一个单元都包含在机器内部，只需要较小的占地面积。
• 泵、腔体、电子控制、13.56 MHz射频源都被封装在一个箱体内。

AP-300和AP-600等离子清洗机：AP-300和AP-600系统适合多种多样的等离子清洗、表面活化和改善附着力等应用。这些能力可以用于半导体制造、微电子封装和组装、医疗设备和生命科学器件的制造等。

AP-300系统能够适合广泛的工艺气体，包括氩气、氧气、氢气、氦气及氟化气体。通过2个标准配置的气体流量控制器控制用于较好的气体控制。系统还可以选配2路气体，即最多可达4路。

AP-1000等离子清洗机：搭配HTP(高产能)电极的AP-1000等离子系统是综合了March拥有的电极设计和AP-1000的高可靠性及其优良的工艺性。AP-1000 HTP充分利用了射频等离子产生的活性离子，不仅缩短工艺时间而且提高处理均匀性。

AP-1000HTP配备4路气体流量控制器，因工艺需求可选周不同的气体包括氩气、氢气和氦气等。
开槽式料盒可竖放于工艺腔内，通常每个料盒最少可放置20条引线框，根据料盒尺寸大小，一炉可最多放置12个料盒。

AP-1500等离子清洗机：AP-1500系统设计为等离子清洁和表面处理应用提供卓越的性能。水平电极（挂架）可方便大批量装载。

AP-1500系统采用先进的功率匹配算法和控制系统算法，实现等离子效率提高。直观的触摸屏控制面板可实时监测和控制等离子体处理过程。控制系统具有多级密码保护，防止未经授权的人修改程式。同时保证从第一炉到最后一炉系统性能的一致性。

AP-1500系统还可提供滑动水平置物架，方便装卸。该系统紧凑、便于维护的设计使其占用空间很小，该系统只有前面和后面有检修通道。因此，多个系统可并排放置，实现占地空间利用率的提高。