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当前位置: 原速科技 > 原子层沉积设备 > SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统

SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统

品牌:
产地: 广东
型号: E200P 双反应腔+6路进气口
报价: ¥100万 - 200万
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核心参数

产地类别: 国产

产品介绍

Exploiter  E200P原子层沉积系统(粉末颗粒包裹反应腔)是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统,可在平面衬底、粉末颗粒表面、高深宽比结构及其他复杂三维结构上沉积薄膜。原子层沉积系统 E200P广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域,其特点在于:

双反应腔:Φ200mm + 粉末颗粒包裹腔

6路进气口:3路前驱体源 + 3路反应气源


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地址:深圳市宝安区新安街道兴东社区优创空间1号楼511-513

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工商信息

企业名称

深圳市原速科技有限公司

企业信息已认证

企业类型

有限责任公司

信用代码

91440300MA5EPL0E7B

成立日期

2017-08-25

注册资本

172.3177

经营范围

原速科技是一家新型薄膜材料研发商,集新型材料的研发、生产、销售于一体,主要从事于前沿领域新型薄膜材料、工艺和设备研发的高科技公司;致力于新型薄膜材料在光电领域的使用。

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深圳市原速科技有限公司为您提供SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统E200P 双反应腔+6路进气口,nullE200P 双反应腔+6路进气口产地为广东,属于国产原子层沉积设备,除了SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多原子层沉积设备,原速科技客服电话400-860-5168转5051,售前、售后均可联系。

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