SUPERALD Exploiter原子层沉积设备

Exploiter原子层沉积系统是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统，广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域。

系统优势

     1.传输管路的优化设计，有效地避免管路堵塞及交叉污染问题

     2.工业化级别标准集成：PLC+工控机+触摸屏

     3.软件操作界面友好，可真正实现“一键沉积”

     4.全方位可靠的安全互锁方案

     5.实时监测镀膜工艺

技术指标

    1.本底真空：＜5.0×10-3torr，高性能机械泵（可定制）

   2.样品腔室：φ200mm；

   3.前驱体源：2、4或6路

   4.氧化/还原反应物：3路

   5.沉积温度：室温-500℃（可定制）

  6.前驱体管道温度：室温-120℃（可定制）

  7.源瓶加热温度：室温-120℃（可定制）

应用领域

    1 微电子：逻辑器件、碳纳米管、存储器件/材料、阻挡层

    2 光学：光子晶体、表面等离激元、光学微腔、导电氧化物、其他光学器件

    3 能源：锂电池、燃料电池、太阳能电池、超级电容器、表面钝化和敏化

    4 催化：氧化物催化剂、负载型金属催化剂、颗粒和高深宽比结构

    5 生物：生物薄膜和仿生、生物相容性涂层、生物检测电子器件、生物传感器

    6 纳米技术：微纳机电系统、纳流体器件、磁隧道结器件、单分子传感器

材料种类

    1 氧化物：Al₂O₃、TiO₂、SiO₂、HfO₂、Ta₂O₅、ZrO₂、ZnO、SnO₂、La₂O₃、Lu₂O₃等

    2 金属材料及合金：Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等

    3 二元/多元材料：AlN、HfON、LaAlO3、MnN、WN等

    4 纳米层压材料：(Al₂O₃/ZrO₂)n等

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