中国政府采购网5月13日发布《北京量子信息科学研究院科研仪器设备激光直写光刻机单一来源采购公示》，拟采购的货物为激光直写光刻机2台。北京量子信息科学研究院将以单一来源采购方式从Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH 在中国大陆的唯一代理商华格科技（苏州）有限公司进行仪器采购，总预算金额1300万元。公示期限为2022年5月13日至2022年5月20日。采用单一来源采购方式的原因为：计划采购的激光直写光刻机需要可加工的最小结构尺寸达 0.3 μm，可以满足工艺的最低要求，而由于激光直写类设备的原理及工艺限制，0.3 μm 基本上是该类设备可以达到的极限。在全球范围内对比了多种激光直写设备，目前只有 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH 的 DWL66+激光直写光刻机可以达到要求。此外，随着芯片工艺的复杂度和芯片面积的不断上升，现有激光直写设备速度较慢的问题逐渐凸显，对流片速度产生了明显的影响。我们计划采购的另一台激光直写光刻机要求在保证最小结构尺寸不大于 0.8 μm 的条件下，曝光速度不小于 800 mm2 /min，并且可以加工 8 英寸晶片，对缩短芯片研发、生产周期具有不可替代的作用。我们在全球范围内对比了多种激光直写设备，目前只有 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH 的 VPG200+激光直写光刻机在不大于 0.8 μm 的最小结构尺寸下具有≥800 mm2 /min 的直写速度。华格科技（苏州）有限公司是 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH 在中国大陆的唯一代理商。综合以上研究要求，特申请以单一来源形式，通过华格科技（苏州）有限公司采购所需的激光直写光刻机。参与本次单一来源采购论证的专家为：北京大学副教授康宁、北京大学副教授吴孝松、中国科学院物理研究所副研究员屈凡明、中国科学院物理研究所副研究员田野、中国科学院物理研究所副研究员宋小会、北京政法职业学院教授孟德花、北京京棉纺织集团有限公司高级经济师刘放。专家论证意见如下：

光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。出于众所周知的原因，中芯国际2018年订购、原预计2019年到货的ASML EUV光刻机，在2021年即将到来之际，依然听不到何时能发货的消息；近日，有消息人士透露，中芯国际新上任董事会副董事长蒋尚义将与ASML公司就EUV光刻设备进行谈判，谋求EUV光刻机发货。目前，中国光刻机技术至少落后国际先进水平2代以上，为解决中国半导体制造面临的困难，中科院率先士卒，白春礼院长表示：将光刻等卡脖子技术列入院里紧急的科研任务清单。除了前述的紫外光刻技术外，广义的光刻设备还包括电子束光刻和离子束光刻等，在ASML之外，还有众多其他生产厂商。此外，不同的应用（如：掩膜版、功率芯片等）对光刻机的制程要求也不同，中国市场上对14nm以上的支撑的光刻机也有广泛的需求。硅芯片对先进制程光刻机要求很高，对于石墨烯晶圆发展出的碳基芯片而言，存在一种可能性：基于石墨烯的性能，在制造方面绕开了复杂的高端光刻技术，也可以理解为，对光刻技术的要求不像5nm硅基芯片那么高的要求。2019年，国际石墨烯创新大会上，中科院首次展示开发完成的8英寸石墨烯晶圆，无论是在质量上或是尺寸上，该成果都达到了最顶尖的水平。仪器信息网近期特对一年内的光刻设备的中标讯息整理分析，供广大仪器用户参考。（注：本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台，不完全统计分析仅供读者参考。） 各月中标量占比2019年10月至2020年9月，根据统计数据，光刻设备的总中标数量为104台，涉及金额上亿元。2019年10月至2020年1月，平均中标量约9台每月。2020年2月，由于疫情影响，光刻设备市场低迷，无成交量。从2020年3月起，随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进，光刻设备市场逐渐回暖，其中9月产品中标量高达20台。 采购单位性质分布从光刻设备的招标采购单位来看，高校是采购的主力军，采购量占比高达55%，企业和科研院所的采购量分别占比23%和22%。值得注意的是，企业和科研院所采购设备的单价较高，集中于高端设备和量产型设备，而高校采购以科研为主，多采购无掩膜激光直写设备。其中，在企业采购中，华虹半导体是主力。招标单位地区分布本次盘点，招标单位地区分布共涉及21个省份、自治区及直辖市。北京、上海、广东、江苏、浙江为光刻设备采购排名前5的地区，其中北京的中标量最多，达21台。在这些地区中，北京和广东以高校和科研院所采购为主，主要用于科研领域；上海以企业采购为主，这主要由于上海是我国集成电路产业发达地区；江苏以高校和企业采购为主，而浙江以科研院所采购为主。不同类型光刻设备占比广义上的光刻设备还包括了电子束光刻和离子束光刻，根据搜集到的中标数据可知，传统光刻占据了中标光刻设备的主流、占比高达92%。电子束光刻又称电子束曝光机，在采购中仅占7%，主要用于科研领域和掩模版制作，但由于其刻蚀速率太低，无法用于量产，因此采购量较少，但电子束曝光机是半导体制造的基础设备。本次光刻设备中标盘点，涉及品牌有卡尔蔡司、Raith B.V.、RAITH GmbH、sigma、日本电子株式会社、SUSS MicroTec、Heidelberg Instruments、Durham Magneto Optics Ltd、 Nikon、EVG、TEL等。其中，各品牌比较受欢迎的产品型号有：德国海德堡无掩膜直写设备德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。海德堡区别于过去传统的工艺技术而开发的无掩膜激光直写技术，将设计图形直接曝光到涂覆有光刻胶的衬底材料上；曝光后，如果需要修改图形结构，可以直接通过CAD软件修改原始图形，然后重新曝光即可，无需花费重新制版的时间。主要产业应用有：生命科学、微流体、MEMS、微光学、传感器、材料研究等有微纳米结构需求的科研领域。URE-2000/35型光刻机URE-2000/35型光刻机非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。EVG610单面/双面光刻机EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在几分钟之内完成，而不需要专门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。点击此处进入【光刻机】专场，获取更多产品信息。更多资讯请扫描下方二维码，关注【材料说】