2020光刻设备中标盘点：疫情之后，市场活力回升！

光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。出于众所周知的原因，中芯国际2018年订购、原预计2019年到货的ASML EUV光刻机，在2021年即将到来之际，依然听不到何时能发货的消息；近日，有消息人士透露，中芯国际新上任董事会副董事长蒋尚义将与ASML公司就EUV光刻设备进行谈判，谋求EUV光刻机发货。目前，中国光刻机技术至少落后国际先进水平2代以上，为解决中国半导体制造面临的困难，中科院率先士卒，白春礼院长表示：将光刻等卡脖子技术列入院里紧急的科研任务清单。

除了前述的紫外光刻技术外，广义的光刻设备还包括电子束光刻和离子束光刻等，在ASML之外，还有众多其他生产厂商。此外，不同的应用（如：掩膜版、功率芯片等）对光刻机的制程要求也不同，中国市场上对14nm以上的支撑的光刻机也有广泛的需求。硅芯片对先进制程光刻机要求很高，对于石墨烯晶圆发展出的碳基芯片而言，存在一种可能性：基于石墨烯的性能，在制造方面绕开了复杂的高端光刻技术，也可以理解为，对光刻技术的要求不像5nm硅基芯片那么高的要求。2019年，国际石墨烯创新大会上，中科院首次展示开发完成的8英寸石墨烯晶圆，无论是在质量上或是尺寸上，该成果都达到了最顶尖的水平。仪器信息网近期特对一年内的光刻设备的中标讯息整理分析，供广大仪器用户参考。（注：本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台，不完全统计分析仅供读者参考。）

各月中标量占比

2019年10月至2020年9月，根据统计数据，光刻设备的总中标数量为104台，涉及金额上亿元。2019年10月至2020年1月，平均中标量约9台每月。2020年2月，由于疫情影响，光刻设备市场低迷，无成交量。从2020年3月起，随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进，光刻设备市场逐渐回暖，其中9月产品中标量高达20台。 

采购单位性质分布

从光刻设备的招标采购单位来看，高校是采购的主力军，采购量占比高达55%，企业和科研院所的采购量分别占比23%和22%。值得注意的是，企业和科研院所采购设备的单价较高，集中于高端设备和量产型设备，而高校采购以科研为主，多采购无掩膜激光直写设备。其中，在企业采购中，华虹半导体是主力。

招标单位地区分布

本次盘点，招标单位地区分布共涉及21个省份、自治区及直辖市。北京、上海、广东、江苏、浙江为光刻设备采购排名前5的地区，其中北京的中标量最多，达21台。在这些地区中，北京和广东以高校和科研院所采购为主，主要用于科研领域；上海以企业采购为主，这主要由于上海是我国集成电路产业发达地区；江苏以高校和企业采购为主，而浙江以科研院所采购为主。

不同类型光刻设备占比

广义上的光刻设备还包括了电子束光刻和离子束光刻，根据搜集到的中标数据可知，传统光刻占据了中标光刻设备的主流、占比高达92%。电子束光刻又称电子束曝光机，在采购中仅占7%，主要用于科研领域和掩模版制作，但由于其刻蚀速率太低，无法用于量产，因此采购量较少，但电子束曝光机是半导体制造的基础设备。

本次光刻设备中标盘点，涉及品牌有卡尔蔡司、Raith B.V.、RAITH GmbH、sigma、日本电子株式会社、SUSS MicroTec、Heidelberg Instruments、Durham Magneto Optics Ltd、 Nikon、EVG、TEL等。

其中，各品牌比较受欢迎的产品型号有：

德国海德堡无掩膜直写设备

德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。海德堡区别于过去传统的工艺技术而开发的无掩膜激光直写技术，将设计图形直接曝光到涂覆有光刻胶的衬底材料上；曝光后，如果需要修改图形结构，可以直接通过CAD软件修改原始图形，然后重新曝光即可，无需花费重新制版的时间。主要产业应用有：生命科学、微流体、MEMS、微光学、传感器、材料研究等有微纳米结构需求的科研领域。

URE-2000/35型光刻机

URE-2000/35型光刻机非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。

EVG610单面/双面光刻机

EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在几分钟之内完成，而不需要专门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。

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