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深圳市蓝星宇电子科技有限公司

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韩国ATI 晶圆检查机WIND

品牌： ATI

型号： WIND

产地：其他国家

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报价：¥80万 - 100万

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海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG1600

品牌：

型号： VPG1600

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 800

品牌：

型号： VPG+ 800

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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德国Raith Voyager 新一代电子束光刻系统

品牌： Raith

型号： Voyager

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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瑞典Mycronic 多功能掩膜版光刻机FPS 6100

品牌：

型号： FPS 6100

产地：瑞典

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报价：¥80万 - 100万

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瑞典Mycronic 掩膜计量系统Prexision-MMS

品牌：

型号： Prexision-MMS

产地：瑞典

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报价：¥80万 - 100万

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德国Nanoscrib双光子微纳3D打印机Quantum X

品牌：

型号： Quantum X

产地：德国

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德国ZEISS蔡司聚焦离子束扫描电镜FIB/SEM

品牌：蔡司

型号： Crossbeam 350,Crossbeam 550

产地：德国

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报价：¥100万 - 150万

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德国Sentech光谱反射测量软件FTPadv Expert

品牌：

型号： FTPadv Expert

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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德国Sentech台式薄膜探针反射仪 FTPadv

品牌：

型号： FTPadv

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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德国Sentech反射膜厚仪RM 1000/2000

品牌：

型号： RM 1000/2000

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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Sentech激光椭偏仪SE 500adv

品牌：德国SENTECH

型号： SE 500adv

产地：德国

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Sentech 激光椭偏仪 SE 400adv

品牌：

型号： SE 400adv

产地：德国

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Sentech光谱椭偏测量/分析软件SpectraRay/4

品牌：

型号： SpectraRay/4

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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Sentech 全自动光谱椭偏仪SENDURO

品牌：

型号： SENDURO

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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德国Sentech红外光谱椭偏仪SENDIRA

品牌：

型号： SENDIRA

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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德国Sentch 光谱椭偏仪SENpro

品牌：

型号： SENpro

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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KSI V300E 单探头超声波扫描显微镜

品牌：凯斯安

型号： KSI V300E

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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KSI V400E 单探头多用途超声波扫描显微镜

品牌：凯斯安

型号： KSI V400E

产地：德国

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报价：¥80万 - 100万

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KSI v700E 单探头超声波扫描显微镜

品牌：凯斯安

型号： KSI v700E

产地：德国

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KSI v1000E 单探头多用途超声波扫描显微镜

品牌：凯斯安

型号： KSI v1000E

产地：德国

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KSI V-Octo 八探头大型超声波扫描显微镜

品牌：凯斯安

型号： KSI V-Octo

产地：德国

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KSI V-quattro四探头超声波扫描显微镜系统

品牌：凯斯安

型号： KSI V-quattro

产地：德国

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KSI V-duo 双探头超声波扫描显微镜系统

品牌：凯斯安

型号： KSI V-duo

产地：德国

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KSI－Nano型高分辨率表层缺陷超声波扫描显微镜系统

品牌：凯斯安

型号： Nano

产地：德国

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KSI 全自动晶锭分析检测系统i-Ingot

品牌：凯斯安

型号： i-Ingot

产地：德国

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德国KSI超声波缺陷检测系统i-Wafer

品牌：凯斯安

型号： i-Wafer

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百及纳米ParcanNano探针电子束光刻机P-SPL21

品牌：百及纳米

型号： P-SPL21

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百及纳米ParcanNano单离子注入系统SII

品牌：百及纳米

型号： SII

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Oxford 反应离子刻蚀机PlasmaPro 800 RIE

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型号： PlasmaPro 800 RIE

产地：英国

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公司地址：深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902 联系人：廖敬强 13538131258，徐翠兰15915408056 邮编： 518104 联系电话： 400-860-5168转4527

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化学气相沉积设备原子层沉积设备无掩模光刻机/直写光刻机电子束曝光机有掩模光刻机纳米压印设备匀胶机

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