TDLAS技术在脱硝氨逃逸检测的应用

1.采用多次反射样气室，极大地提高测量精度

大方科技针对氨逃逸浓度低、工况复杂恶劣、测量精度要求高的需求，国内外首次成功开发了针对氨逃逸测量的高温多次反射样气室，测量光程30米，气室材料和光学器件经过特殊处理和设计，无吸附、耐腐蚀、能够在250-300℃高温条件下长期稳定运行。大方科技掌握TDLAS核心技术，处于国际领先水平，目前国内外氨逃逸设备皆选择近红外区域同一氨气分子吸收谱线，测量精度由测量光程决定，相比同类氨逃逸产品2-3米光程设计方案，大方科技测量精度高出十倍以上。高温多次反射长光程技术能够保证在燃煤电厂高温、高湿、高粉尘、高腐蚀、高振动等恶劣工况下仍能保持极佳的测量精度。

2.全程无冷点

大方科技氨逃逸系统所有和样气接触的管路温度≥250℃，烟气成分没有改变，测量无吸附。

3.可实现准确标定验证

大方科技氨逃逸多次反射气室，在系统标定时，关闭烟气进入阀门，将标准气体预热后通入测量池测量，排除烟气对标定过程的干扰，可实现准确标定验证。

4.测量不受粉尘影响

抽取烟气经高精度滤芯过滤后进入气室测量，测量不受烟气高粉尘的影响。大方科技采用内外两路反吹过滤滤芯，相比单路反吹，吹扫更彻底。反吹气体采用高温预热，有效防止滤芯出现铵盐结晶。

5.不受烟道震动影响

采用近位抽取测量方式测量光路不受现场振动、热膨胀等环境因素的影响。

6.取样有代表性

  近位抽取的取样点插入烟道核心区域，采样探杆长度可根据现场工况设置，取样更有代表性。根据烟道尺寸和烟道截面氨逃逸分布状况，可选择多点检测，测量结果更具代表性。

7.系统无漂移，避免了定期校正需要

  系统内置参比气室模块，结合光谱调制技术，实现动态补偿，实时锁住气体吸收谱线，不受温度、压力以及环境变化的影响，不存在漂移现象。

8.操作和维护简单方便

 分析系统无任何运动部件，极大地增强了可靠性。分析仪采用点阵式液晶屏显示，两级菜单操作，人机交互界面友好，根据界面提示可不需要说明书就能掌握仪器的基本操作。经预处理抽取测量，仪器和消耗品寿命长，维护方便，运行费用低。

9.专利技术，便于维护光学器件

   大方科技特有的样气室设计，包含维护窗口，可以在不影响光路的情况下，对污染的光学器件进行清洁，无需重新调节光路，让维护更加快速方便。

10. 仪表自检及自恢复功能

分析仪表带有智能自检及自恢复功能，软件可以自动探测分析仪的测量异常状态，可以通过自检及自恢复，使分析仪重新恢复最佳工作状态。

11.可靠性

   大方科技已有近千套氨逃逸在线分析系统在不同工况条件下运行，累积了丰富的经验，经过四代系统的迭代与完善，成功开发稳定可靠的第四代近位抽取式高精度脱硝氨逃逸在线分析系统。