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NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀

产地: 美国
型号: NIE-4000 (M)
样本: 下载
报价: 面议
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产品介绍

IBE离子束刻蚀系统

NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品概述

  NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。用于离子束系统(或称离子铣系统)的样片夹具可以支持±90°倾斜、旋转、水冷和背氦冷却。
  NANO-MASTER技术已经展示了可以把基片文库保持在50°C以内的能力。通过倾斜和旋转,可以刻蚀出带斜坡的槽,并且改善了对侧壁轮廓和径向均匀度的控制。
  不同的选配项可以用于不同的网格配置以及中和器。溅射选配项可以支持对新刻蚀金属表面的涂覆,以防氧化。此外,还可以选配单晶圆自动上下片功能。


NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品特点

  • 优化的14”立方的电抛光不锈钢腔体

  • 水冷±90°自动倾斜旋转基片夹具

  • 带不锈钢气体管路及气动截止阀的MFC

  • 直流离子源1cm-16cm

  •  6”基片的刻蚀均匀度±1.2%

  •  能够控制基片温度在50°C以内

  •  26”x44”占地面积的不锈钢柜体,非常适用于百级超净间

  •  基于计算机的全自动工艺控制,菜单驱动

  •  LabVIEW友好用户界面

  •  EMO和安全互锁


NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品选配

  • 光谱终点监测系统

  • 背氦冷却

  • 21”立方的电抛光不锈钢腔体

  • 自动上下片

  • 1200L/Sec涡轮分子泵

  • 冷泵配置

  • 增加MFC用于反应气体实现RIBE

  • 栅格式RFICP离子源

  • 中空阴极或灯丝中和器

  • 溅射源用于钝化层沉积


NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品应用:

  • III-V族光学元件

  • 激光光栅

  • 高深宽比的光子晶体刻蚀

  • SiO2,Si和金属的深槽刻蚀


典型用户

用户单位

采购时间

采购数量

西安光机所

2012/09/01

1

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工商信息

企业名称

那诺-马斯特中国有限公司

企业信息已认证

企业类型

私营

信用代码

64640111

成立日期

2015-04-17

注册资本

10000港币

经营范围

致力于薄膜工艺应用,包括薄膜沉积、刻蚀、兆声无损清洗技术

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那诺-马斯特中国有限公司为您提供那诺-马斯特NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀,那诺-马斯特NIE-4000 (M)产地为美国,属于其它行业专用,除了NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供NIE-3500 (MC) 离子束清洗系统、NIE-3000 (C) 离子束清洗系统、NIE-3500 (AC) 全自动离子束清洗系统,那诺-马斯特中国客服电话400-860-5168转3569,售前、售后均可联系。
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