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核心参数
产地类别： 进口
原子层沉积技术
NLD-4000（ICPM）PEALD系统概述：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
NLD-4000（ICPM）PEALD系统特点：NLD-4000（ICPM）是一款紧凑型独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计，并提供了强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-4000（ICPM）系统提供12”的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖，非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
NLD-4000（ICPM）PEALD系统选配：NLD-4000（ICPM）系统的选配项包含自动L/UL上下载(用于6”基片)，臭氧发生器，等等。
NLD-4000（ICPM）PEALD系统应用：
Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3，etc
Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS应用.
Nano laminates纳米复合材料
NLD-4000在6”晶圆片上的均匀性数据
周期：100个周期(TMA + H2O)
均匀度：0.36%
温度：200°C
折射率：1.68
周期：300个周期（TMA + H2O）
均匀度：0.27%
温度：200°C
折射率：1.67
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原子层沉积NLD-4000（ICPM）的使用方法?
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企业名称
那诺-马斯特中国有限公司
企业信息已认证
企业类型
私营
信用代码
64640111
成立日期
2015-04-17
注册资本
10000港币
经营范围
致力于薄膜工艺应用，包括薄膜沉积、刻蚀、兆声无损清洗技术
那诺-马斯特中国有限公司
公司地址
上海市徐汇区虹梅南路126弄翡翠别墅23号
客服电话
公司名称： 那诺-马斯特中国有限公司
公司地址： 上海市徐汇区虹梅南路126弄翡翠别墅23号 联系人： 吴先生 邮编： 200237 联系电话： 400-860-5168转3569
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