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核心参数
产地类别： 进口
最小线宽： 2um
电子束直径： 1um
束流电压范围： 30kV
自21世纪以来，由半导体微电子技术引发的微纳米加工时代依赖于微纳米尺度的功能结构与器件，实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术。传统的光刻工艺需要设计定制掩膜版，而激光直写光刻技术无需掩膜工序，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案器件；此外，激光直写光刻技术也突破了曝光尺寸和效率的限制，使其作为一种先进的微纳加工制作技术，在许多高新技术领域有着重要的应用。
台式无掩膜激光直写光刻系统打破了市面上传统激光直写设备高昂价格壁垒，是现阶段市面上高性价比的一款先进的激光直写光刻系统；采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便，不仅具有无掩膜直写系统灵活性，而且还具有高刻写效率，写场范围大，操作成本低，多种光学校准补偿等特点，从成本、性能上均可以取代传统微纳加工工艺中传统光刻机的功能.
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