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美国SOC公司首席科学家到访北京安洲并举办学术研讨会

北京安洲

2014/05/28 11:34

阅读:631

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    美国SOC公司首席科学家Jafolla博士及国际销售经理Zemlan先生应邀将于本月底到访我司,并将在随后的几天内与我司协同举办学术研讨会,期间Jafolla博士和Zemlan先生将与相关客户进行技术交流,主要内容为高光谱成像技术的最新发展与应用以及光学材料的反射率测量领域相关应用。

    Jafolla博士致力于高光谱/空间算法开发利用区域,并将这些技术应用于医疗、农业和工业等高光谱测量领域。他还设计并开发了用于红外反射特性、光学常数及反射率和透射率测量的高端设备。

    美国SOC公司的产品主要包括成像光谱仪和反射率测量仪两大类;其成像光谱仪具有独特的内置扫描设计,大大减轻了整机重量,提高了可操作性。其产品在进入中国市场的很短时间内便获得了广泛认同。

本次交流研讨会主要安排如下:

1、  2014.6.3 下午2:00,协办单位:中科院遥感地球所(大屯路,原遥感所);

2、  2014.6.4 上午9:00,协办单位:中国农业科学院区划所;

3、  2014.6.4 下午2:00,协办单位:国家农业工程信息化工程研究中心;

4、  2014.6.4 下午4:30,协办单位:清华大学;

5、  2014.6.5 上午9:00,协办单位:中国计量科学院。

    现场我们将用SOC710成像光谱仪和SOC410/ET100反射率发射率测量仪进行演示。欢迎感兴趣的研究人员及专家学者前来参加,具体事宜请与我们联系确认。

 

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