2012年8月21日,日立高新技术公司(以下简称为:日立高新)宣布,它已解决了与FEI公司的纠纷,纠纷涉及日立高新聚焦离子束(FIB)设备相关的专利。为了解决由日立高新提出的各种专利侵权案件,FEI想要获得日立高新FIB相关专利许可。基于双方谈判,日立高新同意授予FEI相关专利许可,并最终达成了合理的和可接受的协议条款。
协议条款规定,日立高新将关闭所有未决索赔的法律和行政程序。协议金融的条款包括FEI一次性付给日立高新1500万美元,协议的框架是交叉许可。其他具体和解条款是保密的。
日立高新视其知识产权为极其重要的资源,并将继续尽一切努力保护这些权利。
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