内透镜扫描电镜-离子研磨IM4000联用原理及应用

日立科学仪器

2017/01/16 15:05

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日立SU9000超高分辨冷场发射扫描电镜，达到扫描电镜世界最高二次电子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改进的真空系统和电子光学系统，不仅分辨率性能明显提升，而且作为一款冷场发射扫描电镜甚至不需要传统意义上的Flashing操作，可以高效率的快速获取样品超高分辨扫描电镜图像。

内透镜扫描电镜-离子研磨IM4000联用样品台

不需把样品从SEM截面样品台上取下，直接用离子研磨

不需用导电胶或固定胶固定样品

图片1.jpg

内透镜SEM截面样品座

操作步骤

图片2.jpg

NAND闪存截面观测

左图为NAND闪存切割后直接在内透镜扫描电镜SU9000下的观测结果，右图为同一区域同一条件下，再经过IM4000的氩离子束研磨后的观测结果。研磨前，如箭头所指处，由于堆积了很多其他杂质，以及原貌变形及损伤，可供观测及测量的浮栅的区域十分有限。但经过IM4000离子研磨后，样品截面十分平整干净，整个观测区域都可观测到浮栅及STI（Shallow Trench Isolation)。

IM4000 http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/C138638.htm

关于日立高新技术公司：

日立高新技术公司，于2013年1月，融合了X射线和热分析等核心技术，成立了日立高新技术科学。以“光”“电子线”“X射线”“热”分析为核心技术，精工电子将本公司的全部股份转让给了株式会社日立高新，因此公司变为日立高新的子公司，同时公司名称变更为株式会社日立高新技术科学，扩大了科学计测仪器领域的解决方案。日立高新技术集团产品涵盖半导体制造、生命科学、电子零配件、液晶制造及工业电子材料，产品线更丰富的日立高新技术集团，将继续引领科学领域的核心技术。更多信息敬请关注日立高新官方网站：http://www.hitachi-hightech.com/cn/

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