日立高新场发射扫描电子显微镜SU8220多孔性二氧化硅粉末的观察实例

日立科学仪器

2015/02/26 13:25

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日立高新场发射扫描电子显微镜SU8200系列（HITACHI UHR FE-SEM SU8200 Series，SU8220，SU8230，SU8240）采用日立高新技术公司全新开发的冷场电子枪，即使在低加速电压条件下也能获得较大的束流。使得图像亮度更高，信噪比更好，更稳定的束流无论对图像观察还是分析来说都更加得力。

多孔性二氧化硅粉末因为是具有微孔的非晶体二氧化硅，所以被期待用来制作催化剂载体、吸附剂等产品。由于孔径大小和形态对催化剂本身的效果影响很大，所以使用扫描电子显微镜对其进行观察显得尤为重要。

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上图在观察多孔性二氧化硅粉末样品时使用了减速功能（着陆电压：0.5kV）。从左图（放大倍数：30万倍）可以清晰地看到直径约为100 nm左右的二氧化硅粉末的形态和聚集状态。进一步放大观察倍数后，可以从右图（放大倍数：50万倍）清晰地观察到直径约为2 nm左右的微孔。

像这样使用日立高新场发射扫描电镜SU8220的减速功能，即使是在极低加速电压下，也可以高分辨率观察到样品表面的细微结构。

该产品更多信息请关注: http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/C182052.htm

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