日立高新UHPLC-ChromasterUltra Rs设计理念感想之设计现场责任人

       2013年11月，日立高新在中国推出了最新款UHPLC——ChromasterUltra Rs（简称：CMU），使制药和化学行业的研发部门对超快速、高分离度和高灵敏度分析的终极需求成为现实。

该仪器的特点可概括为：

（1）超快速分析

●可耐受140 MPa的压力，是目前世界最高的耐压水平。

（2）高分离度分析

●新研发的高分离度色谱柱 ，将超高分离度分析带入更高的水平。

●使用日立独创的部件和技术，可实现更好的混合效果和更稳定的溶剂输送。

●二极管阵列(DAD)检测器标配全新流通池，有效抑制了柱外扩散，实现了更高的分离度。

（3）高灵敏度分析

●二极管阵列(DAD)检测器选配的高灵敏度流通池，可获得极高的灵敏度。

●二极管阵列(DAD)检测器，噪音更低，漂移更小，灵敏度更优异。

●自动进样器的多种清洗模式，有效降低了样品残留。

        最近，我们采访了光学技术小组总工程师即此次CMU设计现场负责人--伊藤正人先生，他提出了从CMU设计到最终商品化的感想--“团队精神的重要性”。

        “组成UHPLC团队的分析系统设计部的成员们，是一群具有卓越才干的个性派。针对设计部总负责人河原井先生所提出的设计目标，作为设计现场责任人的伊藤，时刻不忘充分发挥自己的能力。为此，伊藤尽量经常提出建议,开发遇到困难，无法实现所要求的性能时，伊藤都敢于提出自己的想法。 伊藤说：“虽然UHPLC最关注的是速度，但我们认为应该以分离性能为中心。如果未知杂质的峰分析1次就可以实现分离的话，那也只不过是因为缩短了分析时间。我认为通过追求高分离度，必然能获得高灵敏度和高速度。”但是，事情没有那么简单。虽然系统耐受压力从60MPa到80MPa很顺利的通过了，但是刚超过100MPa，就非常难控制。这样看来，似乎140MPa的耐压目标就达不到了。于是团队所有成员马上开始进行重新调整。看来要追求高分离度的话，是任重而道远了。但是，整个团队发挥了最大的力量，推出了前所未有的UHPLC--ChromasterUltra Rs。”

关于日立超高效液相色谱仪 ChromasterUltra Rs，请参考：

http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/C191772.htm

关于日立高新技术公司：

日立高新技术公司，于2013年1月，融合了X射线和热分析等核心技术，成立了日立高新技术科学。以“光”“电子线”“X射线”“热”分析为核心技术，精工电子将本公司的全部股份转让给了株式会社日立高新，因此公司变为日立高新的子公司，同时公司名称变更为株式会社日立高新技术科学，扩大了科学计测仪器领域的解决方案。日立高新技术集团产品涵盖半导体制造、生命科学、电子零配件、液晶制造及工业电子材料，产品线更丰富的日立高新技术集团，将继续引领科学领域的核心技术。

更多信息敬请关注：http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/