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当前位置: 上海昭沅 > 解决方案 > 氮氧化硅薄膜的研究进展

氮氧化硅薄膜的研究进展

2011/03/15 10:34

阅读:691

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应用领域:
发布时间:
2011/03/15
检测样品:
检测项目:
浏览次数:
691
下载次数:
2
参考标准:

方案摘要:

氮氧化硅薄膜材料具有优异的热力学、介电及光学性能 ,在微电子、光学器件等方面有着重要应用。其 主要制备方法包括化学气相沉积、溅射、直接氮化/氧化及离子植入。综述了该类材料的制备方法和应用研究进展 , 并指出了制备方法和应用研究的发展方向。

产品配置单:

分析仪器

TEM用氮化硅薄膜窗口 上海昭沅

型号: RISUN

产地: 美国

品牌: 上海昭沅

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