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高麦电子级硅烷解决方案
硅烷
1857年德国化学家H Buff发现硅烷，在以后的100年左右的时间里硅烷只是少数研究者在实验室里研究的对象。20世纪50年代半导体科技崛起，人们开始考虑硅烷的特性，硅烷开始在电子工业中得到应用。随着一系列新技术的出现或者硅烷开发新产品的成功，硅烷用量急剧增加。进入90年代, 更多新功能器件的问世，其中已大规模开发的有超高速、超大容量计算机芯片、高清晰度平面显示器、高效率低成本太阳能电池、高性能陶瓷发动机零件、各种特异功能的传感器等等，伴随更多更新的器件涌现，硅烷的需求量逐渐增加。
硅烷已成为半导体微电子工艺中使用的最主要的特种气体, 用于各种微电子薄膜制备, 包括单晶膜、微晶、多晶、氧化硅、氮化硅、金属硅化物等。硅烷的微电子应用还在向纵深发展: 低温外延、选择外延、异质外延。不仅用于硅器件和硅集成电路，也用于化合物半导体器件(砷化镓、碳化硅等)。在超晶格量子阱材料制备中也有应用。可以说现代几乎所有先进的集成电路的生产线都需用到硅烷。硅烷的纯度对器件性能和成品率关系极大，更高级的器件需要更高纯度的硅烷(包括乙硅烷、丙硅烷)。
电子工业用硅烷气，对硅烷要求更高，对其中某些杂质的指标要求低于0.05ppm，且硅烷有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量，与氧反应异常激烈，即使在-180℃温度下也会猛烈反应。对硅烷分析难点与指标，高麦具有完整解决方案，使用GM 816、GM 826系列气相色谱仪采用多阀多柱组合形式对硅烷中杂质分析，应用DID放电氦离子化检测器，重复性更好，检出限更低。
图 1：GM 826系列气相色谱仪
图 2：硅烷中常规杂质分析
图 3：硅烷中乙硅烷杂质分析
图 4：硅烷中氯硅烷杂质分析
高麦不仅可提供气相色谱仪，还包括水分析仪、氧分析仪、傅里叶红外光谱仪、色谱配件、预处理工程、防爆小屋等一系列产品及服务，关注高麦微信公众号，带您解锁更多分析解决方案和服务。
高麦 成立于1935年,
在中国、美国、日本、韩国等多个国家设有
技术、研发中心，生产、组装工厂、客户运营中心，
逐步形成以北京为总部，
在武汉、杭州，日照，台湾等地分别设立
技术研发和客户运营中心的生态网络，
全方位的为中国乃至全球客户
打造专属的气体行业解决方案。
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