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集成电路--高纯氯化氢的痕量杂质分析应用
高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料，也可用于金属冶炼，光导通讯和科学研究等领域。
随着大规模集成电路的发展，对氯化氢纯度的要求越来越高，除了应具有99.999%以上的纯度，对其中杂质的含量要求越来越苛刻，尤其要求严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量，以防止硅片加工过程中碳的形成。
之前我国大多从美、日等国进口电子级氯化氢，但近年来，我国电子工业所需的化学气体研制，在技术上已有不少突破和发展。国内也有单位已成功开发出相关的电子级氯化氢产品，但还远不能满足市场需求，市场前景广阔。
①仪器色谱柱脱附氯化氢较慢
②仪器管路设计及材质不太符合氯化氢分析要求
③仪器检测器被污染后不易恢复正常
选用专有技术色谱柱，能够较快脱附氯化氢
管路材质采用EP级316L不锈钢，并经过电化学抛光与钝化处理，不易吸附氯化氢，不与氯化氢反应
氯化氢气体大量流经的管路与阀门上，采用哈氏合金材质，进一步保证相关管路的防腐蚀
气路设计严格控制各路载气流量，反吹流量也进行控制，保障气路平衡
DID检测器采用铂金电极，抗腐蚀，内部腔体结构采用双腔体设计，放电室与电离室分开，减少氯化氢对放电电极的干扰
DID对于甲烷在三个不同范围的线性表现
实测标气（氦标气，含杂质H2、O2+Ar、N2、CH4、CO、CO2均约5ppm），谱图如下：
实测高纯氯化氢样品气，谱图如下：
高麦 成立于1935年,
在中国、美国、日本、韩国等多个国家设有
技术、研发中心，生产、组装工厂、客户运营中心，
逐步形成以北京为总部，
在武汉、杭州，日照，台湾等地分别设立
技术研发和客户运营中心的生态网络，
全方位的为中国乃至全球客户
打造专属的气体行业解决方案。
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