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AEV-11 单源超高真空电子束蒸发装置
| 特长 |
-
AEV-11 是为单原子层和薄膜的制备而设计，可以通过电子束对线状，棒状等材料加热，进行高纯度的蒸镀。
- AEV-11支持足够高的温度可以蒸镀 Fe, Co, Bi, Pt, Ag, Mo, Ta, W, etc. 并可以增加坩埚选项，蒸镀钽和钼。
- AEV-11内置通量检测器与专用调节器结合，方便管理蒸镀速率 。
- 在材料蒸镀过程中，能通过传送装置将样品送到最合适的蒸镀位置，而不破坏超高真空环境。
| 技术参数 |
- 光束调节φ4-20 (工作进程 = 150mm)
- 水冷罩 (水冷: < 30℃ ; 0.5升/分)
- 手动挡板
- 线状; 棒状 (高熔点材料); 蒸发坩埚 (可选)
- 温度: 可达到3300℃
- 标准蒸发速率: 几层/分
- 内置通量检测器 (专用电源装置, AEV-1P-300 可控制蒸发速率)
- 线性运动馈通定位蒸镀样品位置(stroke = 30mm)
- 搭载φ70 ICF 法兰 (内径≥φ34)
- 通过φ34 ICF 法兰更换样品
| 应用领域 |
- 形成一个高纯度单层薄膜和多层膜
- 可用坩埚蒸发各种高熔点金属或棒
- 形成单层或多层外延
-
亚单层薄膜沉积内部通量监测
| AEV-11 可选配件 |
- 坩埚
- 可用于氢原子
- 可用于大型号
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