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简易等离子CVD装置
利用高周波等离子实现的简易等离子CVD成膜装置。
生长室
| 真空腔 | 分批式 φ159×95 |
| 高周波机构 | 500W输出 / 自动控制系统 |
| 样品尺寸 | φ2inch以下 |
| 排气系统 | 机械泵 250l/min |
气体导入系统
| 针阀流量控制 |
| 蝶形阀排气电导率控制 |
| 压力检测器：非稳定行波动磁控管/压力计 |
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