产品简介:高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。
产品型号 | GSL-CKJS-450-B1磁控溅射 | ||
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水) 2、电:AC380V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注氮/氩气(纯度99.99%以上),需自备实验气体气瓶(自带?10mm双卡套接头)及减压阀 4、场地:设备尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上 5、通风装置:需要 | ||
主要特点 | 1、真空度高。 2、可制备多种薄膜,金属、半导体、绝缘体等,应用广泛。 3、体积小,操作简便。 4、清理安装便捷。 5、控制可选一体化触摸屏控制 | ||
技术参数 | 1、主溅射室尺寸:?450×355mm筒形真空室 2、主溅射室真空度:5×10-5Pa 3、永磁靶3套,靶材尺寸φ2″,各靶射频与直流溅射兼容(其中1个靶可溅射铁磁材料),靶与样品距离90-110mm可调 4、三靶共溅,三个靶可共同折向样品中心,距离40-80mm可调 5、基片加热与水冷独立工作,加热炉可与水冷样品台可互换,加热工位最高温度 600℃±1℃ 6、样品尺寸:φ1″ 7、样品台可连续回转,转速5-15转/分 8、基片可加-200V负偏压 9、公转6工位样品台,可一次性安装6片φ1″基片,拆下水冷加热样品台可换上6工位样品台,其中5个工位为自然冷却工位,1个加热工位,加热工位温度 600℃±1℃ | ||
产品规格 | 整机尺寸:1500×900mm×2000mm; | ||
标准配件 | 1 | 电源控制系统 | 1套 |
2 | 真空获得系统 | 1套 | |
3 | 真空测量装置 | 1套 |
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企业名称
沈阳科晶自动化设备有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
210132000055868
成立日期
2003-06-11
注册资本
150
经营范围
切割、研磨、抛光、机床自动化设备及耗材生产与销售;经营本企业自产产品及技术的出口业务和本企业所需的机械设备、零配件、原辅料及技术的进出口业务(但国家限定公司经营或禁止进出口的商品及技术除外)。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动。)
沈阳科晶自动化设备有限公司
公司地址
沈阳市浑南区浑南中路35-27号国际产业园 沈阳科晶自动化设备有限公司
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