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ETD-800型全自动离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。
主机规格:L307mm*W260mm*H260mm
电源规格:220V/50HZ 110V60HZ可选
真空样品室
直径:160mm,高:120mm
定时器
最长时间:3600S
机械泵:2L/S
ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。
特点:
1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;
2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得最佳镀膜效果;
3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;
4. 根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。
型号
ETD-900
主机规格:L360mm*W300mm*H380mm
真空样品室:直径:160mm,高:120mm
溅射面积:Ф50mm
真空指示表
最高真空度:≤ 4X10-2 mbar
离子电流表
最大电流:50mA(100mA)
定时器:最长时间:3600S
微型真空气阀:可连接φ3mm软管
可通入气体:多种
最高电压:-1600 DCV
机械泵:2L/S
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