2024/08/21 10:11
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产品配置单:
伯东离子蚀刻机 IBE
型号: IBE
产地: 日本
品牌: 日本NS
¥150万 - 200万
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本报告详细介绍了 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在制作面阵石英 DNA 芯片模板中的应用。该设备配备 KRI 考夫曼公司的 KDC 160 离子源和 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700,确保了高真空度和刻蚀过程的高均匀性。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的芯片模板表面微结构形貌有利于 DNA 序列样本与芯片模板的吸附耦合,提高了实验效率和准确性。
关键词: Hakuto 10IBE 离子刻蚀机,KDC 160 离子源,Hipace 700 涡轮分子泵,DNA 芯片模板,表面微结构形貌
1. 引言 DNA 芯片技术作为一种高通量、高灵敏度的生物检测手段,在基因表达分析、疾病诊断、药物筛选等领域具有重要应用。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的引入,为 DNA 芯片模板的精确制作提供了有力工具。
2. Hakuto 10IBE 离子刻蚀机概述 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机是一款高性能的刻蚀设备,由上海伯东代理,配备了美国 KRI 考夫曼公司生产的 KDC 160 离子源,以及 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700,确保了设备在高真空条件下的高效运行。
3. 技术优势与应用背景 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机具备干式制程的微细加工能力,适用于多种材料的加工。其物理蚀刻特性使其在不同领域具有广泛的应用潜力。设备的射频角度可任意调整,能够根据需要实现垂直、斜面等多种加工形状。
4. 操作流程与工艺参数 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的操作流程包括样品装载、真空系统激活、离子源激活、刻蚀参数设置和刻蚀过程监控等步骤。工艺参数如离子能量、刻蚀时间、气体流量等对最终的刻蚀效果有直接影响。
5. 应用案例分析 华中某实验室采用 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作面阵石英 DNA 芯片模板,通过优化工艺参数,实现了芯片模板表面微结构的精确控制,从而提高了 DNA 序列样本的吸附耦合效率。
6. 结果与讨论 与传统的光刻及离子束蚀刻技术相比,Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的 DNA 芯片模板在表面微结构形貌上具有明显优势,更有利于 DNA 样本的吸附和耦合,为后续的分子生物学研究提供了有力支持。
7. 结论 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在 DNA 芯片模板制作中展现出了卓越的性能,其高真空度、高刻蚀均匀性以及对表面微结构的精确控制,为生物芯片技术的发展提供了新的技术路径。
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:
基板尺寸 | < Ф8 X 1wfr |
样品台 | 直接冷却(水冷)0-90 度旋转 |
离子源 | 16cm 考夫曼离子源 |
均匀性 | ±5% for 4”Ф |
硅片刻蚀率 | 20 nm/min |
温度 | <100 |
该 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 的核心构件离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 75
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC160 技术参数:
离子源型号 | 离子源 KDC 160 |
Discharge | DC 热离子 |
离子束流 | >650 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 16 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 2-30 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
中和器 | 灯丝 |
伯东离子蚀刻机应用领域
上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国Gel-pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 日本 NS 离子蚀刻机, 比利时 Stratasys 3D 打印机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!
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上海伯东: 罗女士
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