2024/08/21 15:51
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产品配置单:
上海伯东 europlassma 等离子体表面处理仪CD 1000
型号: CD-1000
产地: 比利时
品牌: europlassma
¥150万 - 200万
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方案详情:
上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 是基于低压等离子技术的创新超薄纳米涂层设备. 等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard®. Europlasma 凭借超过 25年的低压等离子体技术经验, 设计和生产真空等离子处理设备, 实现产品疏水 WCA >120°, 亲水 WCA< 10° , 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.
体外诊断IVD(In Vitro Diagnostics),是指在人体之外,通过对人体样本(血液、体液、组织等)进行检测而获取临床诊断信息,进而判断疾病或机体功能的产品和服务,主要分为:生化诊断、免疫诊断、分子诊断、微生物诊断、血液诊断、POCT(即时诊断)等,其中生化诊断、微生物诊断、血液诊断我们还会经常遇到。
IVD增速最快的细分行业当属分子诊断,而分子诊断主要包括核酸诊断和生物芯片技术。核酸诊断主要分为聚合酶链式反应(PCR)和荧光原位夹杂(FISH)。PCR技术目前在分子诊断细分技术中最为成熟且应用最广,其中微流控数字PCR技术是现阶段最先进的。
微流控数字PCR通过微流控芯片来实现高精度控制和反应,微流控芯片材质包括玻璃、PP、PS、PMMA等,为了精准控制液体在微流道中的流动,需要在微流道内做超亲水或疏水涂层。上海伯东Europlasma超亲水涂层Nanofics 10S可以在任何形状的微流控芯片内部流道和表面通过PECVD的工艺沉积保形涂层,厚度从5~500nm不等,这种纳米亲水涂层是永久有效的。
Europlasma涂层技术于性能分类:
Europlasma涂层优势:
广泛的表面功能
经济的单步涂覆工艺
无溶剂全干工艺
无卤素涂层可用
高度可重复工艺
多种气体的优化解决方案
Europlasma设备图片与参数:
Ep等离子设备应用领域:
上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国Gel-pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 日本 NS 离子蚀刻机, 比利时 Stratasys 3D 打印机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!
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上海伯东: 罗女士
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上海伯东 Europlasma 等离子设备用于OK镜表面处理
角膜塑形镜俗称OK镜, 角膜塑形镜采用透气性硬质角膜接触镜材料, 即通常所说的RGP材料制作的眼镜片, RGP是英文Rigid Gas Permeable的缩写, 即“透气性硬质材料”. 它是在不透气的硬质材料PMMA基础上发展起来的. 上海伯东Europlasma等离子表面处理设备在真空环境下对OK镜进行表面处理, 可以实现多种效果和改善.
材料
2024/08/21
上海伯东 Europlasma 等离子表面处理技术用于细胞培养皿超亲水处理
现阶段常用的细胞培养皿亲水处理(TC处理)方式是电晕处理(Corona)和等离子处理(Plasma). 电晕Corona 处理的优点是处理速度快(单次处理时间几秒钟)和自动化操作, 缺点是处理效果不均匀、时效性短等问题, 适合中低端的培养皿的表面处理. 等离子 Plasma 处理的优点是处理效果均匀、时效性长, 缺点是人工操作和处理速度慢(单次处理时间大于15min). 因市场需求的变化, 客户对于细胞培养皿的亲水性要求越来越高, 要求表面接触角 WCA<20°, 时效性需要保持3年以上.
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2024/08/21
上海伯东 Europlasma 疏水涂层用于 ITO 微流控芯片表面处理
上海伯东某客户设计了一种基于介电润湿 (Ew0D) 原理的数字 ITO 玻璃微流控 PCR 微芯片, 并实现了对芯片不同区域的温度控制以满足 PCR 所需的要求. 基于数字微流控技术的 PCR 微芯片系统由一个双基板结构的数字微流控芯片, 芯片的驱电路以及温度控制组件构成. 实现驱动样品液滴在该装置上运动至不同温度的反应区域, 在不同的反应区域满足的 PCR 反应所需的变性, 退火和延伸各阶段所需的温度, 继而实现 PCR 扩增.
半导体
2024/08/21
上海伯东美国 Ambrell 汽车铝管组件感应钎焊应用
上海伯东某生产汽车零部件客户, 一直使用焊枪钎焊汽车零件, 因工艺要求的提高, 需要更快, 更精确的加热过程. 工艺的速度, 一致性和效率是客户决定选择 Ambrell 的原因之一. 最终采用上海伯东带有定制设计的多匝线圈 Ambrell EASYHEAT 10 kW, 150-400 kHz 感应加热电源.
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2024/08/21