伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜

上海伯东

2020/10/16 10:44

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伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta₂O₅薄膜

为了获取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射沉积技术镀制 Ta₂O₅薄膜进行研究.

其系统工作示意图如下：

该研究所的离子束溅射镀膜组成系统主要由溅射室、双离子源、溅射靶、基片台等部分组成.

其中双离子源中的一个离子源适用于溅射靶材, 另个离子源是用于基材的预清洗.

用于溅射的离子源采用伯东的 KRI 聚焦型射频离子源 380, 其参数如下:

伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数：

射频离子源型号	RFICP 380
Discharge 阳极	射频 RFICP
离子束流	>1500 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	30 cm Φ
离子束	聚焦
流量	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	39 cm
直径	59 cm
中和器	LFN 2000

推荐理由：

聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染

用于预清洗的离子源是采用伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:

离子源型号	霍尔离子源 eH3000 eH3000LO eH3000MO
Cathode/Neutralizer	HC
电压	50-250V 50-300V 50-250V
电流	20A 10A 15A
散射角度	>45
可充其他	Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
气体流量	5-100sccm
高度	6.0“
直径	9.7“
水冷	可选

其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1×10^-5Pa, 经推荐采用伯东分子泵组 Hicube 80 Pro, 其技术参数如下：

进气法兰

氮气抽速
N2,l/s

极限真空 hpa

前级泵

型号

前级泵抽速
m3/h

前级真空
安全阀

DN 40 ISO-KF

< 1X10-7

Pascal 2021

AVC 025 MA

运行结果：

伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术可以制备不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta₂O₅薄膜.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
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