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上海伯东德国普发Pfeiffer 涡轮分子泵成功应用于磁控溅射

2015-01-08 10:21

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资料摘要：

上海伯东代理德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700 成功应用于宁波某研究所磁控溅射（Megnetron Sputtering）系统.宁波某研究所磁控溅射（Megnetron Sputtering）系统用于光刻胶片上溅金属铬,铜,钛.其中材料生长腔工作真空度要求 < E-7 hPa,能做到4英寸片,3靶位,可实现编程镀膜.材料生长腔对涡轮分子泵的要求较高,老师在考量了德国普发 Pfeiffer Hipace 700 涡轮分子泵和爱德华 Edwards STP603 分子泵后,因为对分子泵的压缩比要求较高,最终选择了德国普发 Pfeiffer 分子泵

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