中国第一届ALD学术交流会即将在上海隆重举行

北京正通远恒

2010/09/17 12:05

阅读：1329

尊敬的老师，您好！

我们非常真诚的邀请您及您的科研团队参加于2010年10月18日-10月19日在上海举办的第一届ALD学术交流会。

   这次大会是由芬兰PICOSUN公司和复旦大学主办，南京大学、中国科学院上海技术物理研究所、上海纳米技术及应用国家工程研究中心和北京正通远恒科技有限公司联合承办，这次会议我们非常荣幸得邀请到ALD技术方面很多资深的教授及研究者来做报告，旨在方便中国优秀科研工作者交流分享ALD技术的最新研究进展和相关领域的研究成果。

部分会议报告人简介：
Dr. Tuomo Suntola——ALD技术发明人；
张卫教授——复旦大学微电子学系系主任、复旦-Novellus互连研究中心主任；
Prof. Mikko Ritala——赫尔辛基大学ALD研究小组骨干；
李爱东教授——南京大学化学法沉积制膜实验室、南京大学材料科学与工程系固体微结构物理国家重点实验室博士生导师；
黎微明博士——最早从事ALD工艺研究的华人，有超过15年的ALD技术研究经验，拥有10项ALD技术的应用专利。

    ALD技术背景介绍
    ALD技术于1974年由芬兰PICOSUN公司的董事Tuomo Suntola博士发明，国外已经实现产业化，比如英特尔公司研发的45/32纳米芯片中的高介电薄膜。由于该发明及其在ALD研究方面的杰出贡献，Tuomo Suntola博士2004年荣获欧洲SEMI奖。

    我们热切的希望能够给您提供一个与专家和同行交流的平台。欲知会议详情请与李小姐联系，谢谢您的支持！

   报名方式：您可以通过邮件或者电话与李晓明小姐联系，报名参会。
   联系电话：010-64415767-21，010-64448295-21，13810030243。
   邮箱：xmli@honoprof.com