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核心参数
产地类别： 进口
衬底加热： 衬底加热:1000 ℃(激光加热器)；850℃(辐射加热器)
衬底尺寸： 1厘米× 1厘米(激光加热器) ; 直径2”(辐射加热器)
真空室尺寸： 12 " /18 "直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180型号)
产品简介
激光 MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电 子衍射（RHEED）的联合应用，用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。 正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数 RHEED 通常在高真空（<10 -6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD 采用较高的压力，差动抽气是必要 的，维持 RHEED 电子枪的工作压力，同时保持 500 mTorr 的 PLD 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束 的影响是至关重要的。Neocera 激光 MBE 系统可以添加客户定制系统，比如超高真空激光衬底加热器，用于集成原位分 析系统（XPS/ARPERS 等）。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS等）。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS 系统。
我们会根据客户需求提供优质的脉冲激光沉积方案和专业的技术服务。
产品特点
独立的MAPLE PLD系统
有机和聚合物薄膜的沉积
在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED)，射频/直流溅射和直流离子源
Load-lockable衬底阶段
与XPS分析系统集成，直接将晶片从PLD系统转移到分析系统
技术参数
1.PLD腔尺寸:12 " /18 "直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180型号)
2.衬底尺寸:1厘米× 1厘米(激光加热器) ; 直径2”(辐射加热器)
3.衬底加热:1000 ℃(激光加热器)；850℃(辐射加热器)
4. 目标旋转：直径 6 x 1 "或3 x 2 "
5.工业气体:氧气和氮气100 SCCM的mfc
6. 软件:Windows 7/Labview 2013
7. RHEED电子枪与软件:a.射柱电压：30keV；b.运行压力:500 mTorr/氧；c. RHEED屏幕/快门。d. CCD摄像机和数据采集软件
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企业名称
北京正通远恒科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105001988017
成立日期
2001-03-09
注册资本
30
经营范围
科技产品的技术开发、技术培训、技术服务、技术咨询;信息咨询(不含中介服务);市场调研;财务咨询;零售仪器仪表、机械设备、电器设备、化工产品(不含一类易制毒化学品)、建筑材料、五金交电、计算机及配件、百货;承办展览展示;组织文化艺术交流。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
北京正通远恒科技有限公司
公司地址
北京市朝阳区胜古中路2号院7号楼A座611室
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