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Semicon China 2014展会取得圆满成功
SEMICON China 2014展会于2014年3月18日至20日在上海新国际博览中心举办，我司取得了圆满成功，收到了非常好的效果。
ALD - 薄膜制备的优胜者
作为一种表面控制的、自限制性的化学气相沉积方法，ALD既可以在大面积平面衬底表面也可以在复杂的纳米尺度衬底表面（如超高深宽比沟槽与复杂弯曲的多孔材料）上进行100%均匀性、保形性、无缺陷、裂痕与针孔的薄膜生长。
生长的薄膜种类繁多，除氧化物、氮化物、硫化物、氟化物以及纯金属单质薄膜外，还包括纳米叠层，梯度层，复合氧化物和掺杂薄膜等。它们的应用范围十分广泛，如半导体与集成电路、MEMS/NEMS、传感器、光学与光电器件、催化剂、清洁与可再生能源、防腐蚀保护层、装饰涂层与抗变色涂层、水纯化与创新型的包装材料等。
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