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当前位置： 北京正通远恒 > 原子层沉积设备 > 原子层沉积系统（ALD）R-200 Standard

原子层沉积系统（ALD）R-200 Standard

品牌： Picosun
产地： 芬兰
型号： R-200 Standard
报价： ¥100万 - 200万

核心参数

产地类别： 进口

衬底尺寸： 50 – 200 mm /单片

工艺温度： 50 – 500 °C, 450 °C（加等离子）

前驱体数： 6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上plasma管路共7根独立源管线）

重量： 350kg

尺寸(W x H x D)： 146 cm x 146 cm x 84 cm（小）

均匀性： >99%

产品介绍

PICOSUN® R-200标准型ALD系统适用于数十种应用领域的研发，如IC组件、MEMS器件、显示器、LEDs、激光器，以及3D物品，如透镜、光学器件、首饰、硬币和医用植入物。

底尺寸和类型


50 – 200 mm /单片

156 mm x 156 mm 太阳能硅片

3D 复杂表面衬底（使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳）

粉末与颗粒（配备扩散增强器）

多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品

工艺温度

50 – 500 °C, 450 °C（加等离子）

基片传送选件

气动升降（手动装载）

预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）

前驱体

液态、固态、气态、臭氧源、等离子体

6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上plasma管路共7根独立源管线）

重量

350kg

尺寸（ W x H x D)）

146 cm x 146 cm x 84 cm（小）

189 cm x 206 cm x 111 cm（大）

选件

PICOFLOW™扩散增强器，集成椭偏仪，QCM， RGA，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集

成（用于惰性气体下装载）。

工艺

Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2,AlN, TiN，金属如Pt或Ir


售后服务
产品货期： 90天
整机质保期： 1年
培训服务： 安装调试现场免费培训
维修响应时间： 2天内
工商信息

企业名称

北京正通远恒科技有限公司

企业信息已认证

企业类型

信用代码

110105001988017

成立日期

2001-03-09

注册资本

30

经营范围

科技产品的技术开发、技术培训、技术服务、技术咨询;信息咨询(不含中介服务);市场调研;财务咨询;零售仪器仪表、机械设备、电器设备、化工产品(不含一类易制毒化学品)、建筑材料、五金交电、计算机及配件、百货;承办展览展示;组织文化艺术交流。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)

联系方式

北京正通远恒科技有限公司

公司地址

北京市朝阳区胜古中路2号院8号楼F座309室

客服电话

400-860-5168转0338
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北京正通远恒科技有限公司为您提供Picosun 原子层沉积系统（ALD）R-200 Standard，PicosunR-200 Standard产地为芬兰，属于进口原子层沉积设备，除了 原子层沉积系统（ALD）R-200 Standard的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多原子层沉积设备,北京正通远恒客服电话400-860-5168转0338，售前、售后均可联系。
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公司名称： 北京正通远恒科技有限公司

公司地址： 北京市朝阳区胜古中路2号院8号楼F座309室 联系人： 刘敏 邮编： 100029 联系电话： 400-860-5168转0338

主营产品：

分子互作分析仪 纳米压痕仪、划痕仪 外延系统 其它无损设备 激光拉曼光谱(RAMAN) 爆炸品检测专用仪器 离子检测仪 原子层沉积设备

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