看了无掩模光刻机/直写光刻机的用户又看了
SPS 光刻机 POLOS μ
主要特征:
1、写入分辨率低至2 μm
2、可调整的写作领域和具有可互换目标的解决方案
3、与CAD文件或位图图像兼容
4、与g线光刻胶兼容
5、兼容多种基材(硅,玻璃,金属,塑料等)
6、兼容任何样品尺寸达4英寸的晶片
7、相机反馈以进行对准步骤
8、由于没有硬掩模,节省了时间和金钱
9、将设计直接覆盖在样品上的直观对齐方法
10、占地面积小的桌面
11、非常适合微电子,2D材料,微流体,光电,opty或任何其他2D微加工应用的技术
规格参数:
1、光源曝光:435 nm; 对准:525 nm
2、最小特征尺寸:2至23 μm可调
3、对准分辨率:低至1 μm / cm2
4、最大曝光面积:75 x75 mm2
5、基板尺寸:最大4”晶圆
6、系统尺寸:W:(36厘米); D:(36厘米); 高:(60厘米)
7、多合一PC:Win 10、24英寸全高清
8、SFTprint软件:机器控制,步进重复,自动剂量测试,缝合,对齐
9、SFTconverter:将标准格式(gdsii,dxf,cif,oas)转换为位图图像。 随附的CAD软件
产品货期: 200天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
POLOS激光直写光刻机POLOS µ的工作原理介绍
激光直写光刻机POLOS µ的使用方法?
POLOSPOLOS µ多少钱一台?
激光直写光刻机POLOS µ可以检测什么?
激光直写光刻机POLOS µ使用的注意事项?
POLOSPOLOS µ的说明书有吗?
POLOS激光直写光刻机POLOS µ的操作规程有吗?
POLOS激光直写光刻机POLOS µ报价含票含运吗?
POLOSPOLOS µ有现货吗?
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