公司介绍:
来自日本的NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发经验,通过与全球各大同步辐射,阿秒科学,高强度物理学等领域的科研学者紧密合作,积累了大量的客户群体,以雄厚的实力赢得了优秀的市场口碑,其独特的设计与制造技术在业内享有很高的评价。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV,X射线领域给予客户在研发上最大的帮助。
产品介绍:
用于X射线分析的分辨率评估图的事实上的标准
优点
这款超精细、高分辨X射线测试卡作为NTT-AT的拳头产品,更是成为了行业标准、业界标杆,被广泛应用于X射线显微、X射线微束分析和X射线成像等需要超高分辨率的X射线分析应用。具有高耐X射线辐射、 超清晰图案和低边缘粗糙度等特点。基于SiC膜的Ta吸收体图样经验证结构非常准确,可以为您的X射线分析系统的评估带来非常清晰的图像。
您不尝试一下这事实上标准的性能吗?
特点:
有三种X射线图可应用于各种方面:标准型、高分辨率和高对比度型以及超高分辨率型。可为用户的系统定制图案布局和基板尺寸。
项目 | 标准型 XRESO-100 | 高分辨率型 带较厚Ta 吸收体 XRESO-50HC | 新!! 超高分辨率 XRESO-20 | |
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基板 | 材料、尺寸 | Si 10平方毫米 | ||
厚度 | 1毫米 | 1毫米 | 0.625毫米 | |
膜 | 材料、 厚度 | Ru 20纳米 SiN 2微米 | Ru 20纳米 SiC 200纳米 SiN 50纳米 | Ru 20纳米 SiC 200纳米 SiN 50纳米 |
区域 | 1平方毫米 | 1平方毫米 | 1平方毫米 | |
对齐 | 基板中间 | 基板中间 | 基板中间 | |
图案 | 吸收体、 厚度 | Ta 1微米 | Ta 500纳米 | Ta 100纳米 |
最小图案 尺寸 | 100纳米 | 50纳米 | 20纳米 放射形图案 | |
图案区域 | 250微米×350微米 | 300平方微米 | 300平方微米 |
X射线图(高分辨率图)的略图
XRESO-20是具有20纳米最小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号最近被应用于超高分辨率X射线成像系统。
图的SEM图像 | 图案布局 |
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100纳米孔 | ①放射形图案 ③④孔图案 ⑤⑥⑦⑧L&S图案 |
50纳米孔 | |
20纳米图案 | 20纳米放射形图案 |
XRESO-20是具有20纳米最小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号最近被应用于超高分辨率X射线成像系统。
图案布局 |
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XRESO-50HC提供成本合理的50纳米高分辨率。其已被应用于X射线微光束辐射、X射线显微镜和X射线相干成像等各种用途。
图的SEM图像 | 图案布局 |
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放射形图案 相应于图案布局的点(1) | |
50纳米 L&S 相应于图案布局的点(2) | |
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 不限人次交货时现场培训
免费仪器保养: 质保期内免费保养
保内维修承诺: 质量保证期内提供保修(人为破坏因素、遇不可抗力或使用不当除外)
报修承诺: 24小时内做出响应,提出解决方案,如有必要,48小时内上门
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