速普仪器【SuPro】等离子清洗仪IC150
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¥24万

9.3

速普仪器

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IC150

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中国大陆

  • 金牌
  • 第7年
  • 生产商
  • 营业执照已审核
核心参数

产地类别: 国产

  • 泵组: 进口无油隔膜泵
  • 真空抽速: ≥0.7m3/h
  • 极限真空度: ≤50Pa
  • 抽真空时间: ≤2min
  • 真空规: 进口皮拉尼真空计
  • 样品腔室尺寸: φ150*90mm不锈钢腔室
  • TEM样品杆转接: 适用于各品牌样品杆转接可选
  • 射频源: 靶源尺寸φ80mm
  • 清洗功率范围: 10-50W可调,13.56MHz
  • 工作压强: 60-150Pa
  • 气体控制: 恒定压强闭环控制,空气无需外接气源
  • 操作方式: 触摸屏控制,一键式操控

透射电镜等离子清洗仪IC150概述

       采用进口品牌高性能真空干泵产生一个洁净的< 50 Pa的真空压强,通常抽真空时间小于2-3分钟。采用高品质恒功率RF射频电源,确保工艺重复性。感应射频放电模式也大幅降低等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。特别适用于对温度或轰击敏感的TEM或SEM样品进行有机污染物清洗、积碳清除、表面活化、亲水化等用途。触摸屏自动控制,即插即用。


等离子清洗仪IC150有机污染物清洗原理

       IC150 采用RF射频远程等离子源作为核心部件。离子源通过RF射频电源将通入的空气离化,离化后产生的O活性自由基、O3臭氧及氧等离子体等强氧化粒子与样品表面有机污染物(碳氢化合物)发生化学反应,生成CO2,CO,H2O并被真空泵组抽出,最终实现样品表面有机污染物清洗之目的。


等离子清洗仪IC150表面改性亲水化原理

       离子源通过RF射频电源将通入的空气离化,离化后产生的等离子体与样品表面作用,提高样品表面能,实现样品表面由疏水性到亲水性的转变。


等离子清洗仪IC150处理样品前后实际效果对比

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  • 采用磁控溅射手段,通过磁控阴极+专用直流电源方式对样品喷金处理,有较低的离子轰击损伤和温升效应;另外,包括原位等离子清洗源选配模块,能够实现样品表面有机污染物清洗和活化;此外,还有操作简单,触控面板界面,一键式操作等特点。

    能源/新能源 2018-12-05

  • SEM/TEM电镜样品对于前处理有如下三点应用需求:1.等离子清洗;2.等离子活化;3.高真空存储。 针对扫描电镜领域,导电差的样品易于在场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和聚焦离子束扫描电子显微镜(FIB-SEM)中形成“积碳”的问题;以及在透射电镜领域,有机污染物影响高分辨成像及STEM成像产生“白框”碳污染的问题,可以通过RF射频离子源在样品放入扫描电镜或透射电镜观察表征之前,对样品进行真空等离子清洗的工艺来减轻甚至消除积碳影响。 离子清洗的工作原理为:RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部;只有部分电中性的活性氧原子由于气压差的作用源源不断地被“挤压”进入到样品腔室内,与样品表面残留的有机污染物发生化学反应,生成CO2,CO,H2O并被真空泵组抽出;最终实现样品成像无积碳之目的,同时提高成像分辨率及衬度。 离子活化原理与离子清洗原理类似,RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部。只有部分电中性的活性氧原子由于气压差的作用源源不断地被“挤压”进入到样品腔室内,与样品表面发生作用,提高表面能使之亲水(表面氧原子与水形成氢键,使后者有序平铺)。但样品的表面能量高,处于不稳定状态,故亲水效果不会维持太久(~几十分钟)。 高真空存储电镜样品及透射样品杆的原理为:真空泵组选用无油分子泵和无油隔膜泵,可以避免油污染的影响。并且由于采用分子泵+隔膜泵两级真空系统设计方案,系统能够实现高本底真空度,将样品表面残留气体及污染物抽走,避免样品前处理导致的二次污染问题。

    半导体 2018-01-16

  • 采用磁控溅射手段,通过磁控阴极+专用直流电源方式对样品喷金处理,有较低的离子轰击损伤和温升效应;另外,包括原位等离子清洗源选配模块,能够实现样品表面有机污染物清洗和活化;此外,还有操作简单,触控面板界面,一键式操作等特点。

    能源/新能源 2018-12-05

  • SEM/TEM电镜样品对于前处理有如下三点应用需求:1.等离子清洗;2.等离子活化;3.高真空存储。 针对扫描电镜领域,导电差的样品易于在场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和聚焦离子束扫描电子显微镜(FIB-SEM)中形成“积碳”的问题;以及在透射电镜领域,有机污染物影响高分辨成像及STEM成像产生“白框”碳污染的问题,可以通过RF射频离子源在样品放入扫描电镜或透射电镜观察表征之前,对样品进行真空等离子清洗的工艺来减轻甚至消除积碳影响。 离子清洗的工作原理为:RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部;只有部分电中性的活性氧原子由于气压差的作用源源不断地被“挤压”进入到样品腔室内,与样品表面残留的有机污染物发生化学反应,生成CO2,CO,H2O并被真空泵组抽出;最终实现样品成像无积碳之目的,同时提高成像分辨率及衬度。 离子活化原理与离子清洗原理类似,RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部。只有部分电中性的活性氧原子由于气压差的作用源源不断地被“挤压”进入到样品腔室内,与样品表面发生作用,提高表面能使之亲水(表面氧原子与水形成氢键,使后者有序平铺)。但样品的表面能量高,处于不稳定状态,故亲水效果不会维持太久(~几十分钟)。 高真空存储电镜样品及透射样品杆的原理为:真空泵组选用无油分子泵和无油隔膜泵,可以避免油污染的影响。并且由于采用分子泵+隔膜泵两级真空系统设计方案,系统能够实现高本底真空度,将样品表面残留气体及污染物抽走,避免样品前处理导致的二次污染问题。

    半导体 2018-01-16

典型用户
用户单位 采购时间
Sejin Science 2023-08-22
中科院上海微系统所 2023-08-25
东莞市材料基因研究所 2023-10-25
新疆大学 2023-11-02
中材新材料研究院 2023-11-03
内蒙古工业大学 2023-11-27
HW 2023-12-14
深圳信息职业技术学院 2024-01-05
胜科纳米 2024-01-23
深圳大学 2024-02-05
长沙理工大学 2021-10-29
东南大学 2021-06-17
大连理工大学 2021-04-30
山东省科学院材料研究所 2020-11-05
北京科技大学 2020-06-15
南开大学 2020-04-30
中科院微生物所 2019-12-30
售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 5人次以内培训

免费仪器保养: 6个月一次

保内维修承诺: 免费维修更换零件

报修承诺: 24小时到达现场并维修

  • 现象描述: 样品在电镜中长时间成像,或进行EDX成分分析过程中,可能会在测试区域形成“黑色方框”,这通常是由聚合物碳沉积引起。 成因分析: 当高能电子撞击样品表面时,它们产生大量低能二次电子(SE)。SE由于其较低的速度而与环境污染物气体分子具有高得多的相互作用面。它们分解有机污染,并在成像区域周围造成“碳沉积”(碳氢化合物或烃)。当表面被薄层烃覆盖时,二次电子产率将降低。 负面影响: 由于积碳影响,电子暴光区域将比周围的未曝光区域更暗,减少了电子显微镜图像中的材料对比度。研究表明,导电性越好,二次电子产额越高的样品,其发生碳沉积也越快。原因在于,对于这类观察样品,表面碰撞出SE越多,所以导致相互作用在表面生成的烃也越多越快。甚至随碳积影响,表面会累积电荷导致无法清晰成像。更有甚者,碳氢化合物污染严重的时候,可能会导致电子光学成像部件及探测器等污染,使电子束及成像漂移。 RPS50 SEM扫描电镜原位等离子清洗仪适用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗及样品积碳清洗。采用远程RF射频离子源清洗,高效、低等离子体轰击损伤。核心部件采用国际一流品牌,保证设备具有优异的质量与稳定可靠性。 RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部, O活性自由基与SEM腔室内碳氢化合物反应生成CO2,CO及H2O等被真空机组抽走,最终实现SEM腔室/样品积碳清洗之目的,同时提高SEM成像分辨率及衬度,缩短电镜抽真空时间。

    3533MB 2018-04-16
  • 进口品牌涡轮分子泵和无油隔膜泵的完美配合产生一个洁净的&lt;3*10-6 Torr的真空压强。特别适用于TEM 样品杆的真空检漏和样品等离子体清洗用途。采用远程射频离子源清洗,高效、低等离子体轰击损伤。标配两路清洗气体流量控制器,触摸屏控制,即插即用。

    4542MB 2018-01-16
问商家

速普仪器电镜制样IC150的工作原理介绍

电镜制样IC150的使用方法?

速普仪器IC150多少钱一台?

电镜制样IC150可以检测什么?

电镜制样IC150使用的注意事项?

速普仪器IC150的说明书有吗?

速普仪器电镜制样IC150的操作规程有吗?

速普仪器电镜制样IC150报价含票含运吗?

速普仪器IC150有现货吗?

速普仪器【SuPro】等离子清洗仪IC150信息由深圳市速普仪器有限公司为您提供,如您想了解更多关于速普仪器【SuPro】等离子清洗仪IC150报价、型号、参数等信息,速普仪器客服电话:400-860-5168转4135,欢迎来电或留言咨询。
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