曝光模式: 投影式
产地类别: 进口
分辨率: 5nm
光源: Diode laser with 405 nm or Krypton laser with 413 nm
光强均匀性: 60nm
曝光面积: 200 x 200 mm2 / 400 x 400 mm2
看了无掩模光刻机/直写光刻机的用户又看了
DWL2000和DWL4000 激光光刻系统是快速及高灵活性的高分辨率图型发生器,用于制作掩膜版和可直接于产品上进行激光直写,
写入面积高达200x200 mm2,与400x400 mm2 。在二维曝光技术表现出色,分辨率为低至500nm,可选配自动加载系统,
除了高分辨率的二維图型之外,还提供灰度曝光模式,可在厚光刻胶中创建复杂的2.5D结构。
应用领域包括:MEMS、BioMEMS,微光学、集成电路(ASIC)、微流体、传感器。
关于我们
Stella International
Stella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司,共同为客户带来综合应用效能,同时建立紧密的合作伙伴关系。
为了服务客户更广泛多元的应用领域,Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心,以海德堡原厂伙伴技术支援,提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究,这些年来已服务许多的国内知名大学,研究院所与企业前期研发单位。
总代理 品牌介绍
德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备
HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM
德国海德堡设备(Heidelberg Instruments),创始于1984年,在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。
应用范围包括:微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。
销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点,用于研发、快速原型制作和工业生产系统,是企业研究和发展的伙伴。
保修期: 面议
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 有
免费培训: 面议
免费仪器保养: 面议
保内维修承诺: 面议
报修承诺: 面议
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