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在科研中,很多用户需要用到光栅或点阵这些周期性的结构。有时用户不需要研究微纳米加工工艺,这样如果能花费低廉的价格买到这些成品将十分方便,只要接着从事后续的工作就可以了;有的用户自已拥有微纳米加工设备及经验,但纳米量级的尺寸要采用电子束曝光的方法来进行光刻,若有效面积超过1平方厘米,占机时间会很长,并需要调整电子束光刻及干法刻蚀工艺来优化成品。
鉴于此,我们向用户提供光栅及点阵的纳米结构成品。衬底材料为硅单晶,可广泛应用于各类科学研究。
产品类型:
标准模板一
○ 光栅纳米结构模板 (线条+间距)
○ 二维纳米模板(矩形或六边形)
标准模板二
○ 光栅结构
○ 柱状点阵模板
○ 孔阵模板
2x2cm2模板
四英寸模板
六英寸模板
标准模板一
我们可提供纳米级微结构,衬底材料为硅单晶,广泛应用于科学研究。批量生产,质量有保证,且性价比高。
产品精度:
线宽/深度:±15%
周期精度:优于0.5%
衬底宽度和高度误差:± 0.2 mm
衬底厚度:0.675 ± 0.050 mm
具体规格如下表所示:
光栅纳米结构模板 (线条+间距) Linear Nanostamps (line+space)
序号 | 周期 | 沟槽深度 | 占空比 ① | 线宽 ② | 样片尺寸③ |
1 | 139 nm | 50 nm | 50% | 69.5 nm | 12.5×12.5×0.7 mm |
2 | 139 nm | 50 nm | 50% | 69.5 nm | 25×25×0.7 mm ⑤ |
3 | 278 nm④ | 110 nm | 50% | 139 nm | 12.5×12.5×0.7 mm |
4 | 416.6 nm | 110 nm | 50% | 208 nm | 12.5×12.5×0.7 mm |
5 | 500 nm | multiple ⑥ | 44% | 220 nm | 8×8.3×0.7 mm |
6 | 500 nm | multiple ⑥ | 60% | 300 nm | 8×8.3×0.7 mm |
7 | 555.5 nm | 110 nm | 50% | 278 nm | 20×9×0.7 mm |
8 | 555.5 nm | 140 nm | 50% | 278 nm | 20×9×0.7 mm |
9 | 555.5 nm | 110 nm | 29% | 158 nm | 20×9×0.7 mm |
10 | 555.5 nm | 140 nm | 29% | 158 nm | 20×9×0.7 mm |
11 | 600 nm | multiple ⑥ | 43% | 260 nm | 8×8.3×0.7 mm |
12 | 600 nm | multiple ⑥ | 55% | 330 nm | 8×8.3×0.7 mm |
13 | 606 nm | 190 nm | 50% | 303 nm | 29×12×0.7 mm |
14 | 606 nm④ | 190 nm | 50% | 303 nm | 29×12×0.7 mm |
15 | 606 nm | 190 nm | 50% | 303 nm | 29×24.2×0.7 mm ⑤ |
16 | 675 nm | 170 nm | 32% | 218 nm | 24×10×0.7 mm |
17 | 675 nm | 170 nm | 32% | 218 nm | 24×30.4×0.7 mm ⑤ |
18 | 700 nm | multiple ⑥ | 47% | 330 nm | 8×8.3×0.7 mm |
19 | 700 nm | multiple ⑥ | 55% | 375 nm | 8×8.3×0.7 mm |
20 | 833.3 nm | 200 nm | 50% | 416 nm | 12.5×12.5×0.7 mm |
21 | 833.3 nm | 200 nm | 50% | 416 nm | 25×25×0.7 mm ⑤ |
①占空比表示线宽和周期的比率。
③第二个尺寸相当于沟槽的长度。
④scientific" grade offered at a discount. It has at least 80% of usable area. Up to 80/100 scratch/dig/particles and irregular substrate shape may present.
⑤可定做更大尺寸
⑥深度可做成150, 250 和 350 nm。
二维纳米模板(矩形或六边形)2D nanostamps (rectangular and hexagonal lattice)
序号 | 周期 | 晶格类型 | 沟槽深度 | 特征宽度 | 衬底尺寸 |
1 | 500 nm | rect post | multiple ① | 135 nm | 8×8.3×0.7 mm |
2 | 500 nm | rect post | multiple ① | 210 nm | 8×8.3×0.7mm |
3 | 600 nm | rect post | multiple ① | 195 nm | 8×8.3×0.7mm |
4 | 600 nm | rect post | multiple ① | 275 nm | 8×8.3×0.7mm |
5 | 700 nm | rect post | multiple ① | 260 nm | 8×8.3×0.7mm |
6 | 700 nm | rect post | multiple ① | 350 nm | 8×8.3×0.7mm |
7 | 500 nm | hex post | multiple ① | 165 nm | 8×8.3×0.7mm |
8 | 600 nm | hex post | multiple ① | 165 nm | 8×8.3×0.7mm |
9 | 600 nm | hex post | multiple ① | 240 nm | 8×8.3×0.7mm |
10 | 700 nm | hex post | multiple ① | 220 nm | 8×8.3×0.7mm |
11 | 700 nm | hex post | multiple ① | 290 nm | 8×8.3×0.7mm |
12 | 600 nm | hex hole | multiple ① | 180 nm | 8×8.3×0.7mm |
13 | 700 nm | hex hole | multiple ① | 200 nm | 8×8.3×0.7mm |
14 | 700 nm | hex hole | multiple ① | 290 nm | 8×8.3×0.7mm |
①深度可做成150, 250 和 350 nm
rect post: | hex post: |
hex hole: | |
标准模板二
我们可提供纳米级微结构,衬底材料为硅单晶,广泛应用于科学研究。批量生产,质量有保证,且性价比高。
产品精度:
| 产品说明:
|
具体规格如下表所示:
光栅结构(周期,线宽,高度,有效面积,衬底尺寸)
柱状点阵模板(周期,柱直径,高度,有效面积,衬底尺寸)
孔阵模板(周期,孔直径,高度,有效面积,衬底尺寸)
2x2cm2标准纳米压印模板
我们提供电子束光刻方法制备的硅模板,衬底尺寸为20x20mm2。图形分辨率高,有效区域为5x5mm2。批量生产,质量有保证,且性价比高。
产品精度:
|
具体规格如下表所示:
孔阵(矩形孔阵)
序号 | Product | Period | Area | Diameter / Height | |
1 | P100s_h_5w5 | 100nm | 5x5mm2 | 50nm/ 100nm | |
2 | P150s_h_5w5 | 150nm | 5x5mm2 | 60nm/ 100nm | |
3 | P200s_h_5w5 | 200nm | 5x5mm2 | 70nm/ 100nm |
孔阵(六边形孔阵)
序号 | Product | Period | Area | Diameter / Height | |
1 | P200h_h_5w5 | 200nm | 5x5mm2 | 80nm/ 100nm | |
2 | P300h_h_5w5 | 300nm | 5x5mm2 | 125nm/ 100nm | |
3 | P400h_h_5w5 | 400nm | 5x5mm2 | 150nm/ 100nm |
柱状点阵(矩形柱状点阵)
序号 | Product | Period | Area | Diameter / Height | |
1 | P100s_p_5w5 | 100nm | 5x5mm2 | 50nm/ 100nm | |
2 | P150s_p_5w5 | 150nm | 5x5mm2 | 60nm/ 100nm | |
3 | P200s_p_5w5 | 200nm | 5x5mm2 | 80nm/ 100nm |
柱状点阵(六边形柱状点阵)
序号 | Product | Period | Area | Diameter / Height | |
1 | P200h_p_5w5 | 200nm | 5x5mm2 | 70nm/ 100nm | |
2 | P300h_p_5w5 | 300nm | 5x5mm2 | 110nm/ 100nm | |
3 | P400h_p_5w5 | 400nm | 5x5mm2 | 120nm/ 100nm |
大面积四英寸模板
我们提供四英寸硅或石英模板,可用于压印工艺。批量生产制作,质量有保证且性价比高。
产品精度:
|
具体规格如下表所示:
Holes on Hexagonal Lattice(六边形孔阵)
Holes on Square Lattice(矩形孔阵)
Part No | Product | Period | Diameter | Area | Max. Etch depth (Si/Quartz) | Image | ||
11 | P350s_h_20w20 | 350 nm | 250nm | 20x20 mm2 | 300 nm/150 nm | |||
12 | P350s_h_100d | 350 nm | 250nm | 100dia | 300 nm/150 nm |
Pillars on Hexagonal Lattice(六边形柱状)
Pillars on Square Lattice(矩形柱状点阵)
Linear Gratings(光栅结构)
Multi-pattern(复合结构)
Part No | Product | Description | Diameter | Period | Area | Max. Etch depth (Si/Quartz) |
32 | MHSL_400-800 | Linear, hexagonal, square array combination, Periods: 400-800nm | pitch dependent | ho, les/ lines | each period,7.5mm x 7.5mm | 400 nm/150 nm |
33 | MP250L300 | Multi-period linear grating combination 1, Periods: 250nm, 275nm, 300nm | Linewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300 | lines | each period,7mm x 7mm | 200 nm/100 nm |
34 | MP300L600 | Multi-period linear grating combination 2, Periods: 300nm, 400nm, 500nm, 600nm | Linewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300 | lines | each period,10mm x 10mm | 300 nm/150 nm |
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 无
免费培训: 无
免费仪器保养: 无
保内维修承诺: 无
报修承诺: 无
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