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2010年10月27日，沈先生在大兴区双安商场有限责任公司黄村王府井百货分公司(简称王府井大兴店)中国黄金专柜购买了黄金产品。沈先生出示的购物发票显示，他花14900元购买一枚50g的中国黄金9999元宝金。随后他将元宝金放在银行保管。2012年12月18日，他取出元宝金时发现上面出现红斑，“底部还生锈了”。2012年12月24日，沈先生来到王府井大兴店中国黄金专柜要求解决此事。　　沈先生称，当时中国黄金的一名工作人员曾提出回购，被他拒绝，“我要的是一个说法，为什么黄金会生锈”。　　沈先生称，中国黄金的产品在上架前肯定检测过，“所以境内检测我不放心，应该在大陆以外的地方进行检测”。　　需要权威机构鉴定　　近日，记者见到沈先生的元宝金。在该元宝金的一侧，表面确有明显的红斑，在其底部也有一些锈迹。　　中国黄金的工作人员黄先生查看了该元宝金、发票和收藏证书。该工作人员表示，从元宝金外观上看，是符合该公司产品外观特征的，并且元宝金底部编号与收藏证书编号也相符。　　中国黄金集团营销有限公司董事长蒋云涛表示，该产品表面的确有红斑，但对于产品是否有质量问题，“必须要有一个权威机构进行鉴定”。蒋云涛说，产品在售出时并没有问题，“现在出现红斑，是生产问题，还是保管问题，需要检测证明”。　　商家　　-结果　　产品将送往境内外检测　　据了解，中国黄金曾提出了三种解决方案，一是将产品在境内送检，检测费用由他们先行垫付 二是按照现在的金价进行回购 三是进行换货。但沈先生均给予拒绝。　　沈先生称，元宝金将送检，“我会在国内找一家机构检测”，同时还会再将物品送往香港或者国外的质检机构进行检测。　　蒋云涛表示，想要解决问题就必须要进行检测，他们尊重沈先生的选择，“无论是境内检测还是境外检测，只要检测报告在法律认可范围内，并确系我们产品质量有问题，我们承诺按照相关法律规定进行赔偿”。

相关新闻：2012年科学仪器应用技术进步奖颁布 　　仪器信息网讯 2012年5月9-11日，BIOTECH CHINA 2012中国国际生物技术和仪器设备博览会在上海国际会议中心成功召开。本次展览会同期颁发了相宜本草杯、E7杯“2012科学仪器化学试剂创新奖与贡献奖”。　　为促进我国科学仪器技术的发展实现我国科学仪器的自主创新，本届展会特别设立了“2012科学仪器创新奖、科学仪器贡献奖和新人奖”，以表彰在科学仪器自主创新方面做出突出贡献的单位和个人。　　上海市科委基地平台处张露璐先生、上海相宜本草化妆品有限公司封帅董事长、上海理工大学庄松林院士、上海市研发公共服务平台管理中心何海林副主任、上海发明家协会李树钧名誉理事长等出席会议并为获奖代表颁奖。2012科学仪器创新奖、科学仪器贡献奖和新人奖　　科学仪器创新奖获奖名单：　　上海天美科学仪器有限公司 LC3000全二维高温液相(离子)色谱分析系统　　上海棱光技术有限公司 F97Pro荧光分光光度计(高速扫描)　　上海光谱仪器有限公司 SP-3882AAS全自动铅镉分析仪　　上海通微分析技术有限公司 UM6000微流蒸发光散射检测器(µ ELSD)　　上海仪电科学仪器股份有限公司 COD-582在线化学需氧量测定仪　　上海舜宇恒平科学仪器有限公司 GC1100P气相色谱仪(微型色谱)　　上海伍丰科学仪器有限公司 Arcus 5自动进样器　　上海科哲生化科技有限公司 KH3000Plus全能型薄层色谱扫描仪　　上海新拓分析仪器科技有限公司 XT-9916密闭式智能微波消解/萃取仪　　上海培清科技有限公司 自动对焦凝胶成像分析仪颁奖嘉宾为科学仪器创新奖获奖代表颁奖　　科学仪器贡献奖获奖名单：　　马兰凤 上海市分析测试协会　　孔继烈 复旦大学　　张嗣良 华东理工大学　　周志中 上海光谱仪器有限公司　　周爱国 上海培清科技有限公司　　单 琦 上海舜宇恒平科学仪器有限公司　　金春法 上海仪电科学仪器股份有限公司　　钱光蓓 上海棱光技术有限公司颁奖嘉宾为科学仪器贡献奖获奖代表颁奖　　科学仪器新人奖获奖名单：　　王玉红 上海通微分析技术有限公司　　王世立 上海舜宇恒平科学仪器有限公司　　邓 琦 上海舜宇恒平科学仪器有限公司　　邓 镭 上海天美科学仪器有限公司　　张英力 上海纽迈电子科技有限公司　　赵永强 上海光谱仪器有限公司颁奖嘉宾为科学仪器新人奖获奖代表颁奖化学试剂创新奖、化学试剂贡献奖　　为促进我国化学试剂的发展和应用技术水平的提高，推动产业化发展与推广应用，实现我国化学试剂的自主穿心，本届展览会和上海化学试剂资源协作服务联盟特设立化学试剂创新奖、化学试剂贡献奖，以表彰在化学试剂中自主创新方面做出突出贡献的单位和个人。　　化学试剂创新奖获奖名单：　　国药集团化学试剂有限公司 优级磷酸盐的研究开发与产业化　　上海泰坦化学有限公司 6-氯-5-氟吲哚及相关系列化合物　　上海师范大学 非食用和易滥用食品添加剂(着色剂)检测用色谱试剂　　上海市计量测试技术研究院 应对欧盟生态纺织品法规检测的致敏性染料标准物质体系研究　　上海化学试剂研究所 电子级三氯氧磷仪颁奖嘉宾为化学试剂创新奖获奖代表颁奖　　化学试剂贡献奖、新人奖获奖名单：　　贡献奖获奖名单：　　刘征宙 国药集团化学试剂有限公司　　李懿睿 上海市计量测试技术研究院　　周国光 上海师范大学　　胡国胜 上海相宜本草化妆品股份有限公司　　谢应波 上海泰坦化学有限公司　　新人奖获奖名单：　　宋振 上海化学试剂研究所颁奖嘉宾为化学试剂创新奖获奖代表颁奖

近日，微电子所集成电路先导工艺研发中心在极紫外光刻基板缺陷补偿方面取得新进展。 与采用波长193nm的深紫外（DUV）光刻使用的掩模不同，极紫外（EUV）光刻的掩模采用反射式设计，其结构由大约由40层Mo和Si组成的多层膜构成。在浸没式光刻技术的技术节点上，基板制造和掩模制造已足够成熟，掩模缺陷的密度和尺寸都在可接受的水平。但是在EUV光刻系统中，由于反射率及掩模阴影效应的限制，掩模基板缺陷是影响光刻成像质量、进而导致良率损失的重要因素之一。 基于以上问题，微电子所韦亚一研究员课题组与北京理工大学马旭教授课题组合作，提出了一种基于遗传算法的改进型掩模吸收层图形的优化算法。该算法采用基于光刻图像归一化对数斜率和图形边缘误差为基础的评价函数，采用自适应编码和逐次逼近的修正策略，获得了更高的修正效率和补偿精度。算法的有效应性通过对比不同掩模基板缺陷的矩形接触孔修正前后的光刻空间像进行了测试和评估，结果表明，该方法能有效地抑制掩模基板缺陷的影响，提高光刻成像结果的保真度，并且具有较高的收敛效率和掩模可制造性。 基于本研究成果的论文Compensation of EUV lithography mask blank defect based on an advanced genetic algorithm近期发表在《光学快报》期刊上[Optics Express, Vol. 29, Issue 18, pp. 28872-28885 (2021)，DOI: 10.1364/OE.434787]，微电子所博士生吴睿轩为该文第一作者。微电子所韦亚一研究员为该文通讯作者。此项研究得到国家自然科学基金、国家重点研究开发计划、北京市自然科学基金、中科院的项目资助。图1 (a)优化算法流程 (b)自适应分段策略样例 (c) 自适应分段的合并与分裂 图2 (a)对不同大小的基板缺陷的补偿仿真结果 (b) 对不同位置的基板缺陷的补偿仿真结果 (c) 对复杂图形的基板缺陷的补偿仿真结果 (d) 对不同位置的基板缺陷的补偿、使用不同优化算法，目标函数收敛速度的比较