全自动兆声大基片清洗系统

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  • 深圳市洁盟清洗设备有限公司于2007年创立洁盟品牌,公司谨循“立足深圳,辐射全国,扩张海外”的品牌发展战略,进行布局,于2009年在香港成立分公司,负责国内外进出口业务。同年,在深圳西乡开设工厂,主要生产塑胶外壳民用型超声波清洗器,标准台式小型超声波清洗机,单槽、多槽超声波清洗机,各种规格超声波振板,以及各行业全自动超声波清洗机等非标系列产品。我们采用高级不锈钢、优质塑胶等材料,使用原装进口换能器,利用先进集成线路技术,使得产品寿命更长,质量更优。经过短短几年的发展,洁盟品牌已成为行业中优秀品牌,受到众多客户及消费者的一致认可和支持。洁盟品牌是超声波清洗机行业中知名品牌,技术领先,规格齐全,品种繁多.包括小型超声波清洗机,医用清洗机,线路板清洗机,五金超声波清洗机等,质量可靠,售后服务完善。优质的产品,先进的技术,以及完善的售前、售中、售后服务,洁盟期待着与您共创辉煌!创造绿色健康环境!
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  • 兆声清洗技术LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统概述:最新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平,可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的最大化支持最理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术,系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升,从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去,而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势,最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附,并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外,NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除,而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用,某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。LSC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成,具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记,降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外,带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。LSC占地面积较小,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统应用:硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000 (AC)全自动兆声大基片清洗系统的特点:支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片,带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000 (AC)全自动兆声大基片清洗系统选配项:化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水(20ppm的O3)氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜
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  • 兆声湿法去胶技术LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统概述:最新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平,可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统,用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的最大化支持最理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。LSC和SWC具备对点试剂滴胶系统,可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术,系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升,从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去,而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势,最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附,并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外,NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除,而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用,某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。LSC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成,具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记,降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外,带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。LSC是占地面积较小,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用:光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点:支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片,带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项:化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水(20ppm的O3)氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜
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  • 新品发布!喜瓶者全自动酸蒸清洗机,解决痕量样品瓶皿清洗难题
    痕量分析用于测定痕量元素在试样中的总浓度,和用探针技术测定痕量元素在试样中或试样表面的分布状况,主要用于测定Pb、As、Hg、Cd、Cr、Ni等痕量元素,常用方法有化学光谱法、中子活化分析法、质谱法、分光光度法、原子吸收光谱法、极谱法等多种方法。主要应用于化学、材料科学、生物医学、环境科学、表面科学等领域。洁净的样品反应容器是获得正确分析结果的前提。痕量分析所使用的微波消解罐、超级微波消解管、常压消解罐、玻璃器皿(试管、烧杯、容量瓶等)等的痕量清洗,对于实验人员来说,始终是一个非常繁琐而又非常重要的挑战。而酸蒸清洗很好地解决了这个问题。酸蒸超净清洗是一种自动、密闭、酸蒸汽清洗方法。通过内置可控温加热系统,利用酸蒸汽安全高效地对所有可溶于酸中的任何痕量金属污染物进行超净清洗,并将其留在液体酸中,绝不会接触正在清洗的反应容器。传统的清洗方式酸缸浸泡,有极大的弊端1、效率低 效果差,常常要浸泡24小时以上,需多买一套消解管周转,成本极高;2、酸缸存放困难,大量酸气渗出,污染实验室环境;3、 为避免交叉污染,需定期换酸,酸消耗量大,且危险;4、酸泡之后,还需手工冲洗和干燥,繁琐且二次污染。之后有了微波空消的清洗方式,虽摆脱了长时间酸缸浸泡,但清洗效果一般,且也有一定缺陷。1、每个消解管清洗需耗纯酸5mL;2、 高温高压条件下运行,减少一半消解管寿命,成本极高;3、 空消之后,还需手工冲洗和干燥,繁琐且二次污染;4、因脏酸始终在消解管内循环,清洗效果有限。然而现在使用全自动酸蒸清洗机进行清洗,逐渐被被各大实验室所接受:1、效率高,一批可处理多达66个55mL消解管;2、热蒸汽的高效淋洗,一般只需2-5小时,AC400清洗最快只需30分钟;3、一批只需100-300mL酸;4、程序控制,清洗重复性好;5、全自动型号还进行超纯水预清洗。以及在酸蒸清洗之后,自动纯水冲洗和热空气干燥,一条龙式流程。 全自动酸蒸清洗机,解决了痕量分析中样品反应容器的清洗难题,为实验的准确性于便捷性提供助力。喜瓶者,让清洗工作更幸福!
  • 实验室全自动洗瓶机的清洗原理和流程,你知道吗?
    实验室全自动洗瓶机是一种专为清洗实验室玻璃瓶皿和其他容器而设计的设备。通过一系列的清洗程序和先进的技术,它能够有效地去除瓶子内部的残留物、污垢,确保瓶子的清洁度和安全性。下面将详细介绍实验室全自动洗瓶机的清洗原理与流程。一、清洗原理1. 高温高压喷水技术:全自动洗瓶机采用高压喷水技术,将水流以极高的压力从喷头喷出,冲击瓶子内部表面。这种高压水流能够剥离并冲刷掉残留物和污垢,确保瓶子内部的洁净。2. 化学清洗:根据需要,全自动洗瓶机还可以添加特定的酸碱清洗液,与瓶子内部的残留物发生乳化剥离作用,使其更容易被清除。二、清洗流程预处理:在开始清洗之前,首先对瓶子进行预处理,包括倒空瓶子、检查瓶身有无破损等。装载:将待清洗的瓶子放入全自动洗瓶机的指定位置,确保瓶子摆放整齐、稳定。启动程序:选择相应的清洗程序或预设的清洗模式,启动洗瓶机。喷水清洗:高压喷水技术开始工作,水流冲击瓶子内部表面,剥离并冲刷掉残留物和污垢。漂洗:使用纯水进行进一步漂洗。 烘干:最后,洗瓶机进行烘干程序,去除瓶子表面的水分,确保瓶子干燥。取出:完成清洗和烘干后,瓶子可以从洗瓶机中取出,备用。实验室全自动洗瓶机的清洗原理和流程是实现高效、自动化清洗的关键。可以清除瓶子内部的残留物、污垢,确保瓶子的清洁度和安全性。这大大提高了实验室的工作效率,降低了操作风险,并节省了人力资源和水资源。转载自:www.hzxpz.com
  • CIF发布CIF-全自动亚沸酸蒸清洗器新品
    CIF 全自动亚沸酸蒸清洗器洁净的样品反应管是获得正确分析结果的前提,传统的清洗方法是把实验容器置于酸缸或热酸中浸泡数小时甚至更长时间,这种方法效率低、酸消耗量大,为了避免交叉污染,需要定期更换酸,否则将给实验数据带来巨大的风险。而亚沸酸蒸清洗确保了痕量分析和超痕量分析的准确性。 CIF酸蒸逆流清洗器通过内置可控温的加热系统加热酸,在亚沸状态下产生高纯酸蒸气,对痕量分析所使用的各种微波消解罐,各种常压消解罐,玻璃器皿(试管、烧杯、容量瓶等),石英材质实验容器以及ICP雾化室和火焰管等进行亚沸熏蒸,清除器皿表面所有可溶于酸的任何痕量金属污染物。一般清洗时间1-4小时左右,适用氢氟酸、盐酸、硝酸、硫酸和水等多种试剂。产品特点更安全多重安全技术保证实验人员的安全,降低环境污染。u 整个清洗系统一体化落地式集成结构设计,节省实验室空间。u 顶置下压式铰链开关盖方式,开关方便。u 三重密封安全保护,并带自锁功能。u 自控压技术的应用,自动调节清洗室内压力。u 高低温(液位)报警,自动断电保护。u 酸气自动回收,保证不外排,无需通风厨。更智能u 手动、自动两种清洗模式,可自动完成水洗、酸洗、冲洗、干燥整个清洗过程,也可手动随机运行任一个单独程序。更专业u 单循环亚沸清洗方式,防止交叉污染。u 双层清洗架设计(可定制),消解罐和消解盖,一次清洗完成。u 无任何金属附件,无污染。技术参数智能程序化温度控制系统7寸全彩触摸屏智能程序化温度控制系统,人机互动界面,直观、强大的控制软件,加热快速高效,控温准确,温度均匀,控温范围RT-220℃,控温精度±0.1℃,温度可校准,预约定时启动功能,过温自动断电保护,温度和液位实时工作曲线图形显示,存储10种方法,并可编辑,随机调用。酸蒸逆流清洗器罐体材料采用高纯度PTFE材料一体化铣洗成型,无焊接不泄露,耐高温防腐蚀。酸蒸逆流清洗架清洗架材料采用高纯度PTFE材料,耐高温防腐蚀,批处理能力45-100个反应容器 (最小内径15mm,长度250mm)。自动控压装置自动控压装置应用不但可以自动调节清洗室内压力,防止由于清洗室冷空气的不及时排出导致清洗不完全,而且还可自动捕集酸蒸汽,极大的减少了酸蒸气的排出,保护了实验人员的安全,延长了实验设备的使用寿命,降低了环境污染。酸碱中和回收装置酸碱中和回收装置的应用,使得可能溢出的酸蒸汽通过冷凝、酸碱中和、活性炭吸附等方式自动回收收集,最终达到不外排,不再需要通风厨,节省实验室空间,降低实验室成本。全自动加酸(水)排废酸(废水)烘干系统根据需要可选择手动、自动两种清洗模式。可自动完成水洗、酸洗、冲洗、干燥整个清洗过程,也可手动随机运行任一个单独程序,改变传统漏斗加酸、阀门排酸的致命缺陷,保证了实验人员的安全,使酸蒸清洗变得更智能。系统组成型号品名备注AC1分体式酸蒸逆流清洗器标配AT1,可选AT2、AT3AC2一体式酸蒸逆流清洗器标配AT1,可选AT2、AT3AT1加排酸系统自动加酸排酸。标配AT2自动加排酸温控系统自加(排)酸,自加(排)水,不用人工切换。可选AT3全自动加排酸温控系统自动完成亚沸水洗、亚沸酸洗、水冲洗、热空气干燥等过程,也可手动运行任一个单独程序。可选CR1酸蒸逆流清洗架标配AN1酸碱中和回收装置可选AP1自动控压装置可选WP1耐酸碱手套标配CB1清洗刷标配创新点:CIF酸蒸逆流清洗器通过内置可控温的加热系统加热酸,在亚沸状态下产生高纯酸蒸气,对痕量分析所使用的各种微波消解罐,各种常压消解罐,玻璃器皿(试管、烧杯、容量瓶等),石英材质实验容器以及ICP雾化室和火焰管等进行亚沸熏蒸,清除器皿表面所有可溶于酸的任何痕量金属污染物。一般清洗时间1-4小时左右,适用氢氟酸、盐酸、硝酸、硫酸和水等多种试剂。CIF-全自动亚沸酸蒸清洗器

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  • 全自动超声波清洗机的特点

    [align=center]目前国内各类机器人不断被研发出来,亲爱的朋友们,有没有发现人工慢慢机器代替了呢?其实不仅是机器人的出现解放了大批劳力,还有全自动超声弄清洗机的出现,解放了清洗行业的劳动力,那么全自动超声波清洗机的特点偶有哪些呢?[/align]1、设计实用,在研发和生产时采用的是实用的设计理念,产品是针对大中小型企业、工厂、医疗和生活中所用到的仪器而设计的。高品质的全自动超声波清洗为了让使用者能简单操控仪器,采用的是一键操控的模式,保证产品质量的同时在外观上研发团队还追求完美的外观设计。2、工艺新颖,全自动超声波清洗的工作中设定了清洗流程在进行转换时,每秒产生的高速振荡迅速对仪器进行清洁消毒和灭菌,仪器的转换效率非常高。特有的防漏水新工艺的研发,加上高效的超声波空化效应的原理,取代了传统的手工洗刷的方法,原本清洗不到的地方通过水分子在超声波的作用下震荡,把表面和死角缝隙处的污物震落。3、清洗效果好,全自动超声波清洗的超声波积淀技术已研发成功使超声波在工作时,对所清洗仪器的狭缝、凹槽、深孔和盲孔表面和内部细小零件的清洗得心应手,同时在除油、除锈和除氧化物等方面也有较好的效果。4、先进性和科技含量,在我国非常重视全自动超声波清洗产品的研发和生产,超生波的产品研发成功对工业、医疗和生活都有很大的帮助。全自动超声波清洗始终保持着高标准严要求的生产理念,让超声波行业一直处于领先地位。国家对拥有国际认证的超声波技术进行专利和知识产权的保护,正是因为有了国家的支持才有了今天超声波技术的发展。 [url=http://www.genengchina.cn/]全自动超声波清洗机[/url]的在外部设计、最新工艺、清洗效果显著、科技含量高的层面上具有与时俱进的时代气息和时代精神,超声波清洗机的先进性是提高生产力和解放劳动力,在节约能源,减少原材料上给清洗行业做出巨大改变。

  • 求全自动酸逆流清洗机品牌?

    有用过全自动酸逆流清洗机的朋友吗?单位正在采购,用来清洗CEM微波消解罐,容量瓶,比色管,ICP-MS2.5毫升进样杯。什么品牌的比较好?洗的洁净程度如何?请指教,谢谢

  • 【原创】成功研发出适用于大型OLED的全自动清洗设备

    成功研发出适用于大型OLED的全自动清洗设备国内陆续上OLED生产线,而国外生产设备却垄断国内市场,因此研发性能稳定,质量可靠并且价格合理的生产设备,是目前国内设备厂家的首要任务。华林科纳凭借自身优秀的研发团队和优越的研发环境,在华林科纳常务总经理、技术总监杨辉(现中科院苏州纳米所所长),技术副总张宝顺(研究员)的带领下, 在经历了近半年的辛勤奋战,终于成功研发出适用于大型OLED的全自动清洗设备,其配套工艺已在国内某OLED工厂得到肯定。此设备填补了国内空白。 玻璃基板尺寸可达:1900 mm× 2200 mm,厚度为0.3—1.1 mm; 具有封闭的工作腔。配备排风系统,避免所用药液挥发对使用人员和环境造成危害。

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