膜厚计

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膜厚计相关的厂商

  • 400-860-5168转4161
    赛默飞世尔科技赛默飞世尔科技(纽约证交所代码:TMO)是科学服务领域的世界领导者。公司年销售额超过250亿美元。我们的使命是帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全。我们帮助客户加速生命科学领域的研究、解决在分析领域所遇到的复杂问题与挑战、促进医疗诊断和治疗的发展、提高实验室生产力。我们全球超过75,000名赛默飞员工将借助于一系列行业领先的品牌Thermo Scientific、Applied Biosystems、Invitrogen、Fisher Scientific、Unity Lab Services和Patheon,为客户提供领先的创新技术、便捷采购方案和全方位服务。欲了解更多信息,请浏览公司网站:www.thermofisher.com赛默飞世尔科技中国赛默飞世尔科技进入中国发展已超过35年,在中国的总部设于上海,并在北京、广州、香港、成都、沈阳、西安、南京、武汉、昆明等地设立了分公司,员工人数约为5000名。我们的产品主要包括分析仪器、实验室设备、试剂、耗材和软件等,提供实验室综合解决方案,为各行各业的客户服务。为了满足中国市场的需求,现有7家工厂分别在上海、北京、苏州和广州等地运营。我们在全国还设立了8个应用开发中心以及示范实验室,将世界级的前沿技术和产品带给中国客户,并提供应用开发与培训等多项服务;位于上海的中国创新中心,拥有100多位专业研究人员和工程师及70多项专利。创新中心专注于针对垂直市场的产品研究和开发,结合中国市场的需求和国外先进技术,研发适合中国的技术和产品;我们拥有遍布全国的维修服务网点和特别成立的中国技术培训团队,在全国有超过2600名专业人员直接为客户提供服务。 赛默飞世尔科技中国区服务部赛默飞世尔科技中国区服务部成立于2012年,负责向赛默飞中国所有商务部门和设备用户提供售后技术服务及相关日常工作。目前拥有900多名员工,工程师超过600名,服务网点覆盖60多个城市,服务100,000多台仪器,超过400,000客户受益于我们的产品或服务。我们致力于帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全。联系方式:热线电话:800 810 5118 / 400 650 5118 赛默飞官方微信赛默飞服务平台
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  • 济南厚生科技有限公司,于2008年4月成立,坐落于济南高新技术开发区,是集化学分析仪器研发、销售、咨询服务于一体的高新技术企业。 济南厚生科技——色谱技术专家 ,拥有一批从事色谱技术开发及分析应用超过20年的经验丰富的工程师。公司成立以来本着以市场为向导,以科技创新求发展,取得了美国Agilent、美国PerkinElmer、美国Echrom、博纳Agela等进口色谱仪的签约经销或代理权;能够提供安装调试、维修及维护保养的技术服务;可承建实验室交钥匙工程,提供分析方法开发,人员培训等特色服务;同时经销美国安捷伦、PE公司的耗材和配件,艾杰尔的液相色谱柱和SPE固相萃取产品,实验室常用设备及消耗品。 公司秉承质量诚信为宗旨,厚德载物为服务理念,追求卓越,奉献真诚,“以质量求生存、以服务求发展”,专业的技术服务已赢得了山东省众多企业、科研单位、大专院校、质检部门等的长期合作。
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  • 深圳市厚物科技有限公司立足中国深圳,持续专注于PXIe PXI CPCI VPX模块化仪器测控系统平台的研发与生产,提供便携式、车载式、台式、手持式、机架式五大系列MCS测控系统平台,包括外场便携式测试设备、加固机架式测试设备、手持式仪器、车载式设备等,多款创新型设备已列装到国防科技、航空航天、兵器电子、船舶舰载等装备保障领域,是专业的测控系统平台服务商。厚物科技是国际PXISA正式成员,持续开发严格满足行业需求的、安全可靠的、易于管理的测量测试测控设备及仪器,在国防科技、航空航天、兵器电子、船舶舰载、智能航电、核电工程、轨道交通、智慧互联等行业积累了十几年产品开发经验,对仪器设备、总线标准、产品设计及开发有深入研究,具有专业的PXIe PXI CPCI VPX模块化仪器技术研发团队,来自国内外测控仪器行业头部企业,团队带头人有海外留学及在国外头部技术公司工作的背景。厚物科技量身定制,快速响应,坚持用先进的技术为行业用户提供一揽子解决方案,持续为各行业用户提供专业完善的一站式交钥匙ODM定制服务,交付严格符合用户要求的全生命周期的产品及技术解决方案。厚物科技既服务于重要基础行业,也服务于国防科技领域。自强不息、厚德载物,是厚物科技的企业文化;作为中国的民族企业,厚物科技将牢记使命,为科技的进步和民族的复兴贡献所有力量。
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膜厚计相关的仪器

  • 光声无损膜厚仪随着电子和纳米科学时代的兴起,电子元件的小型化已成为其几乎呈指数级性能的重要因素。将技术层和涂层减薄到纳米级,可以在各种领域取得进步。复杂的制造流程推动控制变得越来越准确。光声无损膜厚仪为这些演变相关的许多问题提供了解决方案。缺陷检测现在在许多行业中非常必要,以避免在生产过程中遇到问题并提高质量水平。我们使用的光声技术设计了光声无损测量系统。 技术源自法国CNRS 和波尔多大学的技术转让,它依靠激光、材料和声波之间的相互作用深入物质的核心。我们的非破坏性和非接触式技术将光转换为声频超过100GHz 的声波。 目的在于表征涂层,例如不同类型材料的厚度和附着力。特别适用于测量从几纳米到几微米的薄层,无论是不透明的(金属、金属氧化物和陶瓷),还是半透明和透明的。 这种光学技术不受样品形状的影响。 产品特点非破坏性和非接触式技术薄膜的表征:厚度、附着力、热性能快速且可重复的测量超精密测量许多材料可用能检测的膜厚度从 2纳米~20微米扫描方式:单点、XY扫描、表面声波测样样品种类: 不透明、半透明、透明均可测试。平坦和弯曲的样品均可 系统构成:仪器使用两个同步的超快激光器。会产生大约100飞秒的不同波长的激光脉冲。使用这些脉冲进行非破坏性和非接触式测量。这些都集中在所研究的样品表面。 能使用的材料广泛的材料及其在许多应用中的使用使这一材料方面变得非常必要。自产品问世以来,我们的技术已证明其有能力测量许多金属材料。也适用于陶瓷和金属氧化物,并且不受外形因素的影响。 无损检测 (NDT) 具体应用案例半导体行业半导体行业为我们周围遇到的大多数电子设备提供了基本组件。它的制造需要在硅晶片上进行多次薄膜沉积。 问题?在任何工艺过程中,不透明薄膜的沉积,无论是单层还是多层,都需要质量控制。无论是检测还是计量,厚度测量和界面表征都是确保其质量的关键问题。 我们的解决方案?- 高速控制。- 非破坏性和非接触式测量。- 单层和多层厚度测量。 显示器行业今天,不同的技术竞争主导显示器的生产,而显示器在我们的日常使用中无处不在。事实上,由于未来UHD-8K 标准以及新兴柔性显示器的制造工艺,这个不断扩大的行业存在技术限制。问题?一个像素仍然是一堆薄层有机墨水、银、ITO… … 在这方面,控制薄层厚度的问题仍然存在。这些问题可能会导致最终产品出现质量缺陷。 我们的解决方案?- 对此类层的独特检查。- 提取厚度的可能性。- 非破坏性和非接触式厚度测量。 薄层沉积无论是在航空工业还是医疗器械制造领域,技术涂层都可用于增强高附加值部件中的某些功能。这些涂层的厚度随后成为确保目标性能的关键因素。问题?无论是法律限制还是技术限制,破坏性测试的采样方法通常提供不完整的答案。此外,由于形状因素、曲率等原因,很难控制3D作品。 我们的解决方案?- 非破坏性和非接触式测试- 快速测试厚度数据- 现在可以进行在线生产控制
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  • GB/T6672机械测量法薄膜厚度测量仪_膜厚计膜厚测试仪是一款高精度、高重复性的机械接触式精密测厚仪,专业适用于量程范围内的薄膜、薄片、纸张、瓦楞纸板、纺织材料、非织造布、固体绝缘材料等各种材料的厚度精密测量。可选配自动进样机,更加准确、高效的进行连续多点测量。设备技术特征:1、专业——Labthink在不断的创新研发和技术积累中推陈出新,使用超高精度的位移传感器、科学的结构布局及专业的控制技术,实现先进的测试稳定性、重复性及精度。2、高效——采用高效率、自动化结构设计,有效简化人员参与过程;智能的控制及数据处理功能,为用户提供更便捷可靠的试验操作和结果处理。3、智能——搭载Labthink新一代版控制分析软件,具有友好的操作界面、智能的数据处理、严格的人员权限管理和安全的数据存储;支持Labthink特有的DataShieldTM数据盾系统(可选配置),为用户提供极为安全可靠的测试数据和测试报告管理功能。GB/T6672机械测量法薄膜厚度测量仪_膜厚计膜厚测试仪测试原理:将预先处理好的薄型试样的一面置于下测量面上,与下测量面平行且中心对齐的上测量面,以一定的压力,落到薄型试样的另一面上,同测量头一体的传感器自动检测出上下测量面之间的距离,即为薄型试样的厚度。执行标准:ISO 4593、ISO 534、ASTM D6988、ASTM F2251、GB/T 6672、GB/T 451.3、TAPPI T411、BS 2782-6、DIN 53370、ISO 3034、ISO 9073-2、ISO 12625-3、ISO 5084、ASTM D374、ASTM D1777、ASTM D3652、GB/T 6547、GB/T 24218.2、FEFCO No 3、EN 1942、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702中国《药品生产质量管理规范》(GMP)对软件的有关要求(可选配置)GB/T6672机械测量法薄膜厚度测量仪_膜厚计膜厚测试仪应用材料:基础应用:薄膜、薄片——各种塑料薄膜、薄片、隔膜等的厚度测定纸——各种纸张、纸板、复合纸板等的厚度测定扩展应用:金属片、硅片——硅片、箔片、各种金属片等的厚度测定瓦楞纸板——瓦楞纸板的厚度测定纺织材料——各类纺织材料如编织织物、针织物、涂层织物等的厚度测定非织造布——各类非织造布如尿不湿、卫生巾、医用口罩等的厚度测定其它材料——固体电绝缘材料、胶黏带、土工合成材料、橡胶等的厚度测定GB/T6672机械测量法薄膜厚度测量仪_膜厚计膜厚测试仪技术指标:① C640M型号参数:测试范围(标配):0~2mm分辨率:0.1μm 重复性:0.8μm测量范围(选配):0~6、0~12mm测量间距:0~1000mm(可设定)进样速度:1.5~80mm/s(可设定)附加功能:自动进样机:可选配置DataShieldTM数据盾:可选配置GMP计算机系统要求:可选配置测量方式:机械接触式测量压力及接触面积:薄膜:17.5±1 kPa、50 mm2纸张:100±1 kPa(标准配置) / 50±1 kPa(可选配置)、200 mm2电源:220-240VAC 50Hz/120VAC 60Hz外形尺寸:370mm(L)× 350mm(W)× 410mm(H)净重:26kg② C640H型号参数:测试范围(标配):0~2mm分辨率:0.1μm 重复性:0.4μm测量范围(选配):0~6、0~12mm测量间距:0~1000mm(可设定)进样速度:1.5~80mm/s(可设定)附加功能:自动进样机:可选配置DataShieldTM数据盾:可选配置GMP计算机系统要求:可选配置测量方式:机械接触式测量压力及接触面积:薄膜:17.5±1 kPa、50 mm2纸张:100±1 kPa(标准配置) / 50±1 kPa(可选配置)、200 mm2电源:220-240VAC 50Hz/120VAC 60Hz外形尺寸:370mm(L)× 350mm(W)× 410mm(H)净重:26kg
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  • 膜厚计 400-860-5168转0199
    仪器简介:8500 Basic (标准型):μm/mil 单位、自动背光、上 / 下限警示、100 笔记忆、统计功能 (平均值 / 极大值 / 极小值 / 标准差)、1 组自定校正曲线、自动关机技术参数:测量范围:0...2000 μm (标准) 0...5000 μm (选配)分辨率:0.1 / 1 μm, 0.01mm适用底材:Fe 磁性底材, 钢, 铁 NFe 非磁性底材, 铝, 锌, 铜, 黄铜测量区域:20x20mm2底材厚度:Fe 0.2mm min. NFe 0.05mm min.搭配测头8500 磁性/非磁性/两用测头可任意换装为内建/外接式内存:100 笔主要特点:测量前素材归零即可,测头永久免校正符合 ISO / DIN / BS / ASTM 国际标准5 种模块化测头,可依测量范围选配内附专属连接线,测头可内建或外接可自行设定 1 组单/双点校正曲线超大型液晶高解析屏幕、附背光照明读值可翻转 180° 显示、操作便利性高红/绿双色 LED 显示操作/错误讯息4 向功能键附照明、单手操作极简便均附德国 PTB 国家标准可追溯证书可选配:QuaNix 软件、USB 传输线
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膜厚计相关的资讯

  • 长春光机所极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究获进展
    p  近日,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室金春水研究团队在极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究方面取得新进展:通过采用遗传算法,实现了Φ200mm曲面基底上极紫外多层膜膜厚分布控制精度优于± 0.1%,镀膜引起的不可补偿面形误差小于0.1nmRMS,相关指标达到国际先进水平。相关结果在线发表于近期的Optics Letters(dx.doi.org/10.1364/OL.40.003958)上。/pp  极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜,包括高反射率、低应力、高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜,必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制,以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。/pp  该研究团队采用遗传算法,完成了磁控溅射源特性参数的反演和用于控制膜厚分布的公转调速曲线的反演,避免了直接测量磁控溅射速率空间分布的繁琐过程,减少了极紫外多层膜膜厚控制工艺的迭代次数,大大降低了获得超高膜厚分布精度极紫外多层膜反射镜的工艺成本。/pp  该工作得到了“国家科技重大专项-02专项”项目经费的支持。/pp style="text-align: center "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201512/insimg/23f88bde-dfca-408c-bbba-0cd143198760.jpg" title="W020151215486777681302.png" width="600" height="225" border="0" hspace="0" vspace="0" style="width: 600px height: 225px "//pp style="text-align: center "长春光机所极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究获进展/ppbr//p
  • 化学所等发展直写高性能原子级厚二维半导体薄膜新策略
    二维(2D)半导体材料为将摩尔定律扩展到原子尺度提供了机会。与传统基于蒸镀和光刻技术的加工技术相比,印刷电子因成本效益、灵活性以及与不同衬底的兼容性而受到关注。目前,印刷的二维晶体管受到性能不理想、半导体层较厚和器件密度低的制约。同时,多数二维材料油墨通常使用高沸点溶剂,随之而来的问题包括器件性能退化、高材料成本和毒害性等,难以大规模应用。因此,发展简单且环保的策略对于制造低成本、大规模的打印二维材料功能器件具有重要意义。   中国科学院化学研究所绿色印刷院重点实验室宋延林课题组在二维原子级厚材料合成和图案化器件方面取得了系列进展,例如,二维MXene与纳米晶复合材料研究(J. Mater. Chem. 2022, 10, 14674-14691;Nano Res. 2022,DOI:10.1007/s12274-022-4667-x)、基于交替堆叠微电极的湿度传感微型超级电容器(Energy Environ. Mater. 2022,DOI:10.1002/eem2.12546)。   近日,化学所与清华大学、美国加州大学合作,提出了一种界面捕获效应打印策略。该策略使用低沸点水性超分散二维材料油墨,直写打印二维半导体薄膜阵列,无需添加额外表面活性剂,具体而言,通过对剥离的半导体2H-MoS2纳米片进行分级离心,获得了主要为双层厚度的窄分布纳米片;通过建立表面张力和组分比的三溶剂相图,确定了合适的油墨溶剂。印刷超薄图案(约3nm厚度)主要以单层或两层的MoS2纳米片连续均匀排列,并抑制了咖啡环,空隙率较低(约4.9%)。研究使用商用石墨烯作为电极,制备的晶体管在室温下显示出6.7 cm2V-1s-1的迁移率和2×106的开关比,超过了此前印刷MoS2薄膜晶体管的性能。基于此,科研人员制备了高密度(约47000个/cm2)印刷晶体管阵列。该界面捕获效应打印策略可应用于其他2D材料,包括NbSe2、Bi2Se3和黑磷,为印刷二维材料电子器件提供了新方法和新思路。   相关研究成果发表在Advanced Materials(DOI:10.1002/adma.202207392)上。研究工作得到国家自然科学基金、科技部、中科院、北京市科学技术协会及北京市自然科学基金的支持。界面捕获效应和超分散2D纳米片墨水打印原子级厚半导体薄膜器件
  • 中科飞测携首批设备椭偏膜厚量测仪入驻士兰集科
    p 首批设备进场!中科飞测椭偏膜厚量测仪正式搬入厦门士兰集科/pp 继士兰微电子12英寸特色工艺半导体芯片项目于5月10日宣布正式通电后,工艺设备也将开始陆续进场。5月20日,深圳中科飞测科技有限公司(以下简称“中科飞测”)椭偏膜厚量测仪作为首批设备,正式搬入厦门士兰集科微电子有限公司(以下简称“士兰集科”)。/pp 中科飞测是一家以在集成电路设备领域有多年经验的研发和管理团队为核心,自主研发和生产工业智能检测装备的高科技创新企业。同时,中科飞测也是目前国内唯一一家在Metrology(量测)和Inspection(缺陷检测)两大领域均在国内一线半导体制造厂商取得批量订单的半导体光学检测设备供应商。/pp 士兰集科由厦门半导体投资集团有限公司与杭州士兰微电子股份有限公司共同出资设立。根据规划,士兰集科将投资170亿元在厦门海沧建设两条12英寸特色工艺芯片生产线。/pp 2018年10月18日,士兰厦门12英寸特色工艺芯片生产线暨先进化合物半导体生产线在厦门海沧动工,这是国内首条12英寸特色工艺芯片制造生产线和下一代化合物生产线。2020年5月10日,士兰厦门12英寸特色工艺半导体芯片项目正式通电。随着该项目的正式通电,工艺设备将从5月中旬陆续进场,预计年底通线。/p

膜厚计相关的方案

膜厚计相关的资料

膜厚计相关的试剂

膜厚计相关的论坛

  • 【求助】湿膜厚度计选用

    我公司现在打算对LED中的管芯背胶厚度进行管控,可是找了几家卖仪器的都只能测涂层厚度(固化后的)和镀层厚度都属于固体测试厚度类别的。而我现在需要测试的是管芯后面涂敷的液体导电胶,此导电胶没有进行固化之前的厚度数据。管芯背胶的厚度大约2μm-4μm之间,测试的时候被测物体为液体。现在我想使用湿膜厚度计测试,请推荐一下符合该测试范围的仪器谢谢!

膜厚计相关的耗材

  • 显微分光膜厚测量仪
    产品特点:?优异的性价比,低价格却可达到相近于高端膜厚计的测量再现性。?中文化操作介面,入门简易、沟通无障碍。?提供完整测量教学、技术支援、点检校正等售后服务。?采用标准样品验证膜厚精度与再现性,确保追溯体制的完整。?显微镜聚焦下的微距口径测量。产品规格: 测量规格膜厚范围200nm~20μm波长范围400nm~780nm膜厚精度±1nm以内重复更现性(2σ)0.5nm以内选配品样品台尺寸200mm×200mm以内可容制化测量口径(10倍物镜时)Φ20μm、Φ40μm、Φ60μm电脑设备需支援至少三个USB以上之笔记型或桌上型电脑作业系统WindowsXP/7(32bit)测量物镜5倍、10倍、20倍软件功能膜质解析N:折射率、k:吸光系数膜厚测量法FFT法、波峰-波谷法、曲线近似法(Fitting)应用范围: 半导体晶圆膜、FPD薄膜材料、树脂膜、光阻膜、氧化膜、包装膜、光学镀膜、抗反射膜、透明或半透明膜层应用范例:Si基板上99.4nm的SiO2膜Si基板上1018.2nm的SiO2膜
  • 薄膜厚度测量系统配件
    薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型,不同光谱范围和光源,满足各种测量应用
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
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