射频等离子刻蚀清洗系统

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射频等离子刻蚀清洗系统相关的厂商

  • 公司坐落在美丽的、盛产“神湾菠萝”的中山市神湾镇,西临西江,东接珠三角环线高速,环境优美、交通便利;中山市枭射频科技有限公司是一家专业从事射频设备研发和销售的创新科技企业。公司重点专注于射频等离子清洗机(13.56MHz\27.12MHz\40.68MHz)、射频热封仪、射频美容仪、射频感应加热机、射频等离子源等研究发展方向,将秉持创新、专业、专注的企业精神,始终贯彻服务一流、稳定品质、超高性价比的发展战略和经营理念,立志做射频领域专业的设备供应商和服务商,期待您我的携手,谱写完美合作的篇章。
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  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 纳恩科技总部位于深圳市南山区,在香港设有研发分公司,公司专注于等离子材料表面处理和真空镀膜技术研发,目前主要产品包括真空等离子磁控溅射镀膜设备,离子溅射仪,等离子刻蚀设备,等离子表面处理设备,辉光放电仪等。 公司核心研发团队来源于香港大学等离子实验室,香港理工大学材料工程学院和美国佐治亚理工学院的微电子学院。团队成员有5年在硅谷开发先进半导体设备的经验,我们意识到许多现有的半导体等离子处理系统仍在使用十几年前的技术,并且价格昂贵。因此,我们决定将针对半导体行业和核研究开发的最先进的等离子技术引入经济实惠的等离子设备中。 自成立以来,纳恩科技围绕等离子处理系统所需核心电源及底层算法进行技术布局,不断拓展自主设计能力。目前已完成以MCU,ARM为核心的射频芯片开发平台,实现了芯片的结构化和模块化开发。 具有高精度模拟、网络阻抗匹配、功率驱动、功率器件、射频和底层核心算法的设计能力,可针对不同细分领域等离子处理系统需求,快速做出底层硬件组合,提高等离子系统的稳定性和效率。 纳恩科技成立至今已为清华大学、香港大学、华为2012实验室、北京大学、中国科学院、南方科技大学、美国康奈尔大学、宾夕法尼亚大学、等中外众多知名企业、大学研究机构提供过等离子处理设备和解决方案,并专注于发展面向未来新材料市场的应用技术,助力客户开发出激动人心的新工艺!
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射频等离子刻蚀清洗系统相关的仪器

  • 等离子清洗机作为一种微观固体表面的处理设设备,是一种全新的表面处理方案。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁等目的。KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机该清洗机内置高纯石英仓体,采用了新型的电极结构设计和固态电源技术,使其有效容积增大,不同真空 气体环境下容易匹配,且控制频率稳定。真空仓门有观察窗,可直观物体的处理过程,其射频电源与控制都组装在一个机箱内,即减少了空间的占用,更便于操作和放置,同时与大型清洗机相比较,从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作,特别适用科学实验 样品清洗 和教学。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机滚筒等离子清洗机针对粉末或者颗粒的360度表面处理设备,通过旋转机构带动石英搅拌罐使样品处于悬空位置达到360度清洗。设备型号KT-Z2DQXKT-S2DQXKT-Z5DQXKT-S2GQX供电电源AC220V(AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率1000W150W300W150w射频频率40KHz13.56MHz耦合方式电容耦合真空度≤50Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)2L(内径110MMX深度220MM)5L(内径160MMX深度310MM)φ100x200mm观察窗内径Φ50Φ50Φ70无气体流量10—100ml/min(其他量程可选)过程控制过程自动控制过程手动控制过程自动控制过程手动控制清洗时间自动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸150*500*250mm450*460*370mm530*580*420mm重量20kg35kg40kg40Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米,kf16卡箍2个,不锈钢网匣1个,电源线一根,说明书一本。
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  • 一、设备简介NE-PE60F是一款大型工业用真空等离子处理系统,设备配备大功率、大腔体、密度大、高稳定性,适用于大规模连续生产。设备采用进口品牌高性能真空泵快速产生超低的真空压强。同时根据客户工艺要求,对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体,采用进口高品质等离子发生器,使得通入的工艺气体产生等离子体,并确保稳定产生高密度,高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理,化学反应,可以实现不同的工艺功能,比如清洗,活化,刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 NE-PE60F 系统功能特点: &bull 耐用的高品质不锈钢结构和固定装置&bull 不锈钢托盘设计,可调节托盘间距&bull 8K镜面不锈钢腔体,卓越密封性&bull 13.56射频等离子发生器,产生高密度等高子体,确保出众的清洗效果;&bull 直观的触摸屏,过程参数实时监控。&bull 方便的定期校准设备连接验证过程中使用的要求&bull 支持各种工艺气体,包括氩气,氧,氢,氦和氟化气体&bull 通过联锁门或可移动的板&bull 高精度气体流量监测系统,两路工艺气体配置(氩气、氧气),双路气流控制,比例 可调,采用高精度电子质量流量计(MFC)、针阀、美国世维洛克气体管路设备参数序号项目型号规格参数1等离子体发生器功率0-500W可调抗辐射干扰高频匹配器自动阻抗匹配频率13.56 MHz2真空反应腔室腔体材质进口 316 镜面不锈钢,军工级密封腔体容积370(W)*450(D)*400(H)mm 60L单层有效处理面积W370mm x D370mm 电极板数量6层(可定制)真空测定系统(睿宝电阻真空硅管)皮拉尼高精密电阻式真空计绝缘陶瓷进口高频陶瓷3放电电极电极高导电铝合金专用电极电极间距可调整电极之间的距离,调整等离子体强度和密度,极大提升处理能力和效率4气路控制气体流量控制器MFC 气体质量流量计精确控制流量0-500ml/min气路设计腔体均匀进气气路设计,保证清洗均匀性气路数量配置2路工艺气路,可支持氧气,氩气,氮气,氢气,四氟化碳等5真空测量真空测定系统皮拉尼真空硅管 测量范围:1.0×10 5 ~1×10 -1 Pa6抽气系统真空泵油泵/无油干泵(选配)工作真空度30PA以内抽真空时间60s以内破真空时间≤15s真空管路不锈钢管路+气动阀门7控制系统PLC三菱PLC模块触摸屏7寸软件程序自主专利设计等离子控制系统8场务条件电源供应AC380V,50/60Hz,三相五线100A 气管接口直径8mm气体纯度99.99%压缩空气要求0.6~0.8MPa输入气压检测系统2路自动报警气压表排气口KF259整机参数整机功率4.5KW外形尺寸900mm(L)×960mm(W) ×1750 mm(H)重量400kg
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  • VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅射时间,5种材料可以溅射出不同组分的产物,选择5个等离子射频电源,可在同一时间溅射5种材料真空腔体中安装有旋转样品台,可以制作16个样品电源单相220 VAC, 50 / 60 Hz射频电源一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上,并与靶头相连接一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换可选购多个射频电源,同一时间溅射多个靶材。所有的溅射参数,都可由电脑设置直流电源(可选)可选购直流电源,来溅射金属靶材可配置5个直流或射频电源,来同时溅射5中靶材磁控溅射头 5个1英寸的磁控溅射头,带有水冷夹层可在本公司额外购买射频线电动挡板安装在溅射腔体内设备中配有一循环水冷机,水流量为10L/min (1) (2) (3) (4)溅射靶材所要求靶材尺寸:直径为25.4mm,最大厚度3mm溅射距离: 50 – 80 mm(可调)溅射角度: 0 – 25°(可调)配有铜靶和 Al2O3 靶,用于样品测试用可在本公司购买各种靶材实验时,需要将靶材和铜片粘合,可通过导电银浆粘合(可在本公司购买导电银浆)真空腔体 真空腔体采用304不锈钢制作腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)铰链式腔门,直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr (采用分子泵)样品台直径为150mm的样品台,上面覆盖一旋转台,带有10mm的孔洞,每次露出一个样品接收溅射成膜。样品台尺寸:Φ150mm,可通过程序控制来旋转,可制作16种不同组分的薄膜样品台可以加热,最高温度可达600℃真空泵设备中配有一小型涡旋分子泵真空泵接口为KF40石英振荡测厚仪(可选)可选购精密石英振荡测厚仪,安装在真空腔体内,实时测量薄膜的厚度,精确度为0.1 ?(需水冷)净重60kg质量认证CE认证质保一年质保期,终生维护应用注意事项此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜,所以不需要高真空的环境所用气瓶上必须安装减压阀(可在本公司购买),所用Ar气纯度为5N为了得到较好质量的薄膜,可以对基片进行清洗用超声波清洗机,用丙酮或乙醇作为清洗介质,清除基片表面的油脂,然后在N2气或真空环境下对基片干燥等离子清洗机,可使基片表面粗糙化,改变基片表面化学活性,清除表面污染物可在基片表面镀上缓冲层,如Cr, Ti, Mo, Ta,,可改善金属或合金膜的粘附性溅射一些非导电靶材,其靶材背后必须附上铜垫片本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜因为溅射头连接着高电压,所以用户在放入样品或更换靶材时,必须切断电源不可用自来水作为冷却水,以防水垢堵塞水管。应该用等离子水,或专用冷却介质
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射频等离子刻蚀清洗系统相关的资讯

  • 663万!华东师范大学反应离子束刻蚀系统、感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统项目
    项目编号:0773-2240SHHW0019项目名称:华东师范大学反应离子束刻蚀系统、感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统项目预算金额:663.0789000 万元(人民币)最高限价(如有):663.0789000 万元(人民币)采购需求:项目名称:华东师范大学反应离子束刻蚀系统、感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统项目包件1:反应离子束刻蚀系统;数量及单位:1台;简要技术参数:3、等离子体源3.1、射频发生器:最大功率300瓦,13.56MHz,带自动匹配单元;★3.2、ICP源发生器:最大功率3000瓦,2.0MHz,带自动匹配单元;包件2:感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统;数量及单位:1台;简要技术参数:★1、SiO2的标准沉积速率:≥40 nm/min;高速沉积速率:≥500 nm/min2、SiO2薄膜沉积厚度:≥6um。其余详见本项目招标文件。合同履行期限:自合同签订之日起250天内;本项目( 不接受 )联合体投标。
  • 第四场研讨会 | 如何结合等离子FIB刻蚀和激光烧蚀,更高效完成毫米级半导体失效分析
    主题:Faster mm-scale Semiconductor Failure Analysis byCombining Plasma FIB Milling and Laser Ablation 演讲人:Jozef Vincenc Obona 博士Jozef Vincenc Obona 是TESCAN ORSAY HOLDING公司半导体市场部的产品营销总监,获得Slovak Academy of Sciences (Slovakia) 低温电子学博士学位。他有多年从事半导体失效分析(生产线前端、后端和封装应用)的经验,并与半导体行业领袖一直保持沟通。他在FIB-SEM方面拥有超过13年的工作经验,在西班牙萨拉戈萨的阿拉贡纳米科学研究院(Instituto de Nanociencia de Aragon)、荷兰格罗宁根大学(University of Groningen)以及特温特大学(University of Twente)进行了5年的超短激光脉冲处理应用研究,拥有3项专利并发表了52篇论文。时间段1:3月24日, 下午4:00 –5:00 (北京时间)时间段2:3月25日, 上午2:00 –3:00 (北京时间)长期以来,提高性能和降低功耗是电子器件设计的基本要求,这需要通过器件构件(晶体管、存储单元等)的小型化、信号通路的减少(将多个组件集成在一个先进封装中)以及优化其它组件(包括显示器、射频、微机电系统和电池)来实现。开发新产品是一件非常具有挑战性的工作,快速失效分析(FA)有助于确定缺陷的基本原因并向研发人员提供有效的反馈,以保证产品的上市时间和可靠性。对封装、先进封装、显示器、射频、微机电系统以及电池进行快速失效分析时,往往需要在样品表面以下几百微米甚至于几毫米寻找缺陷位置。由于样品结构的特殊性,需要对样品进行大面积的刻蚀以制备出截面才能够对特定的缺陷位置进行分析。因此,近10年来等离子FIB被普遍使用在这个过程中并受到了行业的广泛认可。然而,近年来随着器件结构越趋复杂、缺陷深度显著增加以及必须更快速获得分析结果等原因,对等离子FIB的能力提出了更高的要求。使用激光烧蚀可以将前期制样速度提升数千倍,因此将激光烧蚀技术加入到等离子FIB工作流程中不仅可以更快获得高质量的分析结果,同时也开启与实验室中不同类型设备协同合作的新篇章。在本次研讨会上,将为您介绍 TESCAN 样品大体积制备的工作流程。使用不同尺寸的要求苛刻的样品进行演示,样品包括复杂器件和不导电硬质材料,您可以看到非常灵活的工作流程。我们将为您展示如何结合超高分辨扫描电镜成像系统快速进行没有伪影的样品制备并揭示样品的真实细节。点击“我要报名”立即报名参会吧!说明:为了让更多的用户可以参与到本次研讨会中,每一场研讨会都有两个时间段可供选,内容相同,与会者可自行选择报名参加其中一个时间段的研讨会。
  • CIF发布CIF扫描电镜等离子清洗机新品
    CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源,射频功率5-100W可调,自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器(MFC),精确测量自动控制气体流量,不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计, 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制,中英文互动操作界面电源/功率220V,50/60Hz,300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器, 氢气纯度﹥99.999%,输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保,终身维护创新点:CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用双等离子清洗源设计,自动切换,一机多用,清洗快速高效、低等离子体轰击损伤,核心部件采用国际一流品牌,保证设备优异的质量和稳定性。CIF扫描电镜等离子清洗机

射频等离子刻蚀清洗系统相关的方案

射频等离子刻蚀清洗系统相关的资料

射频等离子刻蚀清洗系统相关的论坛

  • 【原创】等离子清洗技术

    等离子原理概述:等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下可以以第四中状态存在,如地球大气中电离层中的物质。这类物质所处的状态称为等离子体状态,又称为物质的第四态。等离子体中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;分子解离反应过程中生成的紫外线;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。 等离子清洗/刻蚀技术是等离子体特殊性质的具体应用。等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应。等离子清洗技术在金属行业中的应用:金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层,在进行溅射、油漆、粘合、健合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。等离子清洗技术在电子电路及半导体领域的应用:等离子表面处理这门工艺现在正应用于LCD、LED、 IC,PCB,SMT、BGA、引线框架、平板显示器的清洗和蚀刻等领域。等离子清洗过的IC可显著提高焊线邦定强度,减少电路故障的可能性;溢出的树脂、残余的感光阻剂、溶液残渣及其他有机污染物暴露于等离子体区域中,短时间内就能清除。PCB制造商用等离子处理来去除污物和带走钻孔中的绝缘物。对许多产品,不论它们是应用于工业还是电子、航空、健康等行业,其可靠性很大一部分都依赖于两个表面之间的粘合强度。不管表面是金属、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的复合物,经过等离子处理以后都能有效地提高粘合力,从而提高最终产品的质量。等离子处理在提高任何材料表面活性的过程中是安全的、环保的、经济的。等离子清洗技术在塑料及橡胶(陶瓷、玻璃)行业中的应用:聚丙烯、PTFE等橡胶塑料材料是没有极性的,这些材料在未经过表面处理的状态下进行的印刷、粘合、涂覆等效果非常差,甚至无法进行。利用等离子技术对这些材料进行表面处理,在高速高能量的等离子体的轰击下,这些材料结构表面得以最大化,同时在材料表面形成一个活性层,这样橡胶、塑料就能够进行印刷、粘合、涂覆等操作。 等离子清洗/刻蚀机处理材料表面时,处理时的工艺气体、气体流量、功率和处理时间直接影响材料表面处理质量,合理选择这些参数将有效提高处理的效果。同时处理时的温度、气体分配、真空度、电极设置、静电保护等因素也影响处理质量。因此,对不同的材料要制定选用不同的工艺参数。等离子表面清洗:金属 陶瓷 塑料 橡胶 玻璃等表面常常会有油脂油污等有机物及氧化层,在进行粘接 绑定 油漆 键合 焊接 铜焊和PVD、CVD涂覆前,需用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。等离子清洗技术在半导体行业、航空航天技术、精密机械、医疗、塑料、考古、印刷、纳米技术、科研开发、液晶显示屏、电子电路、手机零部件等广泛的行业中有着不可替代的应用

  • 【求助】等离子刻蚀参数对实验结果的影响

    各位做过等离子刻蚀的同行们: 我是一个新手,在刻蚀聚苯乙烯小球的时候自己设置了几个参数,但是具体每个参数对实验结果的影响还不是很清楚,先列出来Icp(w);RF(w);Pressure(mT)等。希望大家给予指点,不胜感激

  • 如何去除透射样品腔长期累积的碳氢化合污染物?(透射等离子清洗机和等离子清洗透射样品杆的应用)

    如何去除透射样品腔长期累积的碳氢化合污染物?(透射等离子清洗机和等离子清洗透射样品杆的应用)

    透射系统拍高分辨,或者进行EELS等高端分析工作经常会遇到很麻烦的污染物,这些一部分是样品本身带有的可通过外置的等离子清洗机处理,另一部分也是现在比较难处理的就是透射系统样品腔内本身长期的碳氢化合物。等离子透射样品杆可以达到清洗效果,同时对样品以及透射系统本身没有任何的影响。 而非传统意义上等离子清洗用的是高能量的离子对样品特别是脆弱样品的破坏损伤,加热损伤等。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/07/201107062250_303575_1757238_3.jpg而透射使用的外置式等离子清洗机不但可以对市场上不同透射样品杆进行清洁外,还可以进行特殊样品的真空储存。这样怕氧化的样品或特殊样品不但可以进行等离子清洁外还可以进行真空保存。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/07/201107062257_303576_1757238_3.jpg

射频等离子刻蚀清洗系统相关的耗材

  • 微波等离子体清洗器配件
    微波等离子体清洗器配件是目前最为先进的等离子体清洗机,采用微波能量生产等离子体,在氧气或氩气以1-5torr的压力流经样品室时,微波能会有效地激发等离子体。等离子体清洗机配件产生的等离子体是电中性的高度电离的气体,这种等离子流经污染表面与之发生反应,污染表面自好清洗而不影响材料的大部分特性。与其他等离子产生方法不同,这款微波等离子清洗器使用2.45GHz的微波能,具有可调的的功率占空比和模拟功率调节功能。功率可调范围高达10-550瓦。使用该产品,可以获得更高的气压,更高的功率和更高的温度,当然,您将获得以前从未实现的更高的反应速度。微波等离子体清洗器配件特点微波等离子清洗技术是一种革命性的清洗方法。微波等离子清洗器本身价格不高,安全而易于使用,而且还节省空间。这种等离子体清洗机,微波清洗器不产生垃圾,不排放有毒有害的溶解物或气体,不需要独立的操作空间。是一种远远比化学清洗方法安全经济环保的清洗方式。我们提供三种规格的微波等离子体清洗器,这三款等离子体清洗机,微波清洗器的区别主要在于耐温玻璃样品室的容积大小。第一种等离子体清洗机,微波清洗器的样品室是直径4.1’’x6’’长,第二种等离子体清洗器是8’’x6’’x2’’,第三种是9’’x7’’x3’’。具有长方形样品室的清洗器都配有水冷系统可以控制温度,这样就可以清洗更多种类的器具而不必单位热损伤。微波等离子体清洗器配件配置:1.水循环浴;2.双气真空流动控制器:可与微波等离子清洗器联合使用的独立的器件,它的作用是按不同比例混合两种气体。该控制器包括为真空泵和水循环浴提供的功率输出,两个流量(0-5SCFM)计,两个压力计(0-60帕),一个真空压力计(0-30’’Hg)和一个开关;3.离子阱:该离子阱用于保护易损伤材料,如:激光二极管发光面,光刻胶等。该离子阱可以中和带电离子,从而只允许中性辐射物参与清洗使得易伤材料免于清洗伤害。
  • 等离子清洗机(电镜专用)
    功能:主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染,防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。外型尺寸: W 345mm, H 220 mm, D420 mm反应室尺寸: ? 80 mm, L270 mm气体供应: 流量控制型射频发生器: 40kHz/100 W真空泵: Leybold, Type S1.5 (1.5m3/h)控制方式: PCCE控制附件: TEM 专用舱门
  • 小动物无线射频识别系统RFID transponders for animals
    小动物无线射频识别系统RFID transponders for animals 无线射频识别技术应用于实验动物的管理领域,不仅安全而且高效。该系统由可植入电子标签(implantable RFID chip)、阅读器(reader)、多标签编程器(标签信息写入设备,可以兼容任何一个实验室信息管理系统)三部分组成。电子标签,长圆柱体形状,米粒那么大小,易于植入操作。货号产品名称规格BT-301Glass chip, for mouse,电子标签(芯片)24个BT-302Glass chip, for mouse200个BT-303Glass chip, for mouse1000个BT-304Glass chip, for rat24个BT-305Glass chip, for rat200个BT-306Glass chip, for rat1000个BT-307Hand held transponder reader,手持式阅读器个BT-308Chip provisioning station,标签编程器(标签信息写入器)个详情请电询
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