射频等离子刻蚀清洗系统

等离子清洗机作为一种微观固体表面的处理设设备，是一种全新的表面处理方案。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机该清洗机内置高纯石英仓体，采用了新型的电极结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空 气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验 样品清洗 和教学。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机滚筒等离子清洗机针对粉末或者颗粒的360度表面处理设备，通过旋转机构带动石英搅拌罐使样品处于悬空位置达到360度清洗。设备型号KT-Z2DQXKT-S2DQXKT-Z5DQXKT-S2GQX供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率1000W150W300W150w射频频率40KHz13.56MHz耦合方式电容耦合真空度≤50Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)2L(内径110MMX深度220MM)5L(内径160MMX深度310MM)φ100x200mm观察窗内径Φ50Φ50Φ70无气体流量10—100ml/min（其他量程可选）过程控制过程自动控制过程手动控制过程自动控制过程手动控制清洗时间自动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸150*500*250mm450*460*370mm530*580*420mm重量20kg35kg40kg40Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。

一、设备简介NE-PE60F是一款大型工业用真空等离子处理系统，设备配备大功率、大腔体、密度大、高稳定性，适用于大规模连续生产。设备采用进口品牌高性能真空泵快速产生超低的真空压强。同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理，化学反应，可以实现不同的工艺功能，比如清洗，活化，刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 NE-PE60F 系统功能特点： &bull 耐用的高品质不锈钢结构和固定装置&bull 不锈钢托盘设计，可调节托盘间距&bull 8K镜面不锈钢腔体，卓越密封性&bull 13.56射频等离子发生器，产生高密度等高子体，确保出众的清洗效果；&bull 直观的触摸屏，过程参数实时监控。&bull 方便的定期校准设备连接验证过程中使用的要求&bull 支持各种工艺气体，包括氩气，氧，氢，氦和氟化气体&bull 通过联锁门或可移动的板&bull 高精度气体流量监测系统，两路工艺气体配置(氩气、氧气），双路气流控制，比例 可调，采用高精度电子质量流量计(MFC)、针阀、美国世维洛克气体管路设备参数序号项目型号规格参数1等离子体发生器功率0-500W可调抗辐射干扰高频匹配器自动阻抗匹配频率13.56 MHz2真空反应腔室腔体材质进口 316 镜面不锈钢，军工级密封腔体容积370(W)*450(D)*400(H)mm 60L单层有效处理面积W370mm x D370mm 电极板数量6层（可定制）真空测定系统（睿宝电阻真空硅管）皮拉尼高精密电阻式真空计绝缘陶瓷进口高频陶瓷3放电电极电极高导电铝合金专用电极电极间距可调整电极之间的距离，调整等离子体强度和密度，极大提升处理能力和效率4气路控制气体流量控制器MFC 气体质量流量计精确控制流量0-500ml/min气路设计腔体均匀进气气路设计，保证清洗均匀性气路数量配置2路工艺气路，可支持氧气，氩气，氮气，氢气，四氟化碳等5真空测量真空测定系统皮拉尼真空硅管 测量范围：1.0×10 5 ～1×10 -1 Pa6抽气系统真空泵油泵/无油干泵（选配）工作真空度30PA以内抽真空时间60s以内破真空时间≤15s真空管路不锈钢管路+气动阀门7控制系统PLC三菱PLC模块触摸屏7寸软件程序自主专利设计等离子控制系统8场务条件电源供应AC380V,50/60Hz，三相五线100A 气管接口直径8mm气体纯度99.99%压缩空气要求0.6~0.8MPa输入气压检测系统2路自动报警气压表排气口KF259整机参数整机功率4.5KW外形尺寸900mm(L)×960mm(W) ×1750 mm(H)重量400kg

VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅射时间，5种材料可以溅射出不同组分的产物，选择5个等离子射频电源，可在同一时间溅射5种材料真空腔体中安装有旋转样品台，可以制作16个样品电源单相220 VAC, 50 / 60 Hz射频电源一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上，并与靶头相连接一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。所有的溅射参数，都可由电脑设置直流电源（可选）可选购直流电源，来溅射金属靶材可配置5个直流或射频电源，来同时溅射5中靶材磁控溅射头 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层可在本公司额外购买射频线电动挡板安装在溅射腔体内设备中配有一循环水冷机，水流量为10L/min (1) (2) (3) (4)溅射靶材所要求靶材尺寸：直径为25.4mm,最大厚度3mm溅射距离: 50 – 80 mm（可调）溅射角度: 0 – 25°（可调）配有铜靶和 Al2O3 靶，用于样品测试用可在本公司购买各种靶材实验时，需要将靶材和铜片粘合，可通过导电银浆粘合（可在本公司购买导电银浆）真空腔体 真空腔体采用304不锈钢制作腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）样品台直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜样品台可以加热，最高温度可达600℃真空泵设备中配有一小型涡旋分子泵真空泵接口为KF40石英振荡测厚仪（可选）可选购精密石英振荡测厚仪，安装在真空腔体内，实时测量薄膜的厚度，精确度为0.1 ?（需水冷）净重60kg质量认证CE认证质保一年质保期，终生维护应用注意事项此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的环境所用气瓶上必须安装减压阀（可在本公司购买），所用Ar气纯度为5N为了得到较好质量的薄膜，可以对基片进行清洗用超声波清洗机，用丙酮或乙醇作为清洗介质，清除基片表面的油脂，然后在N2气或真空环境下对基片干燥等离子清洗机，可使基片表面粗糙化，改变基片表面化学活性，清除表面污染物可在基片表面镀上缓冲层，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金属或合金膜的粘附性溅射一些非导电靶材，其靶材背后必须附上铜垫片本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜因为溅射头连接着高电压，所以用户在放入样品或更换靶材时，必须切断电源不可用自来水作为冷却水，以防水垢堵塞水管。应该用等离子水，或专用冷却介质

产品说明本产品是本公司全新自主研发的桌面式射频等离子清洗机. 全系列射频工作频率13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz，功率等级从100W-300W；并且相配套的匹配器也采用全自动匹配器算法，大大简化人工调谐的复杂度；它可以成为您在科研、小批量试产中进行材料表面处理、更高效清洁的好帮手。 它采用304不锈钢腔体，容量高达5.3L；拥有直径100mm大尺寸可视窗口，让您对每一个工艺瞬间都能直观的了解；工作频率为27.12MHz（每秒振荡次数高达2700万次），这是保证真空高效清洗的前提，通过试验发现清洗效果远远优于直流、中频等常规清洗机；它广泛应用于手机屏幕、仪表光学镜片等精密部件的高效清洗，也可用于材料表面的亲水性处理；总之，相信在您的研究下，这款产品定能为您的每一个新的工艺和配方展现它完美的表现，期待您的使用。产品特点1) 本产品在集成化和小型化方面具体很强的优势，相对于同等频率、功率、容量等条件下；2) 采用7寸大尺寸触摸屏控制，轻松实现人机交互，减少复杂的机械按键和旋钮操作；3) 面板仅保留一个电源开关，其他的控制全部交给触摸屏实现，简单易学、直观明了；4)两路浮子流量计保证工艺气体要求的多样性；5) 集成触摸屏控制真空泵、气路、破真空的开启和关闭；6) 通过触摸屏可以任意设置射频功率、工艺时间、工作真空度，并具有设定参数记忆功能，避免重复性工作；7) 内部集成自动匹配器，简化不同工艺条件下繁琐的匹配手动调节；8) 内部集成数显真空计、功率计和定时器，实时监控真空度、功率值和工艺时间，让您对所有的工艺参数了如指掌；9) 日期和24小时制时钟显示，提醒勤奋的您也要记得小憩片时；10) 工艺处理完成后自动安全关闭所有部件并伴有声音报警，提醒您是时候开舱检验您的工艺效果了；技术参数产品型号 (RPC-1305\2705\4005)主要部件部件名称参数指标控制系统集成触摸屏7寸电阻触摸屏等离子激发电容耦合式（CCP）工作时间0-9999s（任意设定）真空腔体腔体容量5.3L腔体尺寸内径：150mm 长度：300mm腔体材质304不锈钢舱门铝合金舱门（配不锈钢铰链）样品支架铝合金筛板，厚度：3mm射频源信号频率13.56MHz、27.12MHz 、40.68MHz±0.005%功率范围0-100W任意设定（功率等级200W/300W可选）功率稳定度±0.1%匹配器匹配类型全自动匹配匹配时间≤3s气路气体测量浮子流量计气体通道2通道气体1量程10～100ml气体2量程10～100ml气路接头外径：6mm气管真空真空测量集成数显真空计真空泵类型双极旋片泵式抽气速率2L/s（4L/s可选）极限真空度0.067Pa抽气接口KF16-不锈钢波纹管整机整机功率1kW整机总尺寸580(L) *715(D)* 240(H)mm；（其中舱门+拉手+接头：195mm； 防滑底座：10mm）整机重量24kg（不含真空泵及配件）工作电压220Vac 50/60Hz工作环境-10℃ -- 40℃冷却方式强制风冷

PTL真空等离子系统致力于为航空航天、国防军工、汽车工业、半导体制造、纺织技术、电子微电子、生物工程、医学医疗、塑料橡胶、科研开发等行业客户提供解决方案，以帮助客户提高产品质量、提升生产效率，同时降低对环境的不良影响。 PTL的等离子清洗和等离子刻蚀设备。采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。 PTL等离子表面处理系统的特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率最大化，同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路，可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8/12英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology与曼彻斯特大学诺奖得主Andre Geim课题组联合研发了台式超二维材料等离子软刻蚀系统- nanoETCH。与传统的刻蚀方案相比，nanoETCH在石墨烯和2D材料的关键加工中表现出了很高的性能。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，还可对石墨基材等进行表面处理。该系统性能已经在剑桥大学石墨烯中心、曼彻斯特大学、英国石墨烯中心、西班牙光子科学研究所等诸多用户实验室得到验证。该系统可刻蚀3英寸或更大尺寸的样品，样品放置在专门设计的样品台上，低功率毫瓦精细控制的射频单元提供高精度的刻蚀功率，分子泵高真空系统可确保样品免受污染。应用方向举例：石墨基材的处理：表面处理，更有利于剥离出大面积的石墨烯微纳刻蚀：去除石墨烯，对其他区域无损伤缺陷加工：在石墨烯层中制造点缺陷主要特点：◎ 软刻蚀功率：30W 高精度射频源◎ MFC-流量计控制◎ 3英寸、6英寸样品台◎ 全自动触屏操作系统◎ 设定、保存多个刻蚀程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 本底真空5×10-7 mbar◎ 易于维护◎ 完备的安全性设计◎ 兼容超净室◎ 稳定的性能表现系统选件：◎ 机械泵类型可选◎ 腔体快速充气◎ 超高精度射频源控制◎ 高精度气压控制◎ 增加过程气体发表文章Detection of individual gas molecules adsorbed on grapheneSchedin, F., et al. Nature Materials 2007 DOI: 10.1038/nmat1967作者报到了由石墨烯制成的微米大小的传感器能够检测到单个气体分子附着在传感器表面的情况。Moorfield nanoETCH软刻蚀技术用于清洗放置石墨烯的衬底，并用于将石墨烯蚀刻到所需的(霍尔棒)器件结构。相关设备：Moorfield nanoETCH Chaotic dirac billiard in graphene quantum dotsPonomarenko, L. A., et al. Science 2008 DOI: 10.1126/science.1154663作者利用石墨烯雕刻出各种大小的量子点。大型量子点(100nm)表现为传统的单电子晶体管。另一方面，对于较小的量子点，量子限制效应显示出了作用。Moorfield“软蚀刻”技术用于制备石墨烯的石墨基材的处理，以及将石墨烯蚀刻成量子点结构。相关设备: Soft-Etching systems Vertical field-effect transistor based on graphene–WS2 heterostructures for flexible and transparent electronicsGeorgiou, T., et al. Nature Nanotechnology 2012 DOI: 10.1038/nnano.2012.224垂直场效应晶体管是由二维材料石墨烯和二硫化钨重叠而成。这种器件中特的传输机制允许前所未有的电流调制和高电流密度。Moorfield软蚀刻技术用于处理衬底表面，对器件的制备进行刻蚀。相关设备: Soft-Etching systems Graphene-based mid-infrared room-temperature pyroelectric bolometers with ultrahigh temperature coefficient of resistanceSassi, U., et al. Nature Communications 2017 DOI: 10.1038/ncomms14311作者报告了石墨烯作为非冷却式中红外光电探测器的一部分的使用，其中LiNbO3晶体的热释电响应以高增益(高达200)转换为石墨烯的电阻率调制。nanoETCH系统是这项工作的关键部分，它既可用于将石墨烯蚀刻成所需的图案，也可用于修改单片石墨烯以提供超低接触电阻。相关设备: nanoETCH用户单位：剑桥大学曼彻斯特大学西班牙光子科学研究所

台式小型机，PLC人机自动控制，简单易用，适用于实验室及小批量工业生产中材料表面清洗、蚀刻、活化等工艺。提供三种功能配置：1. 常规的等离子清洗和等离子刻蚀2. 反应离子刻蚀（RIE）3. 可转换结构（包含可以进行各向同性和各向异性的等离子工艺）可拆卸的托盘构造。等离子刻蚀机技术参数：设备型号：PE-100腔体尺寸：长方形腔体，长度305 x深度368 x高度305mm；腔体材质：T-6铝合金一体成型；腔体容积：34升；射频电源：13.56MHz；0~300W自动调节；工作压力范围：1-2000 mT；气体流量控制：0-50cc/min带精密针阀；皮拉尼真空计： 0-1Torr；

美国Trion Technology等离子刻蚀、等离子刻蚀机反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积小、成本低而著称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion等离子刻蚀机、等离子去胶机、RIE等离子刻蚀机、微波等离子去胶机、plasma stripper 等离子刻蚀机- 低损伤去胶系统新式去胶系统的成本已攀升到不合理水平，但Trion已通过两套价格低廉、紧凑的多功能系统使这一关键问题得到解决：Gemini和Apollo。利用ICP(电感耦合等离子)、微波和射频偏置功率，可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求，每套系统可以结合SST-Lightning 微波源(既可靠又没有任何常见的微波调谐问题) 或ICP 技术。等离子刻蚀机刻蚀速率高达6微米/分 高产量等离子损伤低 自动匹配单元适用于100mm 到300mm 基片 设备占地面积小价格具竞争性 等离子刻蚀刻蚀/沉积　Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统包含：等离子刻蚀机、等离子去胶机、RIE等离子刻蚀机、微波等离子去胶机、plasma stripper

Diener等离子表面处理设备 德国原装进口德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术领先者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的优质产品，以保证性能技术稳定。 德国diener等离子表面处理设备特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求 等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。 高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率最大化，同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。 特有的过载、短路和过热保护电路，可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。德国diener等离子表面处理设备的应用范围： 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。 清洗半导体元件、印刷线路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉积凝胶的基片。 高分子材料表面修饰。 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 煤、石棉灰化。 Diener Plasma 低压/真空等离子表面处理/清洗/蚀刻机 Tetra100 主要技术参数：基本配置：根据具体组件/选装件，外壳规格会有所不同腔室容积：根据具体版本，分为 80 - 100 升供电电源： 230 V 或者 400 V / 3 相位气源质量流量控制器 (MFCs)真空腔室圆形不锈钢件，配有铰链的门（约 ? 400 mm、长 625 mm）矩形不锈钢件，配有铰链的门（约宽 400 mm x 高 400 mm x 深 625 mm）装载件产品支架（选项：水冷型）、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃电极单层或多层具有气体喷淋的 RIE 电极控制系统PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)压力测量PiraniBaratron（适用于腐蚀性气体版本）计时器数字型发生器频率： 40 kHz: 功率 0 - 1000 W；0 - 1500 W；0 - 2500 W13.56 MHz: 功率 0 - 300 W；0 - 600 W；0 - 1000 W2.45 GHz: 功率 0 - 1200 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵规格和制造商均各有不同（按照活性炭过滤器的需要）其他选项备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、Faraday Box、等离子体聚合配件、测试墨水、 氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装，包括培训。可应要求提供的其他选项。 上海尔迪仪器科技有限公司 中国总代理

产品详情德国Diener等离子清洗机Zepto,Atto,Femto,Pico,Nano,PlasmaBeam德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术领先者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的最优质产品，以保证性能技术稳定。德国diener等离子表面处理设备特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率最大化，同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路，可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。德国diener等离子表面处理设备多种系列： Diener等离子表面处理设备 PICO PCCE 全自动 主要技术参数： *全自动PCCE控制系统,可存储50套程序。*根据工艺要求不同，可设定真空泵启动与停止、发生器的功率、反应腔体压强、气体流量与时间等参数双路工作气体，MFC质量流量计*反应舱为方形铝制腔体w: 150 mm, h: 160 mm, d: 325 mm带有铰链门，门带有观察窗。*发生器100 kHz, 0 – 500 W连续可调，反射波自动调节。电极材质为铝制。真空泵抽气能力8m3/h*配有压力传感器，实时显示压力值电源电压：单相AC230V 16A 配置清单： 数量备注主机一台Diener PICO真空泵（国内采购）一台VRD-8油泵电源线一根2mm操作说明书一本 操作面板

品牌：PIE型号：Tergeo EMTergeo EM型SEM及TEM样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪美国PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。专为去除SEM & TEM样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品，从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品，如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的TEM样品杆。特点：1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化2. 13.56MHz高频射频发生器3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作4. 标配75W版本，可选150W版本5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的专用适配器7. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)除了Tergeo EM型SEM & TEM样品清洁专用等离子清洁仪，另有Tergeo Basic基本型等离子清洁仪和Tergeo Plus型大腔室等离子清洁仪三、技术参数1、控制系统1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。 2）程序控制：可编程，总共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤2、反应腔体1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱。2）腔体尺寸：内径110毫米，外径120毫米，深度280毫米，壁厚：5毫米。 3）前观测窗：前方开口，5毫米厚石英玻璃可视窗口，可观测内腔等离子状态，并带有防真空泄漏和避免高压的联锁装置，有效保护操作的安全性；3、射频电源 1）射频频率：13.56MHz 2）射频功率：标配0~75W；可选配0~150W。从0瓦到150瓦之间以1瓦间距连续可调，自动阻抗匹配。3）射频输出可以工作在脉冲方式，脉冲比可以从1/255调到255/255（连续输出）。 4、等离子源1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。2）电阻耦合电离方式。 3）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。5、气体控制 1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC； 2）质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量； 3）一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。 4）自动放气流程控制可以保护真空泵不受影响。 5）高性能气压计可以测量1e-4 Torr到大气压之间的气压。 6）6mm气体接口。6、真空系统1）KF25法兰接口用来连接真空泵。 2）真空要求：抽速：1.7m3/h；3）最低气压：=200mTorr.

Tucano是一种台式等离子系统，专为表面清洁，改性和活化而设计。系统特别设计用于等离子体表面处理包括光刻胶灰化, 有机物去除, 清洗, 活化, 改性, 沉积和刻蚀, 具有功能多, 易操作性强, 全自动化无需调试, 可靠性高, 低成本等优点, 广泛应用于半导体制造, 微电子加工, 生命科学制造和前处理等。用户友好的图形界面与高效的RF系统相结合，使Tucano成为小型生产或研发环境的简单通用解决方案。应用程序示例1.半导体制造?光刻胶去除（剥离）及其残留物（去除浮渣）。?有机焚烧（灰化），各向同性去除有机聚合物（如聚酰胺等）和氧化硅/氮化物。?引线键合前的清洁或表面改性（粘合剂广告和芯片载体）?各向同性蚀刻2.光学和眼科工业洗涤后的原子水平清洗和预处理，以提高防眩涂层的附着力，耐刮擦 聚合层划伤和防雾。3.纺织工业清洁和表面改性，以便在天然或合成纤维上染色或印花之前获得亲水表面。（仅用于研发目的，不适用于大规模生产）4.生物医药表面清洁和改性适用于以下应用：?植入装置（增加润滑性，加快骨整合）?不同材料（如注射器针头，导管等）之间的粘接?在典型的工业清洁循环后，从有机残留物中进行最终的超细原子级清洁?接触式和人工晶状体。?支架?样品瓶?对敏感塑料材料进行灭菌5.精密机械工业洗涤后在金属和陶瓷表面的原子水平进行清洁以改善可涂漆性或其他类型的涂层（例如PVD）。6.塑料工业用于润湿性和不可润湿性的表面清洁和改性?粘接，焊接或涂装/印刷前的表面清洁?喷漆，印刷前表面活化?表面氟化，增强功能?交联和表面聚合工作原理Tucano采用先进的PLC和LCD彩色触摸屏显示器实现全自动化。 使用该系统，可以直接在系统组件上操作，或让PLC根据用户可编辑的配方执行过程。通过使用质量流量控制器（MFC）将一种或多种处理气体引入处理室。 RF射频被引入腔室 与气体分子相互作用，该信号产生等离子体。产生的等离子体提供作用于待处理的基板表面的单层的反应性离子物质。 可以通过影响等离子体状态的参数（气体流量和频率强度）来改变所得到的过程。产品功能台式等离子系统，简单而通用?最多可处理十种不同的可编辑配方?一致结果的一致性?数据记录功能?长期可靠性?使用的主要品牌组件，如真空泵、仪表和质量流量控制器（MKS仪器）?可调节的RF功率水平，范围为1W至200W

NE-PE150F是一款大型工业用真空等离子处理系统，设备配备大功率、大腔体、密度大、高稳定性，适用于大规模连续生产。设备采用进口品牌高性能真空泵快速产生超低的真空压强。同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理，化学反应，可以实现不同的工艺功能，比如清洗，活化，刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 公司简介纳恩科技始创于2010年，总部位于深圳市，在香港设有研发分公司，是一家专注于等离子材料表面处理、真空镀膜技术和高端智能装备研发，制造和销售的高科技公司。目前主要产品包括真空等离子清洗机，大气等离子清洗机，磁控溅射镀膜设备，离子溅射仪，等离子刻蚀设备，等离子表面处理设备，辉光放电仪等。公司核心研发团队来源于香港大学等离子实验室，香港理工大学材料工程学院和美国佐治亚理工学院的微电子学院。自成立以来，纳恩科技围绕等离子处理系统所需核心电源及底层算法进行技术布局，不断拓展自主设计能力。目前已完成以MCU，ARM为核心的射频芯片开发平台，实现了芯片的结构化和模块化开发。 具有高精度模拟、网络阻抗匹配、功率驱动、功率器件、射频和底层核心算法的设计能力，可针对不同细分领域等离子处理系统需求，快速做出底层硬件组合，提高等离子系统的稳定性和效率。公司着眼于全球化的战略布局，目前在北京、上海、成都，厦门均设立办事处，在新加坡，慕尼黑设有办公联络处。纳恩科技以前沿的创新理念、领先的核心技术在我国高端制造装备行业扮演着关键角色，公司坚持肩负“推动产业进步、保障国防安全、提升生活品质” 这一神圣使命，致力成为全球领先的等离子技术处理方案供应商，在世界高科技舞台的同场竞技之中，续写中国等离子产业发展的新传奇！设备主要尺寸

Tergeo系列刻蚀灰化仪_等离子体表面处理仪Tergeo Basic基本型等离子清洁仪来自美国PIE Scientific出品的小型台式等离子清洁仪，可以用来清洁纳米级样品、蚀刻光刻胶、激活聚合物表面功能团、获得亲水或疏水性，增强粘合强度以及可印染性、促进医学器件生物相容性，Tergeo系统集成了常规的浸入式清洗模式和特有的远程清洗模式。可用于煤的灰化。注：针对煤的灰化用途，覃思科技为PIE Scientific指定的中国独家代理商。特点：1. 标配浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻以及煤的等离子低温灰化；可选双等离子源，其远程等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。（注Tergeo EM标配双源）2. 13.56MHz高频射频发生器，3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作4. 标配75W版本，可选150W版本5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入6. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)除了基本型的Tergeo系列刻蚀灰化仪_等离子体表面处理仪之外，另有Tergeo Plus和Tergeo Pro大腔室等离子清洁仪和Tergeo EM型SEM & TEM样品及TEM样品杆清洁专用等离子清洁仪，欢迎选购！

PCE-8等离子清洗机是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为 Ø 8.5"×12"的石英腔体，采用的射频电源功率0- 100W连续可调节，采用的射频为13.56MHz。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。在单晶材料外延薄膜生长以前对其进行预处理，将对生长具有显著的作用。PCE-8等离子清洗机配有一个直连式双旋真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等保护气体，适用于对易氧化的物品的清洗。1、采用6"彩色触摸屏，可控制射频功率、清洗时间、气体流量、真空泵的开启等。2、内部配有0-500mm/min的质量流量计，可以精确地控制进气流量。产品名称PCE-8等离子清洗机产品型号PCE-8主要参数1、电源：AC220V2、射频功率：最大100W，可在0-100W间调节3、真空泵功率：500W4、总功率：600W5、射频：13.56MHz6、等离子腔体：高纯石英腔体，外径Ø 8.5"，内径Ø 8.2"，长12"，采用铝制折叠式法兰进行真空密封，法兰设有一个Ø 60mm的观察窗口7、极限真空度：50mtorr8、通入气体：可通入多种气体，如N2、Ar、Air、H2、O2和混合气体等等（根据材料性质所定）清洗及蚀刻产品规格尺寸：620mm×450mm×600mm可选配件 1、300W、600W射频电源（进行等离子刻蚀和等离子灰化等实验）2、2"-6"石英舟（盛放基片）3、2-4通道浮子混气系统4、2-4通道质子混气系统5、直连式双旋真空泵（240L/min）6、KF25波纹管7、KF25手动挡板阀

VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜 技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵）等离子源一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内(点击图片查看详细资料）磁控溅射头一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为50mm,最大厚度6.35mm一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）同时可选配1英寸溅射头真空腔体真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵） 10-5 torr （采涡旋分子泵）载样台载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）旋转速度：1 - 20 rpm样品的最高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售薄膜测厚仪一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据外形尺寸 质保和质量认证一年质保期，终生维护CE认证使用注意事项这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内

仪器简介： 国产PDC系列等离子清洗（处理）机是一种表面处理设备, 用气体作为处理介质，它是利用能量转换技术以电能将气体转换为化学反应性和活性很高的气体等离子体，等离子体对固体样品表面进行相互作用，引起分子结构改变，从而对样品表面的有机污染物进行超清洗和使样品表面改性，以获得希望的表面特性。用气体作为处理介质有效地避免了对环境和样品带来的二次污染。等离子清洗器外接一台真空泵，工作时气体等离子体轻柔冲刷样品的表面，短时间就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗能力达到分子级。等离子清洗器可对样品的表面改性，加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也可对样品消毒和杀菌。 国产PDC系列等离子清洗机是针对国外等离子清洗器价格贵,难以推广等缺点,吸取了现有国内外等离子清洗机的优点,结合中国用户的需求和使用习惯,利用现代先进的科技手段而开发生产出的新型系列等离子清洗机。它除具有一般等离子清洗机的优点外，更具有性价比高，使用成本低，特别易于维护的优点，而且可选性极强，可以满足各种用户不同使用目的对设备的特殊需求。清洗舱的材料有耐热玻璃、不锈钢可选；不锈钢清洗舱有圆形、方形可选；清洗舱的尺寸可根据用户的实际需要制定；清洗舱中工装支架可根据用户清洗件的尺寸量身定做。技术参数：型号规格：PDC－MG1.整机规格：500×300×300（长×宽×高）mm2.整机重量：35 Kg3.清洗舱规格：Φ165×L210 mm (耐热玻璃)4.清洗舱有效容积：4.5 L5.输入电源：220 V／50 Hz6.整机输入功率：400 W7.射频输出：0～150 W（连续可调）8.射频频率：13.56 MHz9.数字式定时器范围：0～99.99 min10.极限真空度：60 Pa11.二路浮子流量计：0.2~1.5L/min量程，方便二种气体按比例混合12.观察窗：观察清洗仓内辉光状态13.常用工作气体：空气、氩气、氮气或混合气体型号规格：PDC－BGS整机规格：600×550×1280（长×宽×高）mm整机重量：120 Kg反应舱规格：Φ240×L340 mm (耐热玻璃)反应舱有效容积：15 L输入电源：380（三相）V／50Hz整机输入功率：2000 W（含真空泵）射频功率：0～400Ｗ（连续可调）射频频率：13.56 MHz数字定时器：0～99.99 min极限真空度：50 Pa二路浮子流量计：0.2～1.5 L／min 量程，方便二种气体按比例混合观察窗： 观察清洗舱内辉光状态常用工作气体： 空气、氩气、氮气或混合气体等 型号规格：PDC－BGM整机规格：600×600×1400（长×宽×高）mm整机重量：300 Kg反应舱规格：380×380×380（长×宽×高）mm(不锈钢)反应舱有效容积：50 L输入电源：380（三相）V／50Hz整机输入功率：2000 W（含真空泵）射频功率：0～400Ｗ（连续可调）射频频率：13.56 Hz数字定时器：0～99.99 min极限真空度： 50 Pa浮子流量计： 0.1～1.6 L／min 量程观察窗： 观察清洗舱内辉光状态常用工作气体： 空气、氩气、氮气或混合气体等型号规格：PDC－BGL整机规格：750×780×1660（长×宽×高）mm整机重量：400 Kg反应舱规格：600×470×470（长×宽×高）mm(不锈钢)反应舱有效容积：110 L输入电源：380（三相）V／50Hz整机输入功率：2500 W（含真空泵）射频功率：0～1000Ｗ（连续可调）射频频率：13.56 MHz数字定时器：0～99.99 min极限真空度： 50 Pa浮子流量计： 0.1～1.6 L／min 量程观察窗： 观察清洗舱内辉光状态常用工作气体： 空气、氩气、氮气或混合气体等 可根据用户需要设计制作国产专用等离子清洗及处理设备。主要特点：整机一体化、结构紧凑、安装方便。常温条件下对样品进行非破坏性超清洗。彻底清除样品表面的有机污染物。气体清洗介质使样品清洗后无二次污染。设备操作简单方便，使用成本极低，易于维护。具有表面清洗、表面活化、表面刻蚀和表面沉积的功能。应用领域：LED、LCD、PCB、触电子生产领域中的超清洗。移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装殛粘和。涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。

PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 ?160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率为3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。PCE-6小型等离子清洗机体积小，占用的空间少，可有效节约实验室空间。PCE-6小型等离子清洗机配有一个双旋真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等气体，适用于对易氧化的物品的清洗。1、通过控制面板的按键及开关，可控制调节射频功率、真空泵的开闭、清洗时间。2、时间、功率、真空度等信息显示在一组4位数码管上。3、设有一个三通阀，可精确控制进气流量，以及大气流清洗腔体，进气接口为6mm卡套接口。4、选用大功率射频电源设备可进行等离子刻蚀和等离子灰化实验。产品名称 PCE-6小型等离子清洗机产品型号 PCE-6主要参数 1、电源：AC220V 50/60Hz2、输出功率：7.2W、10.2W、29.6W3、真空泵功率：500W4、总功率：600W5、射频频率：3.0MHz，功率3档可手动调节6、等离子腔体：高纯石英腔体?160mm×190mm，采用铝制折叠式法兰进行密封，法兰上设有?45mm的观察窗7、真空泵：120L/min，直连式双旋真空泵8、极限真空度：50mtorr9、通入气体：可通入多种气体来产生等离子，如N2、Ar、H2、O2、Air和混合气体等（根据材料性质选定）清洗及蚀刻产品规格 尺寸：400mm×300mm×300mm重量：10.2kg可选配件 1、2"-6"石英舟（盛放基片）2、2-4通道质子或浮子混气系统

PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Ø 160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率为3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。PCE-6小型等离子清洗机体积小，占用的空间少，可有效节约实验室空间。PCE-6小型等离子清洗机配有一个双旋真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等气体，适用于对易氧化的物品的清洗。1、通过控制面板的按键及开关，可控制调节射频功率、真空泵的开闭、清洗时间。2、时间、功率、真空度等信息显示在一组4位数码管上。3、设有一个三通阀，可精确控制进气流量，以及大气流清洗腔体，进气接口为6mm卡套接口。4、选用大功率射频电源设备可进行等离子刻蚀和等离子灰化实验。产品名称 PCE-6小型等离子清洗机产品型号 PCE-6主要参数 1、电源：AC220V 50/60Hz2、输出功率：7.2W、10.2W、29.6W3、真空泵功率：500W4、总功率：600W5、射频频率：3.0MHz，功率3档可手动调节6、等离子腔体：高纯石英腔体Ø 160mm×190mm，采用铝制折叠式法兰进行密封，法兰上设有Ø 45mm的观察窗7、真空泵：120L/min，直连式双旋真空泵8、极限真空度：50mtorr9、通入气体：可通入多种气体来产生等离子，如N2、Ar、H2、O2、Air和混合气体等（根据材料性质选定）清洗及蚀刻产品规格 尺寸：400mm×300mm×300mm重量：10.2kg可选配件 1、2"-6"石英舟（盛放基片）2、2-4通道质子或浮子混气系统

Tergeo等离子清洗机特 征: ● 模式：直接浸泡式等离子清洗可以高速刻蚀和表面改性； 远程等离子体可以轻微的清除表面污染，如SEM/TEM样 品清洗● 操作：自动配方执行；自动作业顺序执行；亦手动控制● 等离子传感器：双等离子强度传感器（专利申请中）实时监测 等离子源和远程等离子源且等离子强度实时显示LCD触摸屏上 ● 先进工艺控制：压力传感器、温度传感器、MFC气体流量计、双等离子强度传感器、自动阻抗匹配 ● 腔体材料：铝法兰，石英腔体● 石英腔体尺寸：内径：110mm；深280mm ● 样品架：2mm厚高纯度石英板 ● 射频天线：外部射频电极和天线设计减少了内部金属电极 在等离子清洗机中发现的金属溅射问题 ● 射频功率：13.56mhz射频电源，自动阻抗匹配 射频功率有两种选择：0-75watt和0-150watt● 工艺气路：高达三个MFC气路 ● 用户界面：7寸电阻式触摸屏● 软件：总共20个可定制的配方。每个工艺多达三个步骤Direct & downstream 清洗模式典型的应用： 引线键合倒装芯片底部填充，器件的封装和解封 光刻胶灰化、除渣、硅片清洗 PDMS/微流控/载玻片/芯片实验去除的扫描电镜/电镜样品上碳氢污染物改善金属与金属或复合材料的结合 改善塑料、聚合物和复合材料的粘接PDMS/玻璃键合的应用笔记Recipe ：PDMS bonding: RF power 15WattRF pulse duty ratio: 10% to 20%Gas: Room airFlow rate: 5sccmTime: 30~60 secondsFigure 1 经过等离子体处理后，PDMS立即与玻璃结合，界面截留的气体被自动挤出，无需在烤箱里固化PDMS/玻璃胶几个小时。Figure 2，粘合一分钟后，用户试图测试PDMS/玻璃粘合度，由于粘合非常牢固，即使由于强大的拉力部分PDMS被撕掉之后，PDMS/玻璃粘合界面仍然完好无损。我公司专业销售PIE Plasma 产品，并提供PIE Plasma产品的售前售后服务，如您对PIE Plasma产品感兴趣，欢迎前来咨询！

等离子刻蚀机VP-RS15真空腔体不锈钢材质，功率500W，射频频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA刻蚀处理。

美国PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频（RF）等离子源组成，远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室，有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM)，透射电镜(TEM)，聚焦离子系统(FIB)，离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。特有功能优越的等离子技术，可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。最低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度更快，更均匀，对电子枪和分子泵更安全；即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉；带气压计的自动气体流量控制；等离子探针实时测量等离子强度，用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方；自动射频匹配实时保证最优化射频耦合，即使用户调节清洗配方；专利保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel，台积电，三星等半导体用户的严格颗粒污染要求；带LCD触摸屏的直观操作界面；微电脑控制器带可修改的智能清洗计划，设好就自动清洗您的系统；支持清洗配方，一键开始，自动射频匹配，自动控制气体流量；微电脑控制器记录所有信息状态，便于系统维护。技术指标 等离子源真空接口: NW/KF40 法兰 提供转接法兰；标配等离子强度传感器；等离子源最低点火起辉气压：0.1毫托；等离子源最高工作气压: 1.0 托；漏气率: 0.005sccm；射频输出: 0~100瓦，连续可调节；具有射频自动匹配功能

美国PIE Scientific LLC公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 采用低压清洗技术，可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频（RF）等离子源组成，远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室，有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM)，透射电镜(TEM)，聚焦离子系统(FIB)，离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。(详情请咨询PIE中国代理南京覃思科技有限公司) 一. 特有功能1. 优越的等离子技术，可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。非常低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度非常快，非常均匀，对电子枪和分子泵非常安全；2. 即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉；3. 带气压计的自动气体流量控制；4. 实时测量等离子强度，用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方；5. 自动射频匹配实时保证非常优化射频耦合，即使用户调节清洗配方；6. 专有保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel，台积电，三星等半导体用户的严格颗粒污染要求；7. 带LCD触摸屏的直观操作界面；8. 微电脑控制器带可修改的智能清洗计划，设好就自动清洗您的系统；9. 支持清洗配方，一键开始，自动射频匹配，自动控制气体流量；10. 微电脑控制器可记录所有信息状态，便于系统维护。 二. 技术指标1. 等离子源真空接口：NW/KF40 法兰 提供转接法兰；2. 标配等离子强度传感器；3. 等离子源非常低点火起辉气压：0.1毫托；4. 等离子源非常高工作气压：1.0 托；5. 漏气率：0.005sccm；6. 射频输出：0~100瓦，连续可调节；7. 具有射频自动匹配功能8. 电源和功率：110V/220V, 50/60 Hz, 200 瓦

Tergeo EM型SEM及TEM样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪美国PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的最新等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。专为去除SEM & TEM样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品，从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品，如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的TEM样品杆。特点：1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化2. 13.56MHz高频射频发生器3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作4. 标配75W版本，可选150W版本5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的专用适配器7. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)除了Tergeo EM型SEM & TEM样品清洁专用等离子清洁仪，另有Tergeo Basic基本型等离子清洁仪和Tergeo Plus型大腔室等离子清洁仪三、技术参数1、控制系统1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。 2）程序控制：可编程，总共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤2、反应腔体1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱。2）腔体尺寸：内径110毫米，外径120毫米，深度280毫米，壁厚：5毫米。 3）前观测窗：前方开口，5毫米厚石英玻璃可视窗口，可观测内腔等离子状态，并带有防真空泄漏和避免高压的联锁装置，有效保护操作的安全性；3、射频电源 1）射频频率：13.56MHz 2）射频功率：标配0~75W；可选配0~150W。从0瓦到150瓦之间以1瓦间距连续可调，自动阻抗匹配。3）射频输出可以工作在脉冲方式，脉冲比可以从1/255调到255/255（连续输出）。 4、等离子源1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。2）电阻耦合电离方式。 3）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。5、气体控制 1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC； 2）质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量； 3）一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。 4）自动放气流程控制可以保护真空泵不受影响。 5）高性能气压计可以测量1e-4 Torr到大气压之间的气压。 6）6mm气体接口。6、真空系统1）KF25法兰接口用来连接真空泵。 2）真空要求：抽速：1.7m3/h；3）最低气压：=200mTorr.

产品简介：转瓶等离子清洗机，专为处理颗粒、粉末样品而设计。在等离子体作用下，一些材料很容易发生断键和聚合，转瓶等离子清洗机可以高效率的处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料，改变了传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。该机同样也可以处理非粉末的样品，实现了一机多用的功能。 产品名称转瓶等离子清洗机应用领域样品表面清洁、活化、键合、去胶、金属还原、简单刻蚀、表面有机物去除、疏水实验、镀膜前处理等；主要特点1、石英腔体可以以一定得速度旋转2、可以对粉末样品进行等离子清洗3、可以对块状或片状样品进行等离子清洗技术参数型号：PCE-6S40PCE-6S13腔体尺寸：300×Φ150㎜300×Φ150㎜腔体容积：5.2L5.2L石英转瓶尺寸：60×60×120㎜60×60×120㎜转瓶转速：1-15rpm/s可调1-15rpm/s可调射频频率：40KHz13.56MHz射频功率：10-200W无级可调10-150W无级可调电源：220V 50/60Hz220V 50/60Hz电流：1.2A1.2A时间设定：1-99分59秒1-99分59秒气体稳定时间：1分钟1分钟真空度：100pa以内100pa以内激发方式：电容式电容式产品规格产品尺寸L*W*H：550×520×285550×520×285包装尺寸L*W*H：690×630×450690×630×450整机重量：31kg35kg标准配件1主机1台2真空泵1台3真空软管1根4舱内托盘1块5电源线2根6说明书1本7合格证1份8保修单1份

CIF 等离子清洗机CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。应用领域等离子清洗机在材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等科研领域得了广泛的应用，主要用于材料表面清洗、活化、沉积、去胶、刻蚀、接枝聚合、疏水、亲水、金属还原、去除有机物、镀膜前处理、器械消毒等。产品特点u 智能化控制，手动、自动两种工作模式。u 自动匹配器。u 美国Honeywell真空压力传感器。u 美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计。u 双路气体控制。u 弧形电极板设计。u 全系统不锈钢材质。u 数字和浮子流量计可选。u 免维护，无需任何耗材。u 整机保修一年。技术参数型号CPC-ACPC-BCPC-A-13.56CPC-B-13.56舱体尺寸300XΦ100mm 300XΦ150mm 300XΦ100mm 300XΦ150mm舱体容积2.6L5.2L2.6L5.2L射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调电 源220V 50/60HZ电 流1.2A时间设定1-99分59秒气体稳定时间1分钟真空度100pa以内激发方式电容式产品尺寸 LxWxH550x520x285mm包装尺寸 LxWxH690x630x450mm整机重量15Kg20Kg18Kg25Kg

CIF 等离子清洗机CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。应用领域等离子清洗机在材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等科研领域得了广泛的应用，主要用于材料表面清洗、活化、沉积、去胶、刻蚀、接枝聚合、疏水、亲水、金属还原、去除有机物、镀膜前处理、器械消毒等产品特点u 智能化控制，手动、自动两种工作模式。u 自动匹配器。u 美国Honeywell真空压力传感器。u 美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计。u 双路气体控制。u 弧形电极板设计。u 全系统不锈钢材质。u 数字和浮子流量计可选。u 免维护，无需任何耗材。u 整机保修一年。技术参数型号CPC-ACPC-BCPC-A-13.56CPC-B-13.56舱体尺寸300XΦ100mm 300XΦ150mm 300XΦ100mm 300XΦ150mm舱体容积2.6L5.2L2.6L5.2L射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调电 源220V 50/60HZ电 流1.2A时间设定1-99分59秒气体稳定时间1分钟真空度100pa以内激发方式电容式产品尺寸 LxWxH550x520x285mm包装尺寸 LxWxH690x630x450mm整机重量15Kg20Kg18Kg25Kg

CIF 等离子清洗机CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。应用领域等离子清洗机在材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等科研领域得了广泛的应用，主要用于材料表面清洗、活化、沉积、去胶、刻蚀、接枝聚合、疏水、亲水、金属还原、去除有机物、镀膜前处理、器械消毒等。产品特点u 智能化控制，手动、自动两种工作模式。u 自动匹配器。u 美国Honeywell真空压力传感器。u 美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计。u 双路气体控制。u 弧形电极板设计。u 全系统不锈钢材质。u 数字和浮子流量计可选。u 免维护，无需任何耗材。u 整机保修一年。技术参数型号CPC-ACPC-BCPC-A-13.56CPC-B-13.56舱体尺寸300XΦ100mm 300XΦ150mm 300XΦ100mm 300XΦ150mm舱体容积2.6L5.2L2.6L5.2L射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调电 源220V 50/60HZ电 流1.2A时间设定1-99分59秒气体稳定时间1分钟真空度100pa以内激发方式电容式产品尺寸 LxWxH550x520x285mm包装尺寸 LxWxH690x630x450mm整机重量15Kg20Kg18Kg25Kg

CIF 等离子清洗机CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。应用领域等离子清洗机在材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等科研领域得了广泛的应用，主要用于材料表面清洗、活化、沉积、去胶、刻蚀、接枝聚合、疏水、亲水、金属还原、去除有机物、镀膜前处理、器械消毒等。产品特点u 智能化控制，手动、自动两种工作模式。u 自动匹配器。u 美国Honeywell真空压力传感器。u 美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计。u 双路气体控制。u 弧形电极板设计。u 全系统不锈钢材质。u 数字和浮子流量计可选。u 免维护，无需任何耗材。u 整机保修一年。技术参数型号CPC-ACPC-BCPC-A-13.56CPC-B-13.56舱体尺寸300XΦ100mm 300XΦ150mm 300XΦ100mm 300XΦ150mm舱体容积2.6L5.2L2.6L5.2L射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调电 源220V 50/60HZ电 流1.2A时间设定1-99分59秒气体稳定时间1分钟真空度100pa以内激发方式电容式产品尺寸 LxWxH550x520x285mm包装尺寸 LxWxH690x630x450mm整机重量15Kg20Kg18Kg25Kg