全自动反应离子刻蚀机

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全自动反应离子刻蚀机相关的厂商

  • 全自动RCA清洗机
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  • 载德半导体技术有限公司 铜牌11年
    400-860-5168转3241
    载德半导体技术有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商，载德所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体高新企业。载德半导体技术有限公司目前代理的主要产品包括： - 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System)； - 快速退火炉(RTP)； - 回流焊炉，真空烧结炉(Reflow Solder System)； - 探针台(Probe Station)，低温探针台(Cryogenic Probe Station)； - 贴片机(Die Bonder)，划片机(Scriber)，球焊机/锲焊机(Wire Bonder)； - 原子层沉积系统(ALD)，等离子增强原子层沉积设备(PEALD)； - 磁控溅射镀膜机(Sputter)，电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator)，热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator)，脉冲激光沉积系统(PLD) - 低压化学气相沉积系统(LPCVD)，等离子增强化学气相沉积系统(PECVD)，快速热化学气相沉积系统(RTCVD)； - 反应离子刻蚀机(RIE)，ICP刻蚀机，等离子体刻蚀机； - 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate)； - 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe)，光反射膜厚仪(Reflectometer)； 等等...
    主营产品： 退火炉   镀膜机   霍尔效应测试   探针台  
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  • 南通宏腾微电子技术有限公司 银牌1年
    400-860-5168转6134
    南通宏腾微电子技术有限公司(NTHT Semiconductor Technologies Limited)是一家专业的微纳材料、半导体和微电子材料及器件研发仪器及设备的供应商。南通宏腾微电子技术有限公司所销售的仪器设备广泛用于高校、研究所、以及半导体和微电子领域的高科技企业。南通宏腾微电子目前代理的主要产品包括： - 霍尔效应测试仪； - 快速退火炉； - 回流焊炉，共晶炉，钎焊炉，真空烧结炉； - 电子束蒸发镀膜机，热蒸发镀膜机 - 探针台，低温探针台，微探针台； - 金刚石划片机； - 球焊机，锲焊机； - 磁控溅射镀膜机； - 原子层沉积系统，等离子增强原子层沉积设备； - 电化学C-V剖面浓度分析仪(ECV Profiler)； - 扫描开尔文探针系统； - 光学膜厚仪；-PECVD\CVD；-脉冲激光沉积系统-PLD-纳米压印；-等离子清洗机、去胶机；-反应离子刻蚀RIE - 光刻机、无掩膜光刻机； - 匀胶机； - 热板，烤胶板； -少子寿命、太阳能模拟器；-NMR-瞬态能谱仪-外延沉积-等离子清洗机光刻胶光刻机（针尖/电子束光刻机EBL，紫外光刻机，激光直写光刻机），镀膜机（磁控溅射机，电子束蒸发机，化学沉积机，微波等离子沉积机，原子层沉积机 等等…
    主营产品： 开尔文探针   退火炉   纳米压印设备   激光直写光刻机  
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全自动反应离子刻蚀机相关的仪器

  • NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机 400-860-5168转3569
    RIE反应离子刻蚀机NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12"的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大的自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持5个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力：RIE以及PE刻蚀(可选)终点监测气动升降顶盖自动上下载片预真空锁基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机产品型号：NRE-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统，占地面积26“D x 44"WNRE-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统，占地面积26“D x 26"WNRE-3000：基于PC计算机全自动控制的台式系统，占地面积26“D x 26"WNRP-4000：RIE/PECVD双系统NDR-4000：深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统
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    厂商： 那诺-马斯特中国有限公司
    品牌： 那诺-马斯特/Nano-Master
    型号： NRE-3500 (A)
    价格： 面议
  • NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀 400-860-5168转3569
    反应离子刻蚀NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀概述：NRE-4000是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12”的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。该系统是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12”的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持8个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力支持：RIE以及PE刻蚀（可选）终点监测气动升降顶盖自动上下载片预真空锁基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀 Features：Aluminum or Stainless Steel ChamberStainless Steel CabinetCapable of etching Si compounds (~400 ? /min)and metalsTypical Si etch rate, 400 ?/minUp to 12“ Anodized RF PlatenWater Cooled and Heated RF PlatenLarge Self BiasShower Head gas distributionApproximately 10-6 Torr 20 minutes, ~ 5 x10-7 Torr base pressureTurbomolecular PumpUp to eight MFCsNo flexing of gas linesDown Stream Pressure ControlDual Etch capability: RIE and Plasma Etch（Option）End Point DetectionPneumatically Lifted TopAutomatic loading/unloadingLoad LockPC Controlled with LabVIEWRecipe Driven, Password Protectedully Safety Interlocked Optional ICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Si etch
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    厂商： 那诺-马斯特中国有限公司
    品牌： 那诺-马斯特/Nano-Master
    型号： NRE-4000 (A)
    价格： 面议
  • NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机 400-860-5168转4967
    RIE反应离子刻蚀机NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12"的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大的自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持5个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力：RIE以及PE刻蚀(可选)终点监测气动升降顶盖自动上下载片预真空锁基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀
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    厂商： 深圳市科时达电子科技有限公司
    品牌： 那诺-马斯特/Nano-Master
    型号： NRE-3500 (A)
    价格： 150万 - 200万元
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全自动反应离子刻蚀机相关的资讯

  • 欧世盛发布全自动加氢反应仪欧世盛H-Flow新品
    H-Flow是一款基于连续流动微反应加氢技术的全自动加氢反应仪。仪器采用清华大学专利微反应加氢技术，将高纯氢气与连续流动的反应物在装有催化剂微填充床内反应，结合全流程自动控制、在线实时检测、样品自动采集能功能，让加氢反应从此变得安全、高效、节能。仪器适用于实验室内加氢工艺开发及催化剂快速筛选，同时，高通量版可实现通风橱内加氢产品公斤级定制生产。全自动加氢反应仪主要特点l 可搭载高压高纯氢气发生器，无需配置氢气钢瓶l 整个加氢过程全流程控制，避免批次间差异l 反应时间大大缩短（从高压反应釜10小时以上，缩减到2-3分钟）l 主动式安全保护方案与被动式报货措施，使仪器工作更加安全可靠l 200℃反应温度、10MPa系统压力，适用于更广泛的加氢应用l 从mg到kg加氢反应体系，适用于加氢方法开发、快速催化剂筛选及公斤级生产l 体积小，可放置在通风橱内工作l 搭载在线紫外-可见、近红外检测器，实时监测反应结果 技术参数型号H-Flow-S05H-Flow-S30反应器催化剂装填量3~7ml150ml催化剂颗粒0.1~1mm反应压力10MPa反应温度室温~200℃预热器温度室温~200℃液体进料流速0.1~5 ml/min0.1~30 ml/min液体进料精度±1%FS液路伴热温度室温~100℃氢气进料速率5~100sccm100~1000sccm氮气进料速率5~100sccm100~1000sccm报警器通风橱上安装氢气浓度报警器 应用领域氢化还原反应硝基还原反应N-、O-去苯基化反应去卤素反应氢化去硫反应亚胺还原反应去重氮化反应腈类化合物还原反应烯烃和炔烃的饱和反应创新点：放弃加氢反应釜，放弃氢气钢瓶，实现本质安全，快速条件筛选，公斤级生产，全自动气液分离，可视智能化控制软件，工艺条件可直接放大至千吨级全自动加氢反应仪欧世盛H-Flow
    时间： 2019-12-10
    作者： 新品发布
  • 美国麦克推出全自动小型催化反应器
    美国麦克公司推出"Microactivity-Refference"全自动小型催化反应器　　 　　美国麦克仪器公司于近日发布了一款全自动小型催化反应器--Microactivity-Refference.它是一款全自动计算机控制的用于催化反应的微型反应器，温度高达1000℃，压力可达100bar。该反应器可实现诸多反应，如加氢裂化，氢化处理，异构反应，加氢反应，加氢脱硫，加氢脱氮，氧化反应，聚合反应，重整(芳构化),水蒸汽重整等等　　MICROACTIVITY-Reference该装置为一体结构，包括了电路系统，控制系统和质量流量计系统及置于热箱中的六通阀和反应器。基于具有分布式控制结构的TCP/IP以太通讯技术，系统可以在线远程控制或面板控制。独立于计算机的微处理安全集成控制器。同时,该系统配置了各种选配附件供研究人员选择　　如果需要了解更详细的资料,请登陆美国麦克公司中国区网站www.mic-instrument.com.cn或致电中国区各办事处
    时间： 2010-03-11
    作者： 美国麦克仪器公司
  • 发布全自动反应控制系统新品
    传统化学反应的挑战: 1. 操作步骤由手工记录，时间久了过程容易遗漏，或者数据不清晰； 2. 不一致的控制，比如循环液需要手动输入，操作需要计时，还要核对记录册，繁琐且没有存根； 3. 很多手工动作，比如到一定时间的升温或者降温，使得操作者需要一直记住该时间，一旦犯错，可能会导致物料损坏，或者得率降低； 4. 由于反应的热量主要来自于加液反应产生，所以控制反应加液速度尤为重要。这使得操作者需要实时关注反应的加液速度和温度变化，使得操作者不能开多个反应，或者分心做别的工作。 5. 温度，加液体积，pH值等数据没有记录，这使得后续对反应的条件的改进失去依据。 6. 人员容易误操作，而且长期待在实验室闻刺鼻的气味，简直反人类。 这种污染人体的，有一些危险性的，最好的方式就是让机器自动化操作！ 7. 人类的理想是，重复枯燥的工作交给机器去看，我们只要告诉机器如何去干。 最好是，可以坐在办公室吹着空调，计算着反应的步骤和物料添加质量，让反应自动进行，最多间隔几个小时看一眼，了解一下进展而已。 这一步已经可以实现！ 最常规 玻璃夹套反应釜 滴加反应的模型： 常规步骤如下： 1. 先抽真空通氮气，可以反复多次； 2. 将循环液温度降低到某一温度，以反应液温度为准。 3. 保持在一定温度下，开始滴加某种反应液（或者固体反应料）。如果温度超过设定温度，那么加液速度则需要降低；如果温度低于某一温度，加液速度可以加快，具体幅度可以自行设置。当温度达到某个上限时，可以设置为加液速度极小。 4.如果需要，可以切换加入另一种反应液，设置基本同上。 5. 加液完成后，可以在某个温度下恒温一段时间； 6. 可以设置多段的恒温，以及恒温时间。 7. 可是实时显示当前的温度，并一直采集温度数据； 8. 可以显示当前已经加入的液体体积，并采集加液量数据。 创新点：（1）新品；（2）液体自动滴加，固体自动加料；全自动反应控制系统
    时间： 2019-09-29
    作者： 新品发布
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  • 【分享】HC-800全自动离子分析仪与其它产品比较

    《生活饮用水卫生标准》(GB 5749—2006） 饮用水水质指标106项，其中42项为常规指标，这42项常规指标包括了氟、硝酸根、水硬度、氯化物、pH等项目。虽然离子计、离子色谱仪和HC-800全自动离子分析仪都是分析离子性物质的方法，但它们有很大的区别。一、HC-800全自动离子分析仪与离子色谱仪1. 离子色谱仪对检测样品要求高，要进行复杂预处理。对水样品要求电阻18 MQ，无颗粒，用0.45um滤膜过滤。水质不好则结果肯定不好，还可能对仪器和分离柱造成损坏。HC-800全自动离子分析仪对样品适应性比较强，无需过滤，水样混浊、有颜色时也可测定。2. 离子色谱仪目前不能在线实时监测，只能在检测室里检测使用。HC-800全自动离子分析仪有检测室里检测和在线监测两种方式任选。在线监测，可以实现水质的实时连续监测，实时掌握水质的变化。3. 离子色谱仪对所有试剂都应当是分析纯以上，最好是优级纯。淋洗液使用要求更高。淋洗液使用前应过滤、脱气， 以去除其中的颗粒物及气泡。离子色谱经常使用强酸、强碱作为流动相，易对人和环境产生危害。HC-800全自动离子分析仪只要求试剂为分析纯，只有A、B两种标准液，很安全。4. 离子色谱仪对水样中各种离子区分比较复杂（定性），对每种离子波峰留出时间和峰形要与每种离子标准液作比对，才能确认每种离子。HC-800全自动离子分析仪组装各种电极，就可识别离子并同时定量分析。5．离子色谱仪20分钟以内能得到7个常见离子阴离子：F-, Cl-, Br-, NO2-, PO43-, NO3-, SO42-的结果，但对阳离子检测不理想，因为阳离子柱质量不过关。HC-800全自动离子分析仪不但能检测7个常见离子阴离子，而且能检测阳离子Na+, NH4+, K+, Ca2+, Mg2+,只要3分钟能检出3到8种离子的结果。6．离子色谱仪价格较高，动辄十几万到二十几万。结构比较复杂，操作难度大，使用耗材维护费用高，普及程度不高等。HC-800全自动离子分析仪只需几万元，适合普及，定标、进样、测量、冲洗全程自动化，无需人工清洗与维护 。使用耗材费用低廉。二、HC-800全自动离子分析仪与离子计1. 离子计是比较传统的实验室测定离子方法，采用离子选择电极法。手工标定，在测定样品前，先配制7种标准液，分别测定每种标准液电位，人工绘制标准曲线。最后测水样，在标准曲线查找相应的点，查找计算得出水样中某种离子浓度。整个过程耗时耗人力。HC-800全自动离子分析仪A、B装好各种电极和两种标准液，开机，自动标定，自动进样，自动测量，自动出结果，只需3分钟。2. 离子计一次只能测一种离子，只能大概定量。HC-800全自动离子分析仪，装几种电极，一次就能出几种离子的结果。由高性能微处理器处理，能精密定量（0.1级），打印与计算机通讯一并完成。

  • ETD-800型全自动离子溅射仪

    有谁用过北京意力博通的 ETD-800型全自动离子溅射仪？这个好像是最新型号的溅射仪，还是全自动的。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

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  • Eachwave 微结构加工服务 激光微加工 微结构激光刻蚀 其他光谱配件
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。
    供应商： 上海屹持光电技术有限公司
    品牌： Eachwave
    价格： 面议
  • 微结构加工服务 激光微加工 微结构激光刻蚀
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构 单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备 1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机； 7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。
    供应商： 上海屹持光电技术有限公司
    品牌： Eachwave
    价格： 面议
  • 全自动环保除湿机
    森井除湿机[美国森井除湿机][台湾森井除湿机生产]美国WGI公司作为一家致力于以科技产品服务人类社会的公司，拥有先进的专业技术和丰富的制造经验。凭借对日新月异的现代科技与用户需求的密切关注与精准把握，产品推陈出新，品质卓越，在市场上享有盛誉。 SEN森井 是美国WGI 公司人工环境设备的著名品牌之一。自90年代开始，SEN森井 品牌的全自动环保除湿机、专业高效空气净化器、多功能红外温度计以及数字安全监控系统等产品相继进入中国市场。经过长期不懈的努力，SEN森井产品经受了幅员辽阔的大中华地区千差万别的地理环境和使用方式的考验，以其优越的性能，可靠的质量，完善的服务，成为广受消费者喜爱和信赖的产品。 SEN森井 品牌产品全部通过了中国国家级的认证及检测，更荣获中国电子电器行业&ldquo 国家质量稳定合格产品&rdquo 、中国中轻产品&ldquo 质量、服务、信誉AAA品牌&rdquo 。这是产品的荣誉，也是对消费者最实在的保证。 · 除湿量：36L/d(30℃，80%RH) · 单位输入功率除湿量高于国家标准16% · 微电脑设定四种功能 · 智能化操作、全程控湿 · 银离子空气过滤网 · 压缩机保护装置 · 自动除霜装置 · 7公升超大水箱 · 水满报警自动停机 · 连续除湿自动排水接口 · 万向转轮 · 低温适用：5 ~ 35℃ 森井除湿机(转轮式)CH100D(10L/D) (适用15~50m2,功率380W) 森井除湿机(转轮式)CH150D(15L/D) (适用20~60m2,功率440W) 森井除湿机CH918RB(18L/D) (适用15~40m2,功率400W) 森井除湿机CH928B(28L/D) (适用20~60m2,功率450W) 森井除湿机CH936B(36L/D) (适用50~80m2,功率720W) 森井除湿机CH948B(48L/D) (适用60~100m2,功率790W) 森井除湿机CH1800RB(180L/D) (适用200~320m2,功率2600W) SEN森井全自动环保除湿机系列产品严格按照国际电工委员会(IEC)及中国国家标准，以专业技术及精湛工艺制造，高效、环保、节能，是国际上最先进的移动式除湿机。 SEN森井全自动环保除湿机系列产品广泛应用于家居、办公、科研、生产、仓储等场所，深受用户青睐，在市场上享有盛誉。
    供应商： 河北雷格科技发展有限公司
    品牌： 森井电气
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