晶体声光效应实验装置

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晶体声光效应实验装置相关的厂商

  • 泰兴市和宸晶体科技公司位于长江之滨泰兴市,距无锡常州苏州扬州泰州距离均在150公里以内,交通方便,公司主要产品有:蓝宝石精密光学窗口片保护片、蓝宝石精密部件、蓝宝石光学透镜棱镜等,其中高面型蓝宝石产品享誉市场。拥有技术研发团队和多年浸染光电加工行业的高素质技工团队,并采购了国内和国际顶尖水平的加工和检测设备。和宸晶体的蓝宝石产品已广泛应用于:深海探测、高铁监控监测、油田监测、航空航天等领域。热忱欢迎国内外客商莅临我公司参观指导!
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  • 1. 提供氟化物晶体材料,CAF2, BAF2, MGF2, LIF2. 提供光学元件:透镜,柱面,棱镜,楔角,平面3. 质量稳定,信誉可靠
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  • 北京飞凯曼科技有限公司为多家国内外高科技仪器厂家在中国地区代理商。飞凯曼科技公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化,为广大中国用户提供最先进的仪器、设备,最周到的技术、服务和完美的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国,光电技术、材料科学、光电子科学与技术、半导体等等领域,都需要与欧美发达国家完全接轨的仪器设备平台来实现。飞凯曼科技公司有幸成长在这个科技创造未来的年代,我们愿意化为一座桥梁,见证中国科技水平的提升,与中国科技共同飞速成长。主要产品: 1.飞秒激光元件飞秒激光反射镜、飞秒激光透视镜、飞秒激光棱镜、飞秒偏振光学器件、飞秒非线性激光晶体2.非线性光学和激光晶体BBO晶体, LBO晶体, KTP晶体, KDP晶体, DKDP晶体, LiIO3晶体, LiNbO3晶体, MgO:LiNbO3晶体, AGS晶体 (AgGaS2晶体), AGSe晶体 (AgGaSe2晶体), ZGP (ZnGeP2) 晶体, GaSe晶体, CdSe晶体等。Nd:YAG晶体, Nd:YVO4晶体, Nd:KGW晶体, Nd:YLF晶体, Yb:KGW晶体, Yb:KYW晶体, Yb:YAG晶体, Ti:Sapphire晶体, Dy3+:PbGa2S4晶体等晶体恒温炉、晶体温控炉等3.普克尔斯盒及驱动KTP普克尔斯盒、DKDP普克尔斯盒、BBO普克尔斯盒、高重复频率普克尔斯盒驱动和高压电源、低重复频率普克尔斯盒驱动和高压电源、普克尔斯盒支架等4. Nd:YAG激光器元件Nd:YAG激光反射镜、Nd:YAG激光棱镜、Nd:YAG激光窗口、Nd:YAG激光偏振片、Nd:YAG激光晶体等5.激光器和激光器模块连续半导体激光器、连续DPSS激光器、调Q DPSS激光器、超快光纤激光器等6.光学元器件光学材料、光学镀膜、介质镜、金属镜、激光器窗口、棱镜、光学滤光片、光学柱面镜、偏振镜、紫外和红外光学元件7.光学整形系统高斯光转平顶光光束整形系统、扩束镜、F-Theta镜(聚焦镜)、望远镜、可调激光衰减器、可变光圈、精密空间滤光片、束流捕捉器8.光学精密位移机构防震桌、光学支架、光学导轨、固定座、光学固定、光学定位、传输和定位台、自动定位和控制器等9.半导体激光器高功率半导体激光器、波长稳定的半导体激光器、单频半导体激光器、光纤耦合半导体激光器、光纤激光器、波长可调谐单频激光器10.铒玻璃掺铒磷酸盐激光玻璃、铒玻璃、铒镱共掺激光玻璃、1550nm激光器、人眼安全激光器11. DPSSL激光谐振腔设计软件和数据库12. F-P扫描干涉仪13.应力测试仪日本UNIOPT公司应力双折射测量系统、光弹性模量测试系统、应力测试系统、磁光克尔效应(MOKE)测试仪、薄膜残余应力测试仪。应力双折射测试仪、应力测试仪、应力分析仪、偏振相机14.精密划片机日本APCO公司手动精密划片机、自动精密划片机。日本NDS公司半自动自动划片机、贴膜机、UV解胶机、清洗机、晶圆划片(切割)刀、电畴划片刀、陶瓷划片刀、金属烧结划片刀、树脂划片刀等15.材料表征仪器霍尔效应测试仪、变温霍尔效应测试仪、低温霍尔效应测试仪、塞贝克效应测试仪、低温探针台、变温探针台、椭偏仪联系电话:010-57034898,15313084898 邮箱地址:info@pcm-bj.com
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晶体声光效应实验装置相关的仪器

  • 高抗灰迹效应KTP晶体 400-860-5168转1980
    所谓Gray Track Effect(灰迹效应)指的是非线性晶体在承受高重复频率,高功率的激光照射后,在晶体内部出现灰色的损伤痕迹。由于以色列Raicol公司采用自有的助熔剂,其HGTR KTP晶体抗灰迹损伤能力远超常规KTP晶体。Raicol低灰迹效应实测图如下: Raicol低灰迹效应实测图 随着工业加工用激光器对于高平均功率和高峰值功率密度的要求越来越高,Raicol的HGTR KTP高抗灰迹效应KTP晶体以其如下优点被广泛采用:平均输出功率密度在532 nm高达5kW/cm² 非线性系数比LBO高4倍在可见光到近红外波长段均保持低吸收率宽温度带宽非吸湿潮解材料小去离角和大接收角
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  • 扫描隧道显微镜,YMP-6113 描述扫描隧道显微镜(STM),使人类首次能够实时地观察单个原子在物质表面的排列状态和与表面电子行为有关的物化性质,并因此获1986年诺贝尔物理学奖。YMP-6113扫描隧道显微镜采用特有的卧式探头结构,克服了原有粗调与微调逼近机构的垂直蠕动,使仪器性能更加稳定可靠。特点特有的卧式探头结构,克服了原有粗调与微调逼近机构的垂直蠕动独特的USB视频显微监控系统,可实现微探针操作与进给过程的可视化高精度压电陶瓷扫描传感器,保证扫描图像的保真性强大的图形软件与功能,支持纳米级三维立体成像和截面线显示功能操作便捷、高速扫描、高稳定性与抗干扰能力黑体辐射实验装置,YMP-6115简介黑体是一种完全的温度辐射体,其辐射能力只与本身温度有关。YMP-6115黑体辐射实验装置使用稳压溴钨灯光源模拟黑体,通过改变电源电流,获得不同色温下的黑体辐射。利用近红外光栅光谱仪测量不同色温的黑体辐射曲线,从而验证维恩位移定律、普朗克定律和斯忒藩-玻尔兹曼定律。采用开放式的结构设计,学生可以直观的观看内部光路和结构组成,帮助学生理解和掌握实验原理。同时采用铟镓砷探测器,确保在800nm-2500nm光谱范围内具有较高的信噪比和灵敏度。特点模块设的设计,方便学生掌握设计原理和测量原理;设计使用了高品质铟镓砷探测器和高性能的电路系统,使整套实验装置具有很好的信噪比和灵敏度;智能化的软件设计,每个实验模块按照实验原理和流程引导式的操作,让学生将主要精力用于实验本身,而非学习软件操作。实验内容理解和掌握光栅光谱仪的基本原理以及建立传递函数的原理和方法,并为光栅光谱仪建立传递函数。理解、掌握和验证普朗克定律理解、掌握和验证验证斯特潘-玻尔兹曼定律理解、掌握和验证验证维恩位移定律测量一般光源的辐射能量曲线(拓展)光电效应实验装置,YMP-6104系列简介YMP-6104型光电效应实验以高压汞灯作为实验光源,利用汞灯5条特征谱线(365nm、405nm、436nm、546、577nm),经过干涉滤光片后变成单色光,然后通过选择不同的光阑(2mm、4mm、8mm)后,最后转化为一束固定光斑大小的窄带单色光。这束单色光照在光电管上,在光电管的阳极与阴极之间加载直流电压后产生光电流,然后经过微电流放大器对所产生的光电流进行检测放大。通过研究不同的光照波长,光阑孔径和光强三者之间的关系,从中验证爱因斯坦的光电效应理论。特点采用一体化左轮设计滤光片-光阑采用窄带干涉滤光镜片滤出真正的单色光采用光学导轨和光学滑座,保证光路的同轴性实验方式多种多样:手动记录、USB通信、蓝牙通信和WIFI通信实验内容测量光电管在不同频率的光照下的截止电压,通过截止电压与频率的关系计算得到普朗克常数h。通过改变不同滤光片、不同光阑、不同距离,来研究光电管的伏安特性。弗兰克赫兹实验装置,YMP-6102系列简介YMP-6102弗兰克-赫兹实验证明原子内部结构存在分立的定态能级,这个事实直接证明了原子具有玻尔所设想的那种“完全确定的、互相分立的能量状态”,是对玻尔的原子量子化模型的第一个决定性的证据。直接证明了原子发生跃变时吸收和发射的能量是分立的、不连续的,证明了原子能级的存在,从而证明了玻尔理论的正确。因而获得了1925年诺贝尔物理学奖。本实验装置通过含有氩原子的四级真空电子管在旁热式灯丝的加热下产生大量的电子云,电子云通过第一栅极的筛选,然后在加速级的加速下,与氩原子发生碰撞,进行了能量交换,并且激发氩原子的能级跃迁,剩余有较大能量的电子还能冲过第二栅极反向拒斥电压而达到板极形成板极电流,该电流被微电流放大器测量得到,从而获得电流与电压的变化曲线。特点使用氩气管,无需加热;波形数6个,使用寿命超过2000小时弗兰克=赫兹管的安装方式有多个版本可供选择,使得实验更加直观可视。实验方式多种多样:手动记录、传感器采样、USB通信、蓝牙通信和WIFI通信。可升级为数字化实验实验内容记录氩原子的弗兰克-赫兹曲线计算普朗克常量h核磁共振实验装置,YMP-6105简介YMP-6105型核磁共振实验装置通过边限振荡器,将测试样品放在探测线圈中,样品和探测线圈都置于电磁场中。当边限振荡器的振荡频率接近样品的共振频率时,射频磁场能量被样品所吸收,边限振荡器停止振荡,振荡器的输出信号会突然降低,因此我们可以探测到核磁共振信号并且得到样品的g因子。特点强度可调的匀强电磁场实验共振信号清晰采用光学轨道结构,探头二维可调可拓展测量自备样品实验内容了解核磁共振的基本原理观察液体样品中氢核及固体样品中氟核共振现象利用扫场法核磁共振实验计算氢核和氟核的g因子更多精彩内容,请关注下方!
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  • SWT-1419微电脑晶体管焊接电源是电阻焊接里面最理想的焊接电源,主机采用高速微处理器控制,控制精度高,时间响应快, 工作模式丰富,它具有电流上升快、输出电流稳定、熔接处于两焊接接触面,被焊接处氧化少、焊接自检等主要特性,主要用于 锂离子电池组焊接、动力电池、电动工具电池焊接之用,是保证高品质焊接必选机型。整机电源全为开关电源控制,电源适应能力强。 SWT-1418微电脑晶体管点焊机带自动送料装置专用于镍片与电子线 焊接,也可以分开使用,方便快捷,焊接牢固。专用焊棒,不粘针,不炸火。规格型号:SWT-1419电流:8000A焊接能力:0.01-0.20驱动形式:气动焊接时间:1.0-3.0mS焊接电流:0-99%电极直径:φ6输入电源:AC220V±10%/50Hz
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晶体声光效应实验装置相关的资讯

  • 360万!合肥工业大学物理基础实验室实验条件改善项目
    项目编号:22AT03017102107项目名称:合肥工业大学物理基础实验室实验条件改善项目预算金额:360.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):360.0000000 万元(人民币)采购需求:本次采购共分为4个包次:第一包:主要采购内容为声速测量仪、动态磁滞回线测量仪、超声光栅仪等第二包:主要采购内容为导热系数实验仪、分光计、杨氏模量实验仪等第三包:主要采购内容为晶体声光效应实验套件、晶体电光效应实验套件、红外光谱仪、FROG脉冲测量系统、原子超精细光谱实验套件、溅射靶源、离子溅射仪、真空泵组、可编程线性直流电源、函数发生器等第四包:主要采购内容为单光子探测器、激光扫描共聚焦实验套件、光纤倍频激光器、微尺度测量实验仪等 合同履行期限:国产设备:供货及安装期限:合同签订后45个日历日内完成供货、安装和调试;质保期验收合格之日起 3 年本项目( 不接受 )联合体投标。
  • 北方华创“碳化硅晶体生长装置”专利公布
    天眼查显示,北京北方华创微电子装备有限公司“碳化硅晶体生长装置”专利公布,申请日期为2023年2月8日,公开日为2024年8月9日,申请公布号为CN118461121A。背景技术随着第三代半导体材料使用领域的扩大,碳化硅单晶材料作为第三代半导体的代表材料,因其特性具有禁带宽度大、热导率高、饱和电子漂移速率高和击穿场强高等性质。在多个领域具有广阔的应用前景,尤其电动汽车、轨道交通和电机驱动(Motor driving)领域增长迅速,占比逐年增大。碳化硅单晶材料普遍采用物理气相传输(Physical Vapor Transport,PVT)法生长,在PVT法中,采用碳化硅粉料作为生长单晶的原料,将碳化硅籽晶粘接在石墨坩埚顶部(石墨盖)作为籽晶,通过电磁感应线圈加热石墨坩埚,石墨坩埚通过热传导将碳化硅原料加热至升华,气相碳化硅在轴向温度梯度作用下输送到籽晶位置开始生长,在特定温度下可生长单晶碳化硅。碳化硅晶体生长中,坩埚是主要的发热源,粉料通过吸收坩埚壁的热量实现升华。由于热量通过粉料间热传导的方式从石墨壁向粉料中心传递,这导致粉料中心的温度始终低于边缘温度。发明内容本发明提供了一种碳化硅晶体生长装置,涉及碳化硅单晶材料的制造技术领域,为解决坩埚内的粉体温度均匀性差的问题而设计。碳化硅晶体生长装置包括坩埚、感应线圈组件和盖设于坩埚上方的盖板,盖板用于在盖板的中心设置籽晶,坩埚内设置有至少一个的感应加热件;感应加热件具有封闭连续的外周面,且能够在感应线圈组件的作用下产生感应涡电流。本发明提供的碳化硅晶体生长装置可以改善坩埚内的粉体温度均匀性。
  • 微电子所在二硫化钼负电容场效应晶体管上取得进展
    近日,2020国际电子器件大会(IEDM)以视频会议的形式召开。会上,微电子所刘明院士科研团队展示了二硫化钼负电容场效应晶体管的最新研究成果。 功耗是制约未来集成电路发展的瓶颈问题。在栅极中引入铁电新材料的“负电容晶体管”(NCFET)可突破传统场效应晶体管的亚阈值摆幅开关极限,有望在极低电源电压下工作,从而降低功耗并保持高性能。同时,原子层厚度的二硫化钼(MoS2)免疫于短沟道效应,具有较高的迁移率、极低的关态电流和CMOS兼容的制造工艺等优势,是面向先进晶体管的可选沟道材料之一。近期的一些实验显示,MoS2 NCFET能实现低于60mV/dec的亚阈值摆幅。但这些研究仅实现了较长沟道(500 纳米)的器件,没有完全发掘和利用负电容效应在短沟道晶体管中的优势。 针对该问题,刘明院士团队通过对器件参数以及制造工艺的设计与优化,首次把MoS2 NCFET的沟道长度微缩至83 纳米,并实现了超低的亚阈值摆幅(SSmin=17.23 mV/dec 和 SSave=39 mV/dec)、较低回滞和较高的开态电流密度。相比基准器件,平均亚阈值摆幅从220 mV/dec提高至39 mV/dec,沟道电流在VGS=0 V和1.5 V下分别提高了346倍和26倍。这项工作推动了MoS2 NCFET尺寸持续微缩,对此类器件面向低功耗应用有一定意义。 基于上述研究成果的论文“Scaling MoS2 NCFET to 83 nm with Record-low Ratio of SSave/SSRef.=0.177 and Minimum 20 mV Hysteresis”入选2020 IEDM。微电子所杨冠华博士为第一作者。图(a) MoS2 NCFET转移曲线。(b)亚阈值摆幅~沟道电流关系。MoS2 NCFET与MoS2 FET对比数据:(c)转移曲线和(d)输出曲线

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晶体声光效应实验装置相关的论坛

  • 【转帖】美研制出新式超导场效应晶体管

    2011年04月29日 来源: 科技日报 作者: 刘霞  本报讯(记者刘霞)据美国物理学家组织网4月28日(北京时间)报道,美国科学家使用自主设计的、精确的原子逐层排列技术,构造出了一个超薄的超导场效应晶体管,以洞悉绝缘材料变成高温超导体的环境细节。发表于当日出版的《自然》杂志上的该突破将使科学家能更好地理解高温超导性,加速无电阻电子设备的研发进程。  普通绝缘材料铜酸盐在何种情况下从绝缘态跃迁到超导态?这种跃迁发生时,会发生什么?这些问题一直困扰着物理学家。探究这种跃迁的一种方法是,施加外电场来增加或减少该材料中的自由电子浓度,并观察其对材料负载电流能力的影响。但要想在铜酸盐超导体中做到这一点,还需要构建成分始终如一的超薄薄膜以及高达100亿伏/米的电场。  美国能源部物理学家伊万·博若维奇领导的布鲁克海文薄膜研究小组之前曾使用分子束外延技术制造出这种超导薄膜,该技术在一次制造一个原子层时还能精确控制每层的厚度。他们最近证明,用分子束外延方法制造出的薄膜内,单层酮酸盐能展示出未衰减的高温超导性,他们用该方法制造出了超薄的超导场效应晶体管。  作为所有现代电子设备基础的标准场效应晶体管内部,一个半导体材料将电流从设备一端的“源”电极运送至另一端的“耗”电极;一个薄的绝缘体则作为第三电极“门”电极负责控制场效应晶体管。当在绝缘体上施加特定的门电压时,该门电极会打开或关闭。但没有已知的绝缘体能对抗诱导该酮酸盐内部高温超导性所需的高电场,因此,标准场效应晶体管的设计并不适用于高温超导场效应晶体管。  博若维奇团队用一种能导电的液体电解质来分离电荷。当朝电解液施加外电压时,电解质中的正电荷离子朝负电极移动,负电荷离子朝正电极移动,但当到达电极时,离子会突然停止移动,就像撞到“南墙”一样。电极“墙”负载的等量相反电荷之间的电场能超过100亿伏/米。  新研制的超导场效应晶体管中,高温超导体化合物模型(镧-锶-铜-氧)的临界温度可达30开氏度左右,为其最大值的80%,是以前纪录的10倍。科学家可使用该晶体管来研究与高温超导性有关的物理学基本原理。  超导场效应晶体管的应用范围很广泛。基于半导体的场效应晶体管能耗大,而超导体没有电阻也无能耗。另外,原子逐层排列制造出的超薄结构也使科学家能更好地使用外电场来控制超导性。  博若维奇表示,这仅仅只是一个开始,高温超导体还有很多秘密有待探寻,随着其神秘“面纱”逐一揭开,将来能制造出超快节能的高温超导体。   总编辑圈点:  辛亥革命爆发、乔治五世加冕、普利策逝世……这是历史书上的1911年。但同年,一个平常的4月天里,荷兰一所实验室内人类首次发现了超导体,于今恰好百年。这种进入超导态就会电阻趋0的材料,尚未露真容,却承载了一个世纪的无热损和强磁场之梦,直接涉及超导电性的诺奖就有4起,1987年临界温度的速提甚至成为了科技史之奇迹。于是,人们谈起那年4月的荷兰小城,会说:超导百年,对人类社会的影响,不亚于和它同年发生之事。

  • 氯离子敏感场效应晶体管电极的研制

    [font=&]【题名】: 氯离子敏感场效应晶体管电极的研制(请帮忙尽可能给清晰图的文章,谢谢)[/font][font=&]【全文链接】: https://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTOTAL-HNLG199301011.htm[/font]

  • 量子隧穿效应“孵出”能效更高的隧穿晶体管

    有望解决目前芯片上晶体管生热过多的问题科技日报 2012年03月28日 星期三 本报讯(记者刘霞)据美国物理学家组织网3月27日(北京时间)报道,美国圣母大学和宾夕法尼亚州立大学的科学家们表示,他们借用量子隧穿效应,研制出了性能可与目前的晶体管相媲美的隧穿场效应晶体管(TFET)。最新技术有望解决目前芯片上晶体管生热过多的问题,在一块芯片上集成更多晶体管,从而提高电子设备的计算能力。 晶体管是电子设备的基本组成元件,在过去40年间,科学家们主要通过将更多晶体管集成到一块芯片上来提高电子设备的计算能力,但目前这条道路似乎已快走到尽头。业界认为,半导体工业正在快速接近晶体管小型化的物理极限。现代晶体管的主要问题是产生过多的热量。 最新研究表明,他们研制出的TFET性能可与目前的晶体管相媲美,而且能效也较以往有所提高,有望解决上述过热问题。 科学家们利用电子能“隧穿”过固体研制出了这种TFET。“隧穿”在人类层面犹如魔术,但在量子层面,它却是一种非常常见的行为。 圣母大学的电子工程学教授阿兰·肖宝夫解释道:“现今的晶体管就像一个拥有移动门的大坝,水流动的速度也就是电流的强度取决于门的高度。隧穿晶体管让我们拥有了一类新的门,电流能够流过而非翻过这道门,另外,我们也对门的厚度进行了调整以便能打开和关闭电流。” 宾州州立大学的电子工程系教授苏曼·达塔表示:“最新技术进展的关键在于,我们将用来建造半导体的材料正确地组合在一起。” 肖宝夫补充道,电子隧穿设备商业化的历史很长,量子力学隧穿的原理也已被用于数据存储设备中,借用最新技术,未来,一个USB闪存设备或许能拥有数十亿个TFET设备。 科学家们强调说,隧穿晶体管的另一个好处是,使用它们取代目前的晶体管技术并不需要对半导体工业进行很大的变革,现有的很多电路设计和电路制造基础设施都可以继续使用。 尽管TFET的能效与现有晶体管相比稍逊色,但是,去年12月宾州州立大学和今年3月圣母大学的科研团队发表的论文已经表明,隧穿晶体管在驱动电流方面已经取得了创纪录的进步,未来有望获得更大的进展。 达塔说:“如果我们在能效上取得更大成功,将是低能耗集成电路上的重大突破,这反过来会加大我们研制出能自我供能设备的可能性,自我供能设备同能量捕获设备结合在一起,有望使我们研制出更高效的健康检测设备、环境智能设备以及可移植医疗设备。” 总编辑圈点: 滚动的台球,碰到桌壁后总会反弹。而量子理论不排除“穿壁而过”的可能性——在基本粒子级的尺度下,“隧穿”的几率不能忽视。隧穿曾是晶体管电路设计者需要防范的现象,然而科学家最终利用它造出了新式晶体管。几年前就有计算机试用了这种新式硅片,它要求的电压更小,且在待机状态下不耗电。隧穿晶体管技术一旦投入商用,CPU的设计者就不必忧虑发热的老问题了。

晶体声光效应实验装置相关的耗材

  • SBN晶体
    SBN晶体又名铌酸锶钡是一种非常优异的光折变晶体材料。我们提供欧洲生长的高纯度SBN晶体或Ce,Cr,Co,Fe掺杂的SBN晶体。 纯SBN晶体和掺杂 Ce, Cr, Co, Fe 的铌酸锶钡 (SBN:60, SBN:61, SBN:75)是优良的光折变晶体,用于电光,声光和光折变等非线性光学研究。我们提供的SBN晶体采用新的晶体生长技术 (Stepanov Method), 提供出色的光学质量,晶体内部无生长条纹,包裹体和其他不均性现象。SBN晶体和铌酸锶钡元素满足不同的应用要求,基于这种生长技术,我们提供的SBN晶体具有尺寸大,品质高的特点。此外,我们还提供如下特殊掺杂的铌酸锶钡晶体:Ce, Cr, Co, Ni, La, Tm, Yb, Nd, Ce+La, Ce+Ti, Ce+Cr铌酸锶钡晶体应用: 1.SBN晶体用于双波混频:光学信息记录,动态全息干涉,光学全息放大等;2. 铌酸锶钡晶体用于四波混频:高效相位共轭,自泵浦相位共轭镜,双相位共轭镜:3. SBN晶体用于电光器件和声光器件;4. 铌酸锶钡晶体用于Pyroelectrical 探测器;5. SBN晶体晶体用于自倍频,自合频。SBN晶体和铌酸锶钡晶体由孚光精仪进口,孚光精仪是中国最大的进口精密光学器件和仪器供应商!所销售的SBN晶体等光折变晶体系高质量进口晶体, 经过在国外生长, 严格切割抛光加工和国外高质量的镀膜,并进行严格的质量控制后进口到国内,质量非常可靠。SBN晶体和铌酸锶钡元素满足不同的应用要求,基于这种生长技术,我们提供的SBN晶体具有尺寸大,品质高的特点。此外,我们还提供如下特殊掺杂的铌酸锶钡晶体:Ce, Cr, Co, Ni, La, Tm, Yb, Nd, Ce+La, Ce+Ti, Ce+Cr铌酸锶钡晶体应用: 1.SBN晶体用于双波混频:光学信息记录,动态全息干涉,光学全息放大等;2. 铌酸锶钡晶体用于四波混频:高效相位共轭,自泵浦相位共轭镜,双相位共轭镜:3. SBN晶体用于电光器件和声光器件;4. 铌酸锶钡晶体用于Pyroelectrical 探测器;5. SBN晶体晶体用于自倍频,自合频。
  • 光折变晶体SBN,BSO,BGO,Fe:LNB晶体
    光折变晶体SBN,BSO,BGO,Fe:LNB晶体光折变晶体:SBN锶钡铌酸盐晶体/BSO硅酸铋晶体/BGO锗酸铋晶体/Fe:LNB掺铁铌酸锂晶体 光折变效应是局部折射率通过光强度的空间变化而改变的现象。当形成空间变化的照明图案的光折射材料中,相干光彼此干涉时,可强烈观察到。这是由于漂移或扩散和空间电荷分离效应,在迁移材料中产生电荷载流子。产生的所产生的电场通过电光效应引起折射率变化。其中一些应用是空间光调制器,4波混频,相位共轭,光存储器和计算。 Sillenite单晶Bi12SiO20(BSO)和Bi12GeO20(BGO)显示了不同物理性质的独特组合。BSO和BGO晶体是非常有效的光电导体,具有低暗电导率,允许建立大的光诱导空间电荷。光电导性和光电特性的强烈光谱依赖性允许开发和生产各种各样的光学器件和系统。BSO和BGO晶体用于空间光调制器,动态实时全息记录设备,相位共轭波混合,光学相关器和光学激光系统,用于超短光脉冲的自适应校正。光诱导吸收使其有可能开发和生产“光 - 光”型光学器件,如光学调制器,开关等。 通过不同技术制造氧化亚锡薄膜晶体结构允许开发包括光学波导,集成光学器件的多种装置。基于Sillenites的波导光学结构的使用允许在宽光谱范围内实现均匀照射(通常到波导平面)。 BGO SBN Sillenite Oxides的相对较大的电光和法拉第效应使其可用于光纤电/磁场传感器。我们能够少量提供未掺杂的BSO和BGO晶体用于科学研究,并大量用于工业目的。随着2x2x2 - 25x25x25 mm3晶体,我们还提供带有ITO(氧化铟锡)涂层的孔径高达30x30 mm2,厚度为0.5 - 5 mm的晶体板。 锶钡铌酸盐(SrxBa(1-x)Nb2O6)SBN是一种优异的光学和光折变材料。名义上纯,由Ce,Cr,Co,Fe掺杂。不同组成的SBN晶体用于电光学,声光学和光折变非线性光学器件。一种新的生长技术提供了优异的光学质量单晶,没有生长条纹,夹杂物和其他不均匀性,以及高达80mm的确定横截面和线性尺寸。SBN晶体元件满足不同应用的要求。基于这种独特的晶体生长技术,可以使用大量高质量的SBN光学元件和光折变单元,Fe:LiNbO3(其他掺杂剂可用)。 铁掺杂铌酸锂晶体(Fe:LiNbO3)是一种常用的具有高电光(EO)系数,高光折变灵敏度和衍射效率的光折变材料。与BaTiO3系列光折变晶体相比,它具有易于操作和存储,成本低,尺寸利用率大等突出优点,使其更适用于批量制造和实用设备。因此,Fe:LiNbO3晶体将预测广泛的应用。MolTech提供具有不同Fe掺杂浓度,尺寸和光学处理要求的晶体。 光折变晶体:SBN锶钡铌酸盐晶体/BSO硅酸铋晶体/BGO锗酸铋晶体/Fe:LNB掺铁铌酸锂晶体晶体Bi 12 SiO 20(BSO) Bi 12 GeO 20(BGO)Fe:LiNbO 3SBN x = 0.60SBN x = 0.75晶体结构立方,点组:23立方,点组:23 三角形,3m4mm4mm晶格(胞)参数,?10.10 10.15-a = 12.46,c = 3.946a = 12.43024,c = 3.91341透射范围,μm0.4-60.4-7 0.35 - 5.50.3 5 - 6.00.35 - 6.0折射率在0.63μm2.542.552.20(ne),2.29(no)n e = 2.33,n o = 2.36 @0.51μmn e = 2.35,n o = 2.37 @0.51μm电光系数r41,pm / V53.5r22 = 6.8,r31 = 10,r33 = 32r 13 = 47,r 33 = 235r 13 = 67,r 33 = 1340光学活性,500纳米处的deg / mm4241.5---在600nm处为 - deg / mm2524---密度,g / cm 39.159.24.645.45.4莫氏硬度5555.55.5熔点,C8909201255(Tc = 1140)1500±10°C1500±10°C介电常数564085(e11)30(e33) 8803400暗电阻,欧姆厘米10 1410 14-- -吸收系数@0.44μm--- 0.3cm -1- 在25°C时的热导率---0.006 W / cm * K@ 1370至1470℃下---- 0.008 W / cm * K热光系数dn e / dT---3×10 -4 K -1-居里温度---75℃56℃半波电压---240伏48 V我们可提供棒或薄片,由具有不同横截面和尺寸的薄膜光折射晶体制成。不同浓度的不同掺杂剂可满足特定客户的要求。光折变晶体:SBN锶钡铌酸盐晶体/BSO硅酸铋晶体/BGO锗酸铋晶体/Fe:LNB掺铁铌酸锂晶体
  • 键合晶体
    我们提供世界上先进的键合晶体技术和优质的键合晶体。 我们采用独特的非粘合剂(光胶)的晶体粘结技术,基于晶体段边界的精密光学接触和扩散键合技术制造键合晶体,We use our own adhesive free bond technology based on precise optical contact of bonded surfaces and diffusion bonding across of solid state boundary of crystal segments.基于上述先进的技术,我们提供先进的键合晶体,这些键合晶体或复合晶体作为晶体微片,可用于微片激光(microchip laser)的制造和实验。我们设计制造YAG+ Nd:YAG键合晶体,YAG+Tm:YAG键合晶体,YAP+Tm:YAP键合晶体,YAG/Er:YAG键合晶体, YAG/Yb:YAG复合晶体,YAG/Yb:LuAG键合晶体等非掺杂段和掺杂段梯度键合的晶体微片.我们还提供被动Q开关V:YAG或Cr:YAG与上述增益激光材料键合的晶体微片。 We design predominantly diffusion bonded Nd:YAG, Tm:YAG, Er:YAG, Yb:YAG and Yb:LuAG rods consisting of undoped and doped segments with gradient doping. We also produce diffusion bonded gain material to passive Q-switch of V:YAG or Cr4+:YAG.Nd:YAG键合晶体棒我 们提供键合Nd:YAG晶体和Nd:YAG晶体棒,由掺杂Nd:YAG晶体和不掺杂Nd:YAG晶体组成。这种 Nd:YAG键合晶体棒有助于减小热透镜效应和其他热应力效应,特别适用于二极管轴向泵浦的谐振腔。例如:Nd:YAG复合晶体,5x(4+8)mm规 格,二极管轴向泵浦的效率超过29.5%。 微片激光器和晶体微片微片激光非常适用于无Q开关的准直的谐振腔。这种紧凑的晶体微片融合了制冷的非掺杂部件,Nd:YAG晶体工作物质和主动的可饱和的吸收器部分。镜片可以直接放在晶体正面,这种晶体微片结构可以有效地从Nd:YAG晶体和可饱和吸收部分消除热量。 这种键合晶体采用先进键合晶体技术,基于晶体段边界光学接触和扩散键合技术,是全球最佳的晶体微片和复合晶体.
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