多功能等离子处理系统

Metrohm公司拥有三十多年自动进样器设计经验，始终在该领域保持世界领先地位。最新推出的高性能858英蓝（MISP）样品处理智能处理系统，采用USB接口，可装备泵、耐高压阀以及800Dosino配液器，具备完整的在线样品制备和液体处理功能，极大地扩展了离子色谱仪的应用范围，成为离子色谱自动进样器的最新标准。主要特点：采用USB接口，可自动识别，即插即用自动识别超过30种不同的样品架，样品管容积从0.5mL到500mL不等具有流路自动清洗功能，避免样品之间的相互干扰使用MagIC Net?谱峰魔术师软件进行控制三种版本，更多选择 858可提供全面的英蓝样品制备功能，如：英蓝超滤、英蓝渗析、英蓝基体消除、英蓝中和、英蓝阳离子和过滤金属去除、英蓝预浓缩、英蓝校正和英蓝探针等技术。为离子色谱分析牛奶、果汁、面粉、严重污染的废水等困难样品提供极大的便利。 858英蓝（MISP）样品智能处理系统的三种版本858基本型英蓝样品智能处理系统（2.858.0010） 858基本型英蓝样品智能处理系统可连续两套隔膜泵，三套MSB连接装置，例如800 Dosino或801磁力搅拌台。使用850谱峰思维系列离子色谱仪（850 Professional IC）的蠕动泵或800 Dosino进行样品溶液的输送。858带蠕动泵的英蓝样品智能处理系统（2.858.0020） 在858基本型英蓝样品智能处理系统的基础上增加了一个双通道蠕动泵，可以执行各种任务，如注射样品或输送转移液体等。可突现英蓝预浓缩、英蓝渗析、英蓝样品稀释等多种功能。858带蠕动泵和六通阀的英蓝样品智能处理系统（2.858.0030） 除了配置有双通道蠕动泵，还配有一套完整的非金属六通阀，从而具备完整的在线样品制备和液体处理功能，极大地扩展了应用范围。可实现英蓝基体消除、英蓝中和、英蓝曲线校正、英蓝预浓缩、英蓝渗析、英蓝稀释等众多功能。

阳离子交换量（CEC）是指土壤胶体所吸附的各种阳离子的总量常作为评价土壤保肥能力的指标，是土壤缓冲性能的主要来源，是改良土壤和合理施肥的重要依据，它反映土壤的负电荷总量和表征土壤的化学性质，该实验前处理过程繁琐，耗时耗力，效率低。CEC400阳离子交换量前处理系统依据国家标准方法，将阳离子交换量前处理过程实现自动化，既节省时间，又提高了效率。 主要特点与优点 产品自动化设计，自动加液、淋洗、抽滤、排废，整个过程无需人工值守采用一键开始与暂停操作，可实现单路单控，实验过程掌控灵活采用桨式搅拌及旋转式清洗，置换效果更好并避免出现土壤挂壁的现象采用高性能电磁阀、加液泵、真空泵，提高了仪器使用寿命产品外壳采用奥氏体不锈钢，喷涂防指纹涂层，提高防腐性能外置壁挂式控制器，方便灵活，简单快捷横屏面板，安卓风格界面，操作简约且人性化技术指标样品处理数量4个测定样品重量≤5g自动加乙酸铵体积≤150mL/次自动加乙醇体积≤150mL/次电机自动搅拌，搅拌时间可任意设置自动抽滤，抽滤时间、抽滤次数可任意设置自动清洗，清洗次数可设置抽滤瓶体积500mL额定功率320W输入电压AC 220 V±10% 50Hz/60Hz外形尺寸外形尺寸：604*358*672

FOR SURFACE MODIFICATION - CLEANING - ACTIVATION - ETCHING - DEPOSITION表面改性（亲水性和赤水性），等离子清洁，等离子活化，刻蚀以及反应离子刻蚀，等离子沉积等应用 GlowResearch是美国著名的真空系统解决方案供应商，其旗下的OptiGlow和AutoGlow全自动多功能等离子表面处理系统应用于小型生产及研发实验室的使用和发展历史已经超过了20年，随着研发提升及软硬件更新，现在的系统不但拥有使用的高稳定性和高效率外，其集成化设计和友好操作界面使得用户上手操作及参数调整都非常简易。其全球客户群已经超过了3000多套，遍布欧美各大著名的微纳米加工实验室及化学生物实验室，著名包括莱斯大学，麻省理工学院，哈佛大学，尤利希中心，法国生物化学与生物分子研究中心，法国应用光学研究所，德国生物技术研究所，德国航空航天研究所，德国马普所，英国国家工程实验室等等。射频等离子体是最广泛使用和通用性好的等离子体技术，它应用于医疗和半导体的宽广领域内。在通用工业/医疗行业，需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中，除了射频等离子体的强烈的化学作用外，其定向效应也起到了一个重要的作用。携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除更加化学惰性的表面沉淀物（如金属氧化物和其它无机物沉淀）以及交联聚合物以锁定等离子体的处理。AutoGlow—高纯度石英样品室和石英样品托，3个气体流量质量控制器，150mm基底尺寸，13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到300W，全自动协调校准，压力可读，氮气清洗，CE认证标识。电容耦合的，只需按一个按钮便可全自动操作整个处理流程。使用在等离子清洁，键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜，去除有机物，光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计，最低可在10W功率运行。 AutoGlow 200—可以处理200mm基底（8寸晶圆），和反应离子刻蚀RIE(可选ICP电感耦合等离子体源）和等离子体处理。3个气体流量质量控制器–氧气，氩气或氟化气体（CF4或SF6）, 13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到600W，全自动协调校准，，压力可读，氮气清洗，CE认证标识，高品质铝样品室。使用在等离子清洁，键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜，去除有机物，光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计，最低可在10W功率运行。具有观察窗用来监控OES发射光谱和处理终点检测。 Rice University has an AutoGlow in the Halas Research Lab. The system is used for removal of polymer resists for applications in plasmonics and nanophotonics and prepare samples for surface-enhanced molecular spectroscopy. Harvard University’s AutoGlow system in the Gordon McKay lab. The system is used for organic removal, surface modification and serves the needs of several researchers working on DNA research and human genome sequencing. Pictured is the AutoGlow at the Microsystems Technology Lab at MIT. This AutoGlow is used for Photoresist removal, cleaning and surface modification. This lab does research in MEMS, BioMEMS, Nanotechnology and Photonics. 全自动控制系统可以使用户轻松进行操作处理样品, 一旦系统检测真空达到预设真空值后, 便自动开启并控制气体流量进入, 这个过程不需要任何其他操作因素. 系统也可配置两路或三路气源和同时使用不同比例的混合气源（比例可以任意调整）然后通过一个额外的阀门来自动调整任意比例两种不同混合气源.系统特别设计用于等离子体表面处理包括光刻胶灰化, 有机物去除, 清洗, 活化, 改性, 沉积和刻蚀, 具有功能多, 易操作性强, 全自动化无需调试, 可靠性高, 低成本等优点, 广泛应用于半导体制造, 微电子加工, 生命科学制造和前处理等. 可适用多种工艺气体, 如氩气Ar, 氧气, 空气及氟化合物如CF4或SF6, 通过两个气体质量流量控制气体以及特殊阀门控制任意气体混合比例. 除了结构紧凑和集成度高外, 出色的射频激发等离子体配合出色的工艺控制, 失效保护系统和数据采集系统使其很容易使用在实验室和生产环境中。 湿法刻蚀的缺点在于各向同性横向侧面刻蚀和垂直刻蚀是一致的速度。干法刻蚀的目的在于制作一个各向异性刻蚀-意味着刻蚀是定向的。一个各向异性刻蚀性能对于一个好的微纳图形转移是至关重要的。反应离子刻蚀RIE就是这种标准的干法刻蚀方式。RIE典型的反应气体是O2 和 CF4. 功能一：Plasma Cleaning等离子清洗： 应用于： - 金属表面超精细清洗 - 塑料与弹性体表面处理 - 一般玻璃表面陶瓷表面处理和清洗 - 去除样品表面氧化物和碳污染物 功能二：Plasma Surface Activation等离子表面活化功能三：Plasma Coating 等离子镀膜功能四：Plasma Surface Etching 等离子表面刻蚀-POM、PTFE、PEP、PFA -PTFE部件 -构建硅基结构 -光刻胶灰化