常压电浆清洗设备

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常压电浆清洗设备相关的厂商

  • 公司注重企业文化建设,奉行"以人为本、尊重知识、尊重人才"的理念,建立了一整套科学的管理体系和组织结构体系,集合了一批有志于科技产业化的中高级专家,形成了从产品开发、生产销售到市场技术服务的的灵通技术队伍,使公司的产品不断创新,市场占有率不断扩大。在公司规模和效益不断增长的同时,一支懂经营、善管理 的管理队伍也随之成长起来,技术和经营管理的有机结合,为公司的高速发展提供了根本保障。   几年来,辛勤的劳动开创了一片广阔的世界,让用户满意是我们的宗旨. 承诺:用一流的产品,一流的技术,一流的服务来缩短你我的距离,共同发展民族清洗业,为中国的清洗产业奉献全部努力和热情。
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  • 深圳市洁盟清洗设备有限公司成立于2007 年,主要研发制造各类超声波清洗机等清洁仪器设备,是国家高新技术企业;公司本着“提升竞争优势,共创最佳绩效”的宗旨,凝聚了一批专业技术性人才和成熟的销售团队,员工人数达到600 人。面对社会日益增长的环境和健康要求,公司全体成员竭尽心力,不断创新,力争以最良好的产品来回报客户。公司自创立以来,以“坚持走可持续发展的道路”的经营理念和员工一起进步,针对国内外市场需求,大力开发超声波清洗设备标准机和自动化设备及家用电器类等产品与市场。以绿色环保,健康洁能为导向;以开拓进取,创新求变为支持;利用互联世界,结合多种渠道持续为客户创造价值;通过精益运作,建立良好供应链合作关系,找到成本最佳位置。短短几载,公司自主研发,上下一心。现已经拥有多个知名自主品牌,且拥有多项专利。在行业中处于前排地位,且深受客户及广大消费者的青睐。当然我们会一如既往的遵循公司的发展规划,把企业做大、做强。洁盟以良好的技术及产品,以及完善的售前、售中、售后服务,真诚期待着与您共创辉煌!
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  • 心怀感恩,匠心不改,铸就“百年正阳”的梦想!致力于在高端智能清洗装备领域做专、做实、做精、做透、做特!经过15余年的发展,在华东、西南、厦门及东南亚等地区设立服务办事处。
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常压电浆清洗设备相关的仪器

  • 等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处: 1、其除去了有机层(含碳污染物),其会受到例如, 氧气 和空气的化 腐蚀,通过超压吹扫,将其从表面去除。   通过等离子体中的高能量粒子,脏污会转化为 稳定的小型分子 ,并借此将其移除,处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ,因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。   脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此,建议戴手套。 2、还原氧化物   金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体,使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面?  这种技术非常适用于以下工艺过程: 1、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理 2、在粘合、植绒、印刷(例如,汽车行业中的橡胶型材)之前,对弹性体进行等离子活化处理 3、在粘合或者粘接之前,对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理 4、极为适合在直接于移印机中移印之前,对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势? 技术适用于在线工艺,例如,在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘,植绒或者涂层之前进行等离子活化。 等离子体清洗与其它清洗方式对比表:应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体,腔室体积可变复杂的真空技术,在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理,适用于在线处理,无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因,等离子处理痕迹有限,处理较大的对象的时候,必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候,对象上可能会相应产生能量,这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候,可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗,受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵,以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理,工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节,以防止着火(很薄的材料)3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理(例如,点火线圈、水箱等)未知可进行局部表面处理(例如,粘结槽口)需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积(建议)可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子,半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理(例如,LCD、TFT 和芯片的生产)涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺,并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途
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  • 常压等离子清洗机设备厂家:诚峰智造自动On-Line(轴轮式)式AP等离子处理系统CRF-APO-500W型号(Model)CRF-APO-500W电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)2set*1000W/25KHz(Option)处理宽幅(Processing width)50mm-500mm(Option)有效处理高度(Processing height)5-15mm处理速度(Processing speed)0-5m/min传动方式(Drive mode)防静电绝缘滚轮喷头数量(Number)2(Option)工作气体(Gas)Compressed Air(0.4mpa)产品特点:配置专业运动控制平台,PLC+触摸屏控制方式,采用运动模组,操作简便;可选配喷头数量,满足客户多元化需求;配置专业集尘系统,保证产品品质和设备的整洁、干净;应用范围:主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;国防工业的航空航天电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
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  • 内镜室纯水设备产品说明:ZYNJQX内镜中心清洗纯水设备是一款依据中华人民共和国卫生行业标准 WS507-2016(软式内镜清洗消毒技术规范)要求的,设计精巧、低能耗、全自动控制无须人照看的消毒清洗纯水制取系统。采用双膜法[RO+MF+灭菌装置]分离纯化、除热源技术,去除水中污染物质和细菌达99.6%。此产品采用纳米级的过滤膜将符合GB5749的自来水纯化为符合医院内镜消毒清洗用的纯化水,并采用双波长紫外消解仪进行灭菌、化学消毒管路设计,能为广大内镜科室客户解决内窥镜消毒清洗用水,细菌总数<10CFU/100ml。 内镜室纯水设备产品功能介绍:■ 预处理系统去除原水颗粒物质、铁、锰、余氯、钙、镁离子及吸附有机物、异味等;★原水预处理加强型净化装置(MMF+ACF+SFF),全自动正反冲洗自洁功能,无须频繁更换;■ RO膜自动冲洗,开机定时18秒与制水完成后系统自动冲洗功能;■ 具有RO反渗透浓水回收控制功能,提高原水利用率,更节能和稳定原水水压;★具备ZYNJQX特制PLC控制系统完成电气和仪表部分的自动控制与监控,7英寸智能人机界面触摸屏操作模式,动画显示工艺操作流程,保护主机系统安全运行,弱电工艺保障操作人员人身安全;■ 具有系统开机自检、自动制水、自动冲洗、原水缺水/水箱满水自动停机、高低压保护等功能;★在线2路水质监控,实时在线监测进水和纯水水质,进水测量范围0~2000uS/cm (电导率)、RO纯水测量范围0~2O0uS/cm (电导率),电导池灵敏常数≤0.01cm-1,温度灵敏度≤±0.1℃,水温自动补偿功能,提高水质的准确性;★自带预处理、RO膜、双波长紫外消解仪等耗材配件更换自动提示,具备原厂耗材芯片识别功能;■ 采用一体式钣金机箱,系统结构布置紧凑,占地面积小,有效节约空间,并采用标准化、通用化、系统化零部件,便于拆装、更换、清洗零件;内部部件采用独立的水电分离模块式结构,使用安全且便于维护;■ 设备启动具备自动和手动两种控制模式,具有操作系统的故障识别和电压安全及过载保护、自动保护和报警功能,局部出现问题,系统自动停机;■具有三级密码设置功能,防止非相关人员不合理操作;■具有RS232 信号输出功能,可转接USB接口,远程传输,电脑数据处理保存及打印,具有密码设置功能,防止非相关人员不合理操作;(选配)■远程控制系统,可在50米外通过软件监测主机运行状态,并可通过软件进行远程操作水机,如停机,开机,冲洗、水质监测等;(选配)★标配双波长(185/254nm)紫外消解仪、化学消毒装置,保证灭菌效果极佳;★消毒功能:全自动一键式化学消毒、一键式CIP化学清洗功能,随时对系统进行灭菌消毒,保障出水水质;■ 标配恒压循环供水系统,供水泵过流部件为SUS304材质,供水压力为0.2MPa~0.4MPa,有效保证不同用水点出水流量和压力要求;■ 设备管路采用经验证不污染水质的卫生级管道UPVC材质(包含弯头、三通等),管道布局满足一机多处循环供水要求,布局合理、美观、无死腔,并标记走向,方便后期维护;内镜室纯水设备技术参数:机 型类 型大通量工程机版型 号ZYNJQX-C常规型ZYNJQX-M标准型ZYNJQX-P豪华型制水量(L/H)250/500升/小时250/500/750/1000/1500/2000/2500/3000升/小时250/500/1000升/小时进水水源城市自来水(TDS<400ppm),水压3.0~5.0kg/cm2,工作水温10~30℃ 进水电导率监测范围0~2000 uS/cm(在线监测)出水流速15~30升/分钟RO产水水质(uS/cm)电导率 2~15 uS/cm(在线监测)RO膜孔径:0.0001~0.001um、微颗粒物(≥0.2um)<1个/ml、微生物<10CFU/100ml灭菌装置185/254nm双波长紫外灭菌消解仪+化学消毒模块 水质预处理器MMF+ACFMMF+ACF+SFFMMF+ACF+SFF主机尺寸(mm)深700*宽950*高1700mm深750*宽1600*高1700mm (500L及以下) 深750*宽1700*高1700mm (750~1000L)深780*宽1200*高1700mm (1500~2000L)深750*宽1700*高1700mm重 量(kg)180~200kg 140~200kg200~240kg 功 率(KW)1.9~2.2KW 2.4~3.6KW 2.4~3.0KW 适用范围1、器皿冲洗、学生实验;2、制备化学溶液生化试剂;3、缓冲液、清洗机、高压灭菌锅;4、内镜清洗、漂洗、终末漂洗、清洗液配制;本系统适用于:美美、肯格王、老肯、迈尔、新华、 白象等内镜清洗消毒设备,医院内镜清洗中心,清洗消毒供水系统;纯水储水箱标配300L(D730*H950mm)标配300L(D730*H950mm) (500L主机及以下)标配500L(D860*H1100mm) (1000L主机) 标配1000L(D1050*H1350mm) (1000L主机以上) 标配300L/500L 内镜室纯水设备定货须知:本产品制水量是指水温25℃时的RO膜额定制水量,水温每降低1℃,RO膜产水量约下降3%,当水温低于5℃时,RO膜将停止产水,用户选型订货时须考虑到所在地区冬季水温下降的因素;原水水质差(TDS200ppm)地区,RO产水水质较差(电导率可能会升高至10uS/cm以上);水质要求较高用户建议选配双级反渗透工艺或加配前置软水器;
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常压电浆清洗设备相关的资讯

  • 国家高压电气设备质检中心落户鹰城
    近日,河南省质量技术监督局《关于筹建国家高压电气设备质量监督检验中心(平顶山)的请示》获国家质检总局的正式批复,同意由省质量技术监督局负责在河南省高压电气研究所的基础上,筹建国家高压电气设备质量监督检验中心。  河南省高压电气研究所是一家依托平高集团以高压电气产品研发为主的单位。平高集团是我国高压开关行业三大研发和生产制造基地之一。在这三大基地中,只有平高集团不具备大容量试验条件,已成为该集团做大做强、可持续发展的瓶颈。  从去年下半年开始,省质监局就会同平顶山市政府经过反复调研论证,最终确定在河南省高压电气研究所的基础上向国家请示筹建国家高压电气设备质量监督检验中心。  据了解,国家高压电气设备质量监督检验中心完全建成后将成为世界上试验能力最强的实验站之一,具备产品质量检验、仲裁检验、型式试验、科学研究性试验、标准制(修)订、技术服务等多种功能,将成为支撑河南省及中南、中东部地区高压开关行业健康、快速、可持续发展的公共检测技术平台。中心同时将承担平高集团现有产品的检验检测、研究性试验及新产品的研发、进出口高压开关设备的检验检测等任务,以及检验检测技术的研究、有关标准(规程)的试验验证及制(修)订等工作。
  • relyon发布relyon手持式等离子清洗机PZ3新品
    piezobrushPZ3高效便携式手持等离子体发生器piezobrush PZ3 是一款小体积紧凑型手持等离子体发生器,适用于实验室开发以及小批量产品的研发和组装加工。piezobrush PZ3的最大功耗为18瓦,凭借压电直接放电技术(Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技术)可以产生温度低于50摄氏度的冷活性等离子体。PZ3的核心部件是来自TDK电子集团的CeraPlas™ ,用来产生常压冷活性等离子体的高压放电组件。等离子体能高效加工活化材料表面,同时还可以杀菌消毒和祛除异味。 应用领域》 接合技术 》 生产流程的开发和优化 》 实验室的研发设备 》 微生物、微流体以及食品生产 》 医疗和牙科技术 》 原型和样品模型制造 》 小批量生产加工潜在用途》 各种基础材料表面的活化加工处理 》 提高材料表面润湿性 》 优化黏合、喷漆、印刷以及涂层处理工艺 》 塑料、玻璃、陶瓷、金属、半导体、天然纤维以及复合材料的表面加工处理 》 精细清洁 》 杀菌消毒和祛除异味piezobrushPZ3的技术参数供电电源:AC110-240/50-60Hz最大功耗:18W重量:110g产品组成:手持式设备带电源线,集成风扇音量:45dB等离子体温度:不超过50℃加工处理速度:5cm2/s加工处理距离:2–10mm加工处理宽度:5–29mm可替换模块为了取得最好的加工处理效果,不同类型的材料表面需要使用相应的模块组件进行活化加工处理。我们目前为piezobrushPZ3手持式等离子体发生器提供两种不同的可替换模块组件。piezobrushPZ3所产生的冷活性等离子体是基于压电直接放电技术(Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技术)中的高强度电场放电形成的。因此,待处理材料表面的电导率是选择相应可替换模块组件的重要参考。标准模块近场模块标准模块是专门为非导电材料(例如塑料、陶瓷以及玻璃等)表面加工处理设计的。为了获得最好的加工处理效果,推荐的使用距离为1–5毫米。如果加工材料表面产生不受控制的偏移或者翻转,等离子体加工设备将自动切断电源并关闭。在这种情况下,材料表面将会部分导电,因此后续的加工处理请使用近场模块进行操作。近场模块用于处理(部分)导电材料例如金属、碳纤维强化聚合物、铅玻璃以及导电塑料等。如果是带有导电涂层的材料或是产品中带有导电组件的情况下,也建议使用近场模块以获得最佳的加工处理效果。只有当近场模块足够接近待处理的导电材料表面时(也可以穿透所覆盖的薄绝缘涂层),才会激发点燃等离子体。当距离在几毫米的范围内,近场模块和待处理材料表面之间可以看见紫光,表明加工处理正在进行。系统会自动识别当前所使用的模块类型,并相应地调整加工处理参数。液晶显示为了更好的控制等离子体的各种加工处理过程,piezobrush PZ3配备了一块液晶显示屏用来显示和调用各种不同的功能:过程控制: 》 秒表:用来测量时间 》 定时器:具有自动结束功能的定时功能 》 节拍器:在设定的加工处理间隔以后,会给予声音反馈功耗设置:多级可调的等离子体功率piezobrushPZ2和piezobrushPZ3的对比piezobrush PZ3被认为是piezobrush PZ2的后继产品。下表简单介绍了两个产品各自的优点。piezobrushPZ2带内置电源的手持式设备可更换的喷嘴无法进行过程控制 piezobrushPZ3 带内置电源的手持式设备 可更换的压电模块 过程控制:秒表、定时器以及节拍器 110-240V/ 50-60Hz供电电源110-240V/ 50-60HzMax.30W功耗Max18W170g重量110g57dB噪音水平45 dB不超过50℃等离子体温度不超过50℃4cm2/s加工处理速度5cm2/s2–10mm使用距离2 – 10mm20mm最大使用宽度29mm标准、近场和混合喷嘴/模块标准、近场氩气、氦气和氮气工作气体/ 创新点:piezobrush® PZ3被认为是piezobrush® PZ2的后继产品。下表简单介绍了两个产品各自的优点。piezobrush® PZ2带内置电源的手持式设备,可更换的喷嘴,无法进行过程控制piezobrush® PZ3 带内置电源的手持式设备,可更换的压电模块,过程控制:秒表、定时器以及节拍器relyon手持式等离子清洗机PZ3
  • 盛美半导体首台清洗设备入驻芯物科技!
    2021年6月7日,上海芯物科技有限公司12吋中试生产线工艺设备搬入仪式在新傲工厂举行,盛美半导体设备(上海)股份有限公司首台清洗设备入驻芯物科技!据国家智能传感器创新中心负责人在致辞时介绍,12英寸先进传感器特色工艺研发中试平台超过80%的设备均采用国产设备,为国产装备提供验证平台,加速传感器产业链国产化,实现自主可控。盛美半导体董事长 王晖 先生王晖先生在致辞时说:“能够获得和芯物科技一起成长的机会,我代表盛美向芯物科技表示衷心的感谢!在这个充满机会与挑战的时代,期待未来和芯物科技一起,开发一些全球领先的差异化特色工艺和设备,把中国的MEMS做到世界前列!”设备搬入合影盛 美 前道刷洗设备盛美本次进驻芯物科技的设备为前道刷洗设备,该设备采用单片腔体对晶圆正背面依工序清洗,可进行包括晶圆背面刷洗、晶圆边缘刷洗、正背面二流体清洗等清洗工序。设备占地面积小,产能高,稳定性强,多种清洗方式灵活可选,且可用于芯片制造的中前段至后段各道刷洗工艺。据了解, 盛美主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售,主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等。公司坚持差异化竞争和创新的发展战略,通过自主研发的单片兆声波清洗技术、单片槽式组合清洗技术、电镀技术、无应力抛光技术和立式炉管技术等,向全球晶圆制造、先进封装及其他客户提供定制化的设备及工艺解决方案,有效提升客户的生产效率、提升产品良率并降低生产成本。

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  • 【分享】超声波清洗设备的分类

    超声波清洗设备一般可分为通用和专用两种机型。1、通用超声波清洗机 超声波清洗机的结构一般有超声电源和清洗器合为一体或分开布局两种形式,一般小功率(200W以下)清洗机用一体式结构,而大功率清洗机采用分体式结构。超声波清洗机分体式结构由三个主要部分组成(1)清洗缸;(2)超声波发生器;(3)超声波换能器;清洗缸:清洗缸是用来装载清洗液及被清洗工件的不锈钢容器,大多数工件可先装在网状框架内,再一起放人缸内清洗。超声波发生器:超声清洗机用的超声波发生器,从使用的元器件种类可以分电子管式的,可控硅式的和晶体管式的。近几年来已经发展到用大功率“功率模块”的方式。其输出功率从几十瓦直到几千瓦,工作频率从15kHz—40kHzo 超声波清洗机用的超声波发生器,有以下特点: (1)随着清洗液深度不同,换能器共振频率和阻抗变化很大。但是实践表明,槽内放进适量清洗物后,基本上就可以稳定在某一定数值上。 (2)一般来说,由于清洗负载变动较小,可以不要求复杂的频率自动跟踪电路。 (3)实用超声波发生器,大多数采用大功率自激式反馈振荡器。超声波换能器:超声波清洗机用的换能器主要有以下几种:①磁致伸缩换能器国内用的磁致伸缩换能器大多数是用镍片叠成的窗口型换能器,将它银焊在清洗缸底部,然后用导线在窗口上绕一定卷数而成。此种换能器能承受较大功率,且可靠性好,使用寿命长。缺点为效率较压电换能器低,原材料镍片价格贵。②压电式换能器目前国内外大多数超声波清洗机用的是压电式换能器。这种换能器一般有两片压电陶瓷晶片组成。一台清洗机用多个换能器,经粘接剂粘接在清洗缸底部且经并联联接组成一台清洗机的换能器。换能器基元之间距(对于频率20kH4一般在5—10mm为佳,太大了容易产生弯曲振动,且振动板受到腐蚀,同时辐射面相对减少。通用超声清洗机清洗零件适用性强,已广泛应用于电子、钟表、光学、机械、汽车、航空、原子能工业、医疗器械等许多行业。

  • 灭菌纯水处理设备处理性能及清洗流程

    人的一生会有很多种疾病,不同疾病到不同部门看。医院有许多部门,如医院将分为手术室、实验室。该实验室是所有细菌的来源,所以水为的安全是非常重要的。医药纯化水处理设备主要为医院实验室用水(清洗机,以及各种清洗车,用高压灭菌设备),用于去除各种医疗设备,家用电器和其它商品。  制药厂水处理系统性能  1、纯化水设备的纯化水制水系统选用国外一流的反渗透膜组件、高压泵、紫外杀菌器、控制器等组装部件。  2、整套医疗用水制备系统全自动运行,具有预处理系统自动冲洗及再生功能。纯水箱液位和纯水输送自控功能。具有无水保护和高、低压力保护等多种装置安全功能。  3、停用期间仍具有定时进行反渗透膜自动清洗、纯水管路自动消毒和纯水自动再循环等功能,防止细菌等微生物滋生和热原产生。  5、纯化水制水系统采用的是灵活可靠的工艺设计,可适合不同水源的使用。满足用户远程、高位、多点使用的特殊要求。并且医疗用水制备系统设有应急使用接口。  制药厂水处理系统清洗流程  1、冲洗:将器械、器具和物品置于流动水下冲洗,初步去除污染物。  2、洗涤:冲洗后,应用酶清洁剂或其它清洁剂浸泡后刷洗、擦洗。  3、漂洗:洗涤后,再用流动水冲洗或刷洗。  4、终末漂洗:用纯水或蒸馏水进行冲洗。  5、冲洗、洗涤、漂洗时应使用软水。终末漂洗、消毒时使用纯化水。  总之医疗服务中心实验室严格的重点科系是一个重要的部门,作为医院的经济发展和社会福利的一个坚实的基础,是控制医院感染。实验室和临床科室因为关系最为紧密,因此感染,好或坏,他们的工作质量和直接相关的医院和护理安全质量,同样重要的临床工作。清洗,消毒是控制感的第一步。

  • 怎样正确清洗实验室设备

    实验室设备在使用中会沾上油腻、胶液、汗渍等污垢,在贮藏保管不慎时会产生锈蚀、霉斑,这些污垢对实验室设备的寿命、性能会产生极其不良的影响。清洗的目的就在于除去实验室设备上的污垢。通常实验室设备的清洗有两类方法,一是机械清洗方法,即,用铲、刮、刷等方法清洗;二是化学清洗方法,即用各种化学去污溶剂清洗。具体的清洗方法要依污垢附着表面的状况以及污垢的性质决定。那么,对于实验室设备上的污垢该怎样正确清洗呢?实验室设备的正确清洗方法如下:橡胶件的清洗:实验仪器中用橡胶制成的零部件很多,橡胶作为一种高分子有机物,在沾有油腻或有机溶剂后会老化,使零部件产生形变,发软变粘;用橡胶制成的传动带,若沾有油污会使摩擦系数减小,产生打滑现象。清洗橡胶件上的油污,可用酒精、四氯化碳等作为清洗剂,而不能使用有机溶剂作为清洗剂。清洗时,先用棉球或丝布蘸清洗剂拭擦,待清洗剂自然挥发干净后即可。应注意,四氯化碳具有毒性,对人体有害,清洗时应在较好通风条件下进行,注意安全。塑料件的清洗:塑料的种类很多,有聚苯乙烯、聚氯乙烯、尼龙、有机玻璃等。塑料件一般对有机溶剂很敏感,清洗污垢时,不能使用如汽油、甲苯、丙酮等有机溶剂作为清洁剂。清洗塑料件用水、肥皂水或洗衣粉配制的洗涤剂洗擦为宜。钢铁零部件除锈:钢铁零部件极易锈蚀,为防止锈蚀,教学仪器产品中的钢铁件常涂有油层、油漆等防护层,但即使如此,锈蚀仍常发生。清除钢铁零部件的锈蚀,应根据锈蚀的程度以及零部件的特点采用不同的方法。对尺寸较大,精密程度不高或用机械方法除锈不易除净钢铁零部件,可采用化学方法除锈,如用浓度为2~25%的磷酸浸泡欲除锈的部件,浸泡时加温至40~80℃为宜,待锈蚀除净后,其表层会形成一层防护膜,再将部件取出浸泡在浓度为0.5~2%的磷酸溶液中约一小时,最后取出烘干即可。在实验室使用这类化学方法除锈中若操作稍有不当,反会损坏零部件,特别是精密零部件。因此在实验室,除锈不宜多用化学方法,而应采用机械除锈方法,即先用铲、剔、刮等方式将零部件上的锈蚀层块除去,再用砂纸砂磨、打光,最后涂上保护层。对于有色金属及其合金材料构成的零部件,其除锈方法可参照钢铁零部件的除锈方法进行。但应注意两点,其一,采用化学方法除锈时,应根据零部件材料的化学特性配制和使用不同的化学除锈剂;其二,除去有色金属及其合金构成的零部件的锈蚀,一般采用机械除锈方法为宜。玻璃器皿的清洗:附着玻璃器皿上的污垢大致有两类,一类是用水即可清洗干净的,另一类则是必须使用清洗剂或特殊洗涤剂才能清洗干净的。在实验中,无论附在玻璃器皿上的污垢属哪一类,用过的器皿都应立即清洗。盛过糖、盐、淀粉、泥砂、酒精等物质的玻璃器皿,用水冲洗即可达到清洗目的。应注意,若附着污物已干硬,可将器皿在水中浸泡一段时间,再用毛刷边冲边刷,直至洗净。玻璃器皿沾有油污或盛过动植物油,可用洗衣粉、去污粉、洗洁精等与配制成的洗涤剂进行清洗。清洗时要用毛刷刷洗,用此洗涤剂也可清洗附有机油的玻璃器皿。玻璃器皿用洗涤剂清洗后,还应用清水冲净。对附有焦油、沥青或其他高分子有机物的玻璃器皿,应采用有机溶剂,如汽油、苯等进行清洗。若还难以洗净,可将玻璃器皿放入碱性洗涤剂中浸泡一段时间,再用浓度为5%以上的碳酸钠、碳酸氢钠、氢氧化钠或磷酸钠等溶液清洗,甚至可以加热清洗。在化学反应中,往往玻璃器皿壁上附有金属、氧化物、酸、碱等污物。清洗时,应根据污垢的特点,用强酸、强碱清洗或动用中和化学反应的方法除垢,然后再用水冲洗干净。使用酸碱清洗时,应特别注意安全,操作者应带橡胶手套防护镜;操作时要使用镊子,夹子等工具,不能用手取放器皿。此外,洗净的玻璃器皿,最后应用毛巾将其上沾附的水擦干。光学玻璃的清洗:光学玻璃用于仪器的镜头、镜片、棱镜、玻片等,在制造和使用中容易沾上油污、水湿性污物、指纹等,影响成像及透光率。清洗光学玻璃,应根据污垢的特点、不同结构,选用不同的清洗剂,使用不同的清洗工具,选用不同的清洗方法。清洗镀有增透膜的镜头,如,照相机、幻灯机、显微镜的镜头,清洗时应用软毛刷或棉球沾有少量清洗剂,从镜头中心向外作圆运动。切忌把这类镜头浸泡在清洗剂中清洗;清洗镜头不得用力拭擦,否则会划伤增透膜,损坏镜头。清洗棱镜、平面镜的方法,可依照清洗镜头的方法进行。光学玻璃表面发霉,是一种常见现象。当光学玻璃生霉后,光线在其表面发生散射,使成像模糊不清,严重者将使仪器报废。光学玻璃生霉的原因多是因其表面附有微生物孢子,在温度、湿度适宜,又有所需“营养物”时,便会快速生长,形成霉斑。对光学玻璃做好防霉防污尤为重要,一旦产生霉斑应立即清洗。消除霉斑,清洗霉菌可用0.1~0.5%的乙基含氢二氯硅烷与无水酒精配制的清洗剂清洗或用环氧丙烷、稀氨水等清洗。使用上述清洗剂也能清洗光学玻璃上的油脂性雾、水湿性雾和油水混合性雾,其清洗方法与清洗镜头的方法相仿。(文章来源:中国百科网)

常压电浆清洗设备相关的耗材

  • 半导体清洗设备配件PFA扩口直通接头
    半导体清洗设备配件中的PFA扩口直通接头,无疑是现代高科技产业中不可或缺的一环。其优异的性能与广泛的应用,使得它在半导体制造过程中占据了举足轻重的地位。  PFA扩口直通接头以其独特的材料特性和设计优势,满足了半导体清洗设备对高精度、高洁净度和高耐腐蚀性的严苛要求。它的扩口设计不仅提高了接头的连接强度,还增强了其密封性能,有效防止了清洗液的泄漏。而直通式的结构则减少了流体在管道中的阻力,提高了清洗效率。  此外,PFA材料本身具有极佳的化学稳定性和耐高温性,能够抵抗各种强酸、强碱和有机溶剂的侵蚀,保证了接头在长期使用过程中的稳定性和可靠性。这种材料还具有良好的自润滑性,降低了接头在运转过程中的摩擦系数,延长了使用寿命。  在半导体清洗设备的运行过程中,PFA扩口直通接头发挥着至关重要的作用。它不仅能够确保清洗液的顺畅流通,还能够有效防止杂质和颗粒物的进入,从而保证了半导体器件的清洗质量和生产效率。  随着半导体技术的不断发展,对清洗设备及其配件的要求也越来越高。PFA扩口直通接头作为半导体清洗设备中的重要配件,其性能的提升和创新将直接影响到整个半导体产业的发展。因此,我们应该继续加大对该领域的研发力度,推动PFA扩口直通接头技术的不断进步,为半导体产业的繁荣发展贡献力量。
  • 佰氟达半导体清洗设备配件耐高温PFA阀门
    半导体清洗设备配件中的耐高温PFA阀门,无疑是保障整个清洗流程稳定运行的关键一环。PFA阀门,以其卓越的高温耐受性能,成为半导体清洗设备中不可或缺的组成部分。在半导体制造过程中,清洗环节对设备配件的性能要求极高,特别是在高温环境下,阀门必须能够保持稳定的工作状态,确保清洗效果达到预期。  PFA阀门以其独特的材料特性,在高温环境下展现出优异的性能。PFA,即全氟烷氧基聚合物,具有出色的耐高温、耐腐蚀和耐磨损等特性,使得阀门在高温、高压、强腐蚀的半导体清洗环境中能够长期稳定运行。此外,PFA阀门还具有良好的密封性能,能够有效防止清洗液泄漏,确保清洗过程的安全性和可靠性。  在半导体清洗设备中,耐高温PFA阀门的应用广泛。它不仅能够满足设备对高温清洗的需求,还能确保清洗过程中不会产生有害物质,从而保障半导体产品的质量和安全。同时,PFA阀门的维护成本相对较低,使用寿命长,有助于降低设备运行成本,提高生产效率。  总之,半导体清洗设备配件中的耐高温PFA阀门,以其卓越的性能和广泛的应用领域,为半导体制造业的发展提供了有力保障。随着半导体技术的不断进步和清洗工艺的日益完善,耐高温PFA阀门将在未来的半导体制造过程中发挥更加重要的作用,推动整个行业的持续发展和创新。
  • 佰氟达半导体清洗设备配件PFA扩口法兰接头
    在现代半导体工业中,清洗设备的重要性不言而喻。作为半导体清洗设备的关键组成部分,PFA扩口法兰接头不仅承载着传递介质的重要任务,更在设备的稳定运行和延长使用寿命方面发挥着至关重要的作用。  PFA扩口法兰接头以其独特的性能和优势,在半导体清洗设备中占据了不可或缺的地位。这种接头采用PFA材质,具有优异的耐腐蚀性和耐高温性,能够抵御清洗过程中产生的各种化学物质的侵蚀,确保设备的长期稳定运行。同时,其扩口设计使得接头在连接时更加紧密,有效防止了介质泄漏的发生,进一步提升了设备的安全性和可靠性。  然而,正如任何精密设备一样,PFA扩口法兰接头也需要定期的维护和保养。在使用过程中,我们需要密切关注接头的运行状态,定期检查其是否出现磨损或老化现象。一旦发现问题,应及时进行更换或维修,以避免因接头问题导致整个清洗设备的故障。  此外,随着半导体技术的不断发展,对清洗设备的要求也越来越高。因此,我们还需要不断研发新型的PFA扩口法兰接头,以满足日益严格的工艺需求。例如,我们可以尝试优化接头的结构设计,提高其承压能力和耐腐蚀性 或者研发新型的PFA复合材料,以进一步提升接头的性能和寿命。  总之,PFA扩口法兰接头作为半导体清洗设备的关键配件,其性能和使用寿命直接影响到整个设备的运行效果和稳定性。因此,我们需要对其给予足够的重视和关注,确保其始终保持在最佳的工作状态。
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