发射光源测量系统

ZLX-ES系列发射光谱/光源测量系统发射光谱/光源测量系统介绍 发光体，如白炽灯、荧光灯、LED等辐射光谱及发光特性的测试，对研究其特性有很大帮助。系统不仅可测量光源或其他发射光谱分布，而且可在此基础上得到积分辐射通量、光通量、色坐标等。 针对不同辐射光源的特性，可灵活选择测试系统，如：宽带光源和LED通常分辨率要求不高，可使用Omni-&lambda 150系列单色仪系统；激光器、放电灯、等离子体、原子发射光谱等要求分辨率高，可使用Omni-&lambda 300、Omni-&lambda 500、Omni-&lambda 750系列单色仪系统；宽波长范围（UV～IR），建议采用双出口单色仪接两个探测器；测试宽光谱范围的发光体，建议采用SD滤光片轮消多级光谱。系统组成：分光系统＋检测系统＋数据采集及处理系统＋软件系统＋计算机系统

E5000发射光谱仪具有全谱多元素同时分析、分析速度快、分析精准、稳定性好等优点，分析性能达到了国际领先水平。作为全球首创粉末样品元素分析的台式全谱直读发射光谱仪，E5000发射光谱仪拥有创新的高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的帕型-龙格全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术，同时，E5000发射光谱仪结合时序分析、光谱自动校正等先进技术，采用固体样品直接进样的方法，全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题，是光谱元素分析领域的重大突破。E5000发射光谱仪产品结构设计　　电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合，新一代固体粉末分析技术；　　Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统，能测定需要分析的所有常规元素；　　紧凑的小型台式设计，确保稳定可靠、易用便捷；　　防溢出CCD高速数采系统，信噪比高、动态范围大；　　高功率数控可编程光源，电流、电压、频率可控，提供更优的分析方法；　　多重连锁和监控，确保操作安全可靠；　　全自动电极激光对准系统；　　粉末样品直接进样，方便迅速；　　一键激发，立刻获得分析结果；　　内置工作曲线，客户无需手动建线，切实提高工作效率；　　软件开放所有高级功能，为客户提供完美的方法开发平台。E5000发射光谱仪全谱测量技术　　全谱平台拥有丰富的谱线信息，更易于元素扩展与方法开发；　　基于全谱测量的数据，能够正确区分背景和谱线，有效提高测量精度；　　- 方便查看谱线及干扰情况　　- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式　　强大的自动谱线去干扰算法；　　- 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线　　- 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开，有效消除谱线的干扰　　根据元素的含量范围选择不同的分析谱线，大含量范围的测量更准确；　　- 多谱线结合，扩展分析范围的同时，有效保证分析精度；　　- 避免灵敏线饱和，不需要消释样品，取得更大的分析范围；CCD高速数采系统　　防溢出线阵CCD；　　采用动态积分，有效扩展CCD的动态范围；Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统　　恒温型全固定光学系统；　　全反射式光路；　　光室结构紧凑；　　一体式固定；　　光学器件少，性能稳定；　　基于CCD的全谱采集和分析；全新一代电弧数控光源　　数控光源体积小、效率高；　　基于数控可编程技术，光源的电流、电压、频率可调节；　　分析不同含量的元素，选择最佳的激发参数，降低元素分析的检出线，改善元素分析的准确度；　　可设置及读取不同检测阶段的数据；一键激发及全自动对准电极　　样品装载激发一气呵成，方便快捷；　　多元素同时分析，直接得到最终结果；　　设计精良的电极挟持旋钮；　　红外激光对准、先进的电极激光自动对准技术；　　水冷电极夹提高检测稳定性；多重连锁和安全保护　　可靠的水冷系统，分别对电弧光源和激发电极散热；　　实时监控仪器的运行状态，所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒；　　界面上有关键温度的显示，第一时间查看仪器的运行情况；　　排风监控，消除废气影响；　　特殊的风道设计提高稳定性；水冷系统 强大的分析软件　　便捷易用的分析软件；　　- 操作直观、便捷、层次化的软件界面，非专业人员也能方便操作　　- 简单的方法开发过程，各种检测条件都可调节　　强大的多元素分析平台；　　- 便捷的全谱查看　　- 多元素分析及多谱线选择　　- 一键激发，直接在软件上得到分析结果　　- 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护可分析元素及多谱线选择　　全面智能的软件算法；　　- 内置工作曲线，完善的时序分析，能够实现定性、定量分析　　- 丰富的处理技术，支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法　　- 功能强大的高级处理功能，为客户带来更全面、更精确的分析体验　　独创的智能漂移校正技术。

技术介绍：系统采用双传感器设计，可在石墨盘旋转同时进行整个石墨盘的漫反射率、镜面反射率及发射率二维分布Mapping 测量；原理用途：物体的发射率与物体的表面状态(包括物体表面温度、表面粗糙度、面形以及表面氧化层、涂层、缺陷、残留物、表面杂质等)有关。所以，通过对石墨盘各个点发射率的测量可以直接反映出石墨盘表面肉眼难以观测到的表面细节，同时基于黑体辐射原理进一步评估石墨盘表面温度的分布情况。这对有效控制器件的质量，以及优化生长工艺有帮助。技术指标及特点：1. 扫描尺寸：700mm；2. 适配石墨盘：大部分商用石墨盘；3. 扫描分辨率：径向分辨率0.05mm，角度分辨率0.1°，用户可自定义；4. 扫描时间：10 分钟（465mm 尺寸的石墨盘，以径向1mm，角度0.1°测量）；5. 测量光点尺寸：2mm6. 光源波长：940nm 或660nm（可选）；7. 镜漫反射率分辨率：±0.005；镜漫反射率准确度：±0.01；发射率分辨率：±0.01；发射率准确度：±0.02；8. 系统为离线测量设备，便于石墨盘的装卸。软件操作简单，专为操作员及工程师设计；