高新离子研磨装置

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高新离子研磨装置相关的厂商

  • 东莞市创力研磨科技有限公司是一家专业从事金刚石单晶、多晶微粉、抛光液、研磨盘、抛光皮及微米、纳米尺寸超硬粉体材料、超精密研磨抛光产品的研发设计、生产制造、销售和售后服务于一体的科技型企业,公司拥有雄厚的专业技术力量,精湛的生产工艺和先进的加工设备,拥有国际上最先进的现代化检测仪器设备以及优质的服务得到了国内外高端客户的广泛好评及信赖。自创建以来,公司以提供高端应用的超精密研磨抛光材料,专业为客户提供全系列的研磨材料和全方位的技术服务,产品主要分为:金刚石粉体、研磨抛光液和抛光辅料三大系列,广泛应用于LED蓝宝石晶体、LED芯片、精密光学玻璃、半导体晶片、超硬材料精密工具以及硬盘、磁头、陶瓷、金属的研磨抛光表面加工领域,耐磨工件的表面复合镀领域。公司相继通过严格的ISO9001 /ISO14001和OHSAS18000管理体系,构建合理的运营管理机制,以技术创新为动力,协助客户提高产品性能和科技含量,使客户在其相关行业内长期保持创新优势,为客户创造了良好的经济效益。 公司崇奉“诚信、务实、创新、超越”的团队精神,将及时、有效地为客户提供优质的服务。
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  • 我们公司是PCB,FPC及半导体行业周边研磨材料生产,在国内生产不织布刷辊,尼龙针状刷辊,陶瓷刷辊,火山灰,涂布辊轮,耐高温耐酸碱研磨特种橡胶滚轮,吸水滚轮,麦拉膜等一系列产品。
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  • 400-860-5168转5015
    北京艾博智业离子技术有限公司是以离子技术优势为基础,通过整合优势资源成立的专业离子技术应用公司。公司聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备研发及制造,在以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造领域沉浸多年,拥有专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验,形成了一套严谨、完整的产品的研发、生产、销售体系。公司对标国内外先进同行企业,多次研制出填补国内空白的产品,在知名高校院所和产业单位得到青睐。
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高新离子研磨装置相关的仪器

  • 日立离子研磨装置IM4000 II 具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的混合模式带有两种研磨配置:断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性。日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的高通量能提高加工效率: 与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。(参考加工速率:硅元素为300微米/小时 &mdash 加工时间减少了66%。日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的可拆卸样品台装置:为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。特点 混合模式:两种研磨配置断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性高效:提高加工效率与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间(参考加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)可拆卸式样品台:为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸型 -- more detail--
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  • 日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量,并制备广域横截面样品。  离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。  与机械抛光不同,离子研磨系统处理样品而不会变形或施加机械应力。因此,用于预处理样品的离子铣削系统的应用范围不断扩大,不仅包括扫描电子显微镜(SEM),还包括原子力显微镜(SPM / AFM)等。离子铣削系统应用范围广泛,日立高新收集了用户在各种领域提供的关键性建议和改进,并将它们纳入到最 新的设计平台。  新推出的ArBlade 5000具有混合研磨功能,能够进行横截面研磨,是日立离子研磨系统的独 家标志。此功能使样品能够根据所需的目的和应用进行预处理。  ArBlade 5000还具有PLUS II离子枪技术设计。这是一种新的氩离子枪,可以实现了1mm/hr以上的截面铣削速度(日立高新的IM4000Plus型号的两倍)。新系统使用户能够在比以前更短的时间内准备横截面,包括陶瓷和金属等硬质材料,这往往需要较长的加工时间。  此外,日立高新开发了全新的宽区域横截面研磨,以实现横截面研磨,最 大研磨宽度为8mm,从而可以制备比以往更大的截面样品。通过与下一代氩离子枪的协同效应,新的ArBlade 5000可以与市场上可用的任何其他离子系统一起制备广域横截面样品。  主要特点  1.能够进行横截面和平面的混合研磨系统。  2.通过PLUS II离子枪技术设计高速氩离子枪实现1mm/hr或更高的横截面研磨速度。  3.通过使用广域横截面研磨,实现最 大宽度达8mm的广域加工。  4.基于采用LCD触摸面板的全新控制系统,增强了可操作性。
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  • 立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器! 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的混合模式带有两种研磨配置:断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性。 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的高通量能提高加工效率:与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。(最大加工率:硅元素为300微米/小时 — 加工时间减少了66%。 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的可拆卸样品台装置: 为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。 特点 混合模式:两种研磨配置断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性 高效:提高加工效率与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间(最大加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%) 可拆卸式样品台:为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸型
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高新离子研磨装置相关的资讯

  • 日立学堂|离子研磨应用技术培训圆满完成
    TEACHING用户培训10月28日,日立科学仪器2021年度离子研磨应用技术培训圆满完成。离子研磨是SEM样品成像,EDS、EBSD、CL分析等重要的样品前处理设备,广泛应用于锂电,半导体,材料,生物医药等各个领域。为满足用户应用需求,提升用户应用水平,日立科学仪器于10月26日至28日在上海应用中心成功举办了日立离子研磨应用技术培训班。此次培训不仅对离子研磨平面与截面加工的基本原理与操作进行了讲解,并分别选取了粉末,块状,需包埋样品,易热损伤样品等典型样品进行了加工方法与技巧,加工后样品观察条件的选择进行了针对性的讲解。另外,培训工程师还通过实际操作向用户演示了离子枪的清洗与更换等维护保养工作。 通过此次离子研磨应用技术的培训,日立科学仪器专业技术团队为用户提供了专业的样品前处理方法与技巧,针对性解决了目前用户在使用过程中遇到的问题。在以后的工作过程中,日立科学仪器也将始终不忘初心,砥砺前行,始终为日立用户提供从样品制备到样品观察分析等最专业,最全面的技术支持。 关注公众号,第一时间了解后续应用技术培训班日程~公司介绍:日立科学仪器(北京)有限公司是世界500强日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。本公司秉承日立集团的使命、价值观和愿景,始终追寻“简化客户的高科技工艺”的企业理念,通过与客户的协同创新,积极为教育、科研、工业等领域的客户需求提供专业和优质的解决方案。 我们的主要产品包括:各类电子显微镜、原子力显微镜等表面科学仪器和前处理设备,以及各类色谱、光谱、电化学等分析仪器。为了更好地服务于中国广大的日立客户,公司目前在北京、上海、广州、西安、成都、武汉、沈阳等十几个主要城市设立有分公司、办事处或联络处等分支机构,直接为客户提供快速便捷的、专业优质的各类相关技术咨询、应用支持和售后技术服务,从而协助我们的客户实现其目标,共创美好未来。
  • 飞纳电镜新搭档——1060 离子研磨抛光仪
    离子研磨抛光仪是一台高质量的 sem 样品制备台式精密仪器,满足几乎所有应用材料的制备。离子研磨抛光仪是通过物理科学技术来加强样品表面特性。使用的是惰性气体中具有代表性的氩气,通过加速电压使其电离并撞击样品表面。在控制的范围内,通过这种动量转换的方式,氩离子去撞击样品表面从而达到无应力损伤的 sem 观察样品。1060 ion milling 台式离子研磨抛光仪先进的样品制备技术如今 sem 在快速研究和分析高端材料结构和性能方面被认为是一种非常理想的手段方式,fischione 1060 是一个优秀的样品制备工具,是一台具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统,设计精巧,操作方便,性能稳定。1060 离子研磨抛光仪为 sem 呈现样品表面结构和分析样品特性提供了便利,是 sem 样品制备完美的工具,正不断用于制备高质量的 sem 样品,满足苛刻的成像及分析要求。专利的双离子束源fischione 1060 两束专利电磁聚焦离子束源可直接控制作用在样品表面的离子束斑点直径,操作者可以根据需求自己调节。两束离子束可以同时聚焦在样品表面,这样可以大大提高研磨抛光速度。1060 离子束源采用独特的专利电磁聚焦设计,这样的设计可以让离子束斑点直径可调,从而离子撞击的时候是直接撞击样品,且只可以撞击样品,同时样品溅出的材料不会沉积在样品夹具、样品仓或者样品表面上。离子研磨抛光仪有哪些应用sem 样品制备时常常需要研磨抛光。制样时即使再留意,常常一些不理想的形貌也会出现。随着 sem 技术的快速发展,即使一个微不足道的损伤也会限制样品表面的彻底观察分析。通过惰性气体离子研磨抛光解决样品表面之前的损伤是一个非常理想的方法。这是离子研磨的基本功能。块状样品事实上一些无机样品也受益于离子研磨抛光技术。当离子束低入射角度直接作用在样品上时,样品表面剩余的机械应力损伤,氧化层及残留物层均会被溅出,最终显现原始的形貌供 sem 观察和分析。ebsdebsd 是一项非常有用的技术,可以让 sem 获取更多晶体信息,因为通过 sem 获得的背散射电子信息能很好的反应材料晶体结构、晶向和晶体纹理。ebsd 对表面信息非常敏感,任何轻微的表面缺陷均能通过 ebsd 获得比较好的图案信息。因此通过离子研磨抛光来增强表面信息是非常有利的。为了让 ebsd 提高到更好的检测水平,离子研磨抛光能被用来去除精细样品材料的表面材料。使用二维的方法无法得到这一系列的技术产量切片技术。半导体截面观察在半导体行业的很多案例中,离子研磨抛光可以让失效分析快速的得到有用的信息。通常切割或者机械研磨样品会产生样品表面损伤,这些问题可以通过离子研磨抛光来解决,这也得力于多样化的样品夹具来优化了这些操作过程。使用飞纳台式电镜观察 1060 离子研磨抛光仪制样效果1060 离子研磨抛光仪标准版和专业版1060 离子研磨抛光仪技术参数离子束源两束电磁聚焦离子源加速电压范围: 100 ev - 6.0 kev,连续可调离子束流密度高达 10 ma/cm2可选择单束或者双束离子源工作独立控制两束离子束源加速电压 (仅专业版)样品台离子束入射角 0? 到 +10?最大样品尺寸:直径 25mm,高度 15mm样品高度自动感应360? 样品旋转样品往复摇摆,从 ±40? 到 ±60?真空系统两级真空系统:无油干泵和涡轮分子泵皮拉尼型真空计感应控制真空工作气体99.999% 纯度的氩气每离子束流速约 0.2 sccm,名义上所需压力为 15psi 采用自动气体流量控制技术,实现离子源气流的精密流量控制,含两个流量计气压源气动阀驱动氩气,液氮, 或者干燥空气;所需压力要求名义上 60 psi样品照明用户可选的反射照明自动终止计时器设定自动加工终止用户界面标准版内置触摸屏,包含基本设备功能模块专业版?内置触摸屏,包含基本设备功能模块?基于电脑,加工流程可通过参数编程并实时显示操作状态?操作灯光指示器(选配)辅助光学显微镜可选配一个 7-45 倍的体视显微放在与真空系统内用于直接观察样品;或者选配一个具有 2,000 倍的显微成像系统,用于定点成像并显示在电脑显示屏上尺寸标准版69cm*38cm*74cm*51cm (宽*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深)专业版107cm*38cm*74cm*51cm (宽-含电脑显示器*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深)重量73 kg电源100/120/220/240 vac,50/60 hz,720 w
  • 精确操控离子反应质谱科学装置研发启动
    国家重大科学仪器设备开发专项“精确操控离子反应质谱科学装置的研制及应用研究”启动  由国家质检总局组织实施的国家重大科学仪器设备开发专项——“精确操控离子反应质谱科学装置的研制及应用研究”的启动会,在项目牵头单位中国计量科学研究院召开。会议由国家质检总局科技司主持,科技部科研条件与财务司吴学梯副司长,国家质检总局科技司侯玲林副司长,国家自然科学基金委分析化学学科项目主任庄乾坤教授,中国分析测试学会张渝英秘书长,中国计量科学研究院副院长段宇宁、宋淑英等项目承担单位的领导,以及中科院大连化学物理研究所张玉奎院士、杨学明院士等相关专家出席。    会议宣布成立项目监理组、项目总体组、技术专家委员会、用户委员会和项目管理办公室。科技部条财司吴学梯副司长作了重要讲话。他指出,科学仪器设备是光学、机械、电子、计算机、物理、化学、生物等学科领域各种高新技术的集成和结晶,在涉及重大科技前沿、国防等敏感领域的研究中,研发若干具有国际领先水平的重大科学仪器设备,将有效支撑我国开展世界一流科学研究、带动我国高新技术产业的发展。他强调,科学仪器设备的自主研发水平往往成为衡量一个国家创新能力的重要标志之一。“十二五”期间,我国把引领和支撑科技发展的科学仪器设备自主创新摆在优先发展位置,这对于增强我国科技实力、引领国民经济又好又快发展具有非常深远的意义。  科技部条财司吴学梯副司长作重要讲话  项目负责人方向研究员汇报了项目整体情况,各任务负责人汇报了任务实施方案。与会专家认真听取、各抒己见,充分表达了对项目的支持,并提出了具体的要求和建议,希望项目组不仅要克服技术难题,也要努力将各任务之间的组织协调工作做好,以确保项目的顺利实施。项目总体组组长、中国计量科学研究院段宇宁副院长表示,中国计量院将全力以赴支持项目的实施。  该项目自2011年10月开始实施,将于2016年10月结束。任务承担单位包括:中国计量科学研究院、北京理工大学、清华大学、北京蛋白质组研究中心、中国科学院大连化学物理研究所、北京生命科学研究院。  该项目着重针对生物、材料和先进能源技术等重要领域的蛋白精确分析等前沿技术、分子反应动力学等基础问题,通过研发新技术、新方法,实现离子精确操控及质谱分析,为上述领域的研发提供高性能、高效率、具有创新操作模式的强大工具。  本项目将研制3套以精确操控离子反应系统为核心的科研装置,包括:离子反应超高分辨质谱装置、碰撞反应飞行时间离子谱装置和离子反应理论研究与实验装置。并在此新装置上分别开展离子束反应与控制、蛋白磷酸化筛选与鉴定、碰撞反应飞行时间离子谱、蛋白分析中的ETD反应及离子碎裂新方法、高纯有机试剂中痕量杂质精确分析等应用研究。  据项目负责人方向研究员介绍,通过该项目的实施,在仪器研制方面,将掌握精确离子操控核心技术和一系列关键技术,形成一整套具有自主知识产权的机械、电子、光学、软件等关键部件和高性能的整机 在应用研究方面,有望突破生物、材料和先进能源技术等重点领域尚未解决的难题,建立我国尖端科学实验装置研发基地,形成高端科学装备研制技术团队和前沿技术科学家紧密合作的研发联盟,为我国高端质谱仪器创新发展进一步奠定重要基础。  国家重大科学仪器设备专项项目是为了贯彻落实《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》,由财政部、科技部共同设立的旨在支持重大科学仪器设备开发,以提高我国科学仪器设备的自主创新能力和自我装备水平,支撑科技创新,服务经济建设而设立的专项支持资金。今年为首批资助,采取限项推荐方式。今年全国53个项目获得资助,中国计量科学研究院“宽量限超高精密电流测量仪”和“精确操控离子反应质谱科学装置的研制及应用研究”2个项目获得资助。

高新离子研磨装置相关的方案

高新离子研磨装置相关的资料

高新离子研磨装置相关的试剂

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  • 【求助】请教一下样品研磨所用到的设备装置

    之前在一个回帖想咨询一下这个问题,可能位置不够显著,所以发主贴请教。最近要测水产品里面痕量金属的浓度,前处理要烘干,研磨以及加酸消解。在研磨这步遇到一些问题水产品烘干的块状物硬且脆 研磨之前只好放在封口袋里面先碾碎成小块,再放在研钵里面研磨,费工费时,也可能造成玷污。同时,因为需要测定痕量金属元素,所以一些使用金属刀头的粉碎机可能无法满足要求所以想问一下大家除了常规研钵之外,其他设备有那些会方便省时一些请各位大侠不吝赐教多谢了!

  • 讲座预告:利用氩离子研磨技术制备完美EBSD样品

    讲座预告:利用氩离子研磨技术制备完美EBSD样品

    利用氩离子研磨技术制备完美EBSD样品http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09504.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09502.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09501.gif微电子材料样品在做失效分析扫描电镜图像拍摄之前,需要准确研磨到目标位置,尽可能的避免样品研磨面的应力损伤和污染,以便获得清晰的样品断面形貌,或进行元素定性定量分析等。本次讲座介绍如何机械研磨、离子束切割抛光方式和超薄切片方式制备扫描电镜样品。徕卡精研一体机TXP可以对样品进行精确定位研磨,高效率的处理以往难以制备的样品。徕卡三离子束切割抛光仪TIC3X可对样品进行无应力损伤和无磨料污染的氩离子束切割抛光,确保样品适合高倍率扫描电镜图像观察,或这EBS和EBSD分析。徕卡超薄切片机UC7是利用钻石刀对样品进行精细准确切割,非常适合于铜、铝和高分子膜层的截面制备。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/04/201704241054_01_1785258_3.jpg时间:2017-06-30 14:00 讲师:林初诚 讲师简介中国科学院上海硅酸研究所测试中心工程师,长期从事测试工作,对SEM,EDS,EBSD及相关制样技术有深入研究。在样品测试方面有丰富经验,可以根据不同需求制备各种高难度样品协助研究。报名链接:http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/2579http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09507.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09510.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09504.gif

  • 秀下----离子研磨机

    秀下----离子研磨机

    最近刚安装了一台用离子束研磨样品的横截面的设备,是Hitachi E-3500.样品做好后可以直接放入SEM观察,即使非导电性的样品,也不会观察到Charge-up现象.让各位板油了解一下.好久没发帖了,赚点人气. [img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/03/200903271157_140812_1609801_3.jpg[/img]

高新离子研磨装置相关的耗材

  • Allied研磨抛光系统
    Allied研磨抛光系统MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备,可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案,适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序,包括研磨盘的转速、方向,时间,样品的转速,研磨样品的力度(开/关,%),液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩,可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前,独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂,并用一个控制阀轻易的实现流控制。本机附带所有常用研磨头,用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点: 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计,阳极电镀处理,耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围:10-400RPM。轻推速度范围:10-150RPM。电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高(381 × 686 × 584毫米)。重量:136lb.(62kg)。美国设计制造。规格: PH系列研磨头规格:AD-5液体自动配送器提供自动的,无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机,或者可以作为一个独立的系统,使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致,提供良好重复性的结果,这增加了在实验室的生产率和效率,同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程,使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置,其中两个包含一个冲洗周期,以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。
  • 1093研磨环止动件
    Cyclotec 1093旋风磨标准研磨环和筛网的止动件。
  • 金刚石抛光膜、研磨纸
    1. 金刚石抛光膜DIAMOND LAPPING FILM钻石颗粒,背衬是3mil厚度的涤纶。大小8英寸和12英寸两种可选,粒度大小可选,背衬有粘附(PSA)和不粘附(PB)两种,单张起售。货号产品名称规格50350-01Diamond Lapping Film, P/B, 0.1um8英寸50350-03Diamond Lapping Film, P/B, 0.25um8英寸50350-05Diamond Lapping Film, P/B, 0.5um8英寸50350-10Diamond Lapping Film, P/B, 1um8英寸50350-15Diamond Lapping Film, P/B, 3um8英寸50351-01Diamond Lapping Film, PSA, 0.1um8英寸50351-02Diamond Lapping Film, PSA, 0.25um8英寸50351-03Diamond Lapping Film, PSA, 0.5um8英寸50351-04Diamond Lapping Film, PSA, 1um8英寸50351-05Diamond Lapping Film, PSA, 3um8英寸2. 研磨纸1um的金刚石抛光膜抛光后紧接着用到的“蓝研磨纸”和“绿研磨纸”。样品最终观察前的最后抛光程序用到。可以呈现一个完美平整无痕的观测平面。只有8英寸一个规格,背衬有粘附(PSA)和不粘附(PB)之分。单张起售。货号产品名称规格50336-PBTrue Blue Film 蓝研磨纸8英寸(20.3cm)50338-PBFinal Green Film 绿研磨纸8英寸(20.3cm)50336-PSATrue Blue Film8英寸(20.3cm)50338-PSAFinal Green Film8英寸(20.3cm)
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