研磨机械

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  • 土壤研磨机 来因科技土壤样品研磨机应用领域:土壤、地质、环保、第三方检测、农牧业、农产品质量、资源与环境等,土壤制样、重金属分析应用样品特征:脆性的,纤维性的,中低硬度的,干磨或湿磨仪器机械处理原理:撞击力、剪切力、摩擦力仪器机械处理类型:粉碎、研磨、混合、均一化控制系统:触摸屏、无线遥控远程遥控:标配无线遥控器,可远距离控制研磨机的启动、停止、加速、减速以及可切换三种运行模式(单向持续运行,单向间隔运行,双向交替间隔运行)土壤研磨机 来因科技土壤样品研磨机显示方式:7.0寸彩色液晶显示屏,可显示、触控操作运行模式、运行时间、转速、交替运行间隔运行模式:单向持续运行、单向间隔运行、双向交替间隔运行、定时停止连续运行时间设定:0.1~9999.9分钟交替、单向间隔暂停时间设定:0.1~9999.9分钟主盘转速:50-450min研磨罐转速:100-900min传动比(行星盘、研磨罐):1:2可连续工作(满负荷):90h紧急停机:红色急停按钮可一键断电停机断电记忆功能:断电之前的时间设定,断电开机后无须重新设定过载保护功能:有研磨室设计:密封防尘,带四方位观察窗同时处理样品种数:4种土壤研磨机 来因科技土壤样品研磨机适用研磨罐:本机是新款通用型,100ml、250ml、500ml三种规格研磨罐均可使用,可根据客户需求同时放不同规格的罐;对角对称即可(4个研磨罐为一套)。最大进样尺寸:土壤12mm 其他3mm研磨罐配球量:罐子容积的三分之一最大装样量:研磨罐容积的三分之二土壤研磨机 来因科技土壤样品研磨机出样粒度:最小可达0.1um(即1.0×10mm-4)研磨罐材质:玛瑙、陶瓷、聚四氟乙烯、氧化锆、聚氨酯、不锈钢、尼龙、碳化钨、硬质合金等可选(常用玛瑙、氧化锆研磨罐)研磨球材质:玛瑙、氧化锆、不锈钢、陶瓷、硬质合金、碳化硅等研磨球直径:3、5、10、15、20mm(根据实际需求配置)电源端口:国标、欧标、美标、英标等电机转速、功率、电压:1400rpm、0.75kw、220V±10%单相,50/60Hz净重:80kg尺寸(长宽高):756*484*488mm噪声描述:60dB防护等级:IP60土壤研磨机 来因科技土壤样品研磨机标准配置:研磨仪主机:1台;研磨罐锁紧装置:1套4个;250ml研磨机研磨罐保护装置:1套4个;100ml研磨机研磨罐保护装置:1套4个;电源线:1根;说明书:1本;保修卡:1张;合格证:1张
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  • 研磨机 400-680-0997
    研磨机应用领域:土壤、地质、环保、第三方检测、农牧业、农产品质量、资源与环境等,土壤制样、重金属分析应用样品特征:脆性的,纤维性的,中低硬度的,干磨或湿磨仪器机械处理原理:撞击力、剪切力、摩擦力仪器机械处理类型:粉碎、研磨、混合、均一化控制系统:触摸屏、无线遥控远程遥控:标配无线遥控器,可远距离控制研磨机的启动、停止、加速、减速以及可切换三种运行模式(单向持续运行,单向间隔运行,双向交替间隔运行)研磨机显示方式:7.0寸彩色液晶显示屏,可显示、触控操作运行模式、运行时间、转速、交替运行间隔运行模式:单向持续运行、单向间隔运行、双向交替间隔运行、定时停止连续运行时间设定:0.1~9999.9分钟交替、单向间隔暂停时间设定:0.1~9999.9分钟主盘转速:50-450min研磨罐转速:100-900min传动比(行星盘、研磨罐):1:2可连续工作(满负荷):90h紧急停机:红色急停按钮可一键断电停机断电记忆功能:断电之前的时间设定,断电开机后无须重新设定过载保护功能:有研磨室设计:密封防尘,带四方位观察窗同时处理样品种数:4种研磨机适用研磨罐:本机是新款通用型,100ml、250ml、500ml三种规格研磨罐均可使用,可根据客户需求同时放不同规格的罐;对角对称即可(4个研磨罐为一套)。最大进样尺寸:土壤12mm 其他3mm研磨罐配球量:罐子容积的三分之一最大装样量:研磨罐容积的三分之二研磨机出样粒度:最小可达0.1um(即1.0×10mm-4)研磨罐材质:玛瑙、陶瓷、聚四氟乙烯、氧化锆、聚氨酯、不锈钢、尼龙、碳化钨、硬质合金等可选(常用玛瑙、氧化锆研磨罐)研磨球材质:玛瑙、氧化锆、不锈钢、陶瓷、硬质合金、碳化硅等研磨球直径:3、5、10、15、20mm(根据实际需求配置)电源端口:国标、欧标、美标、英标等电机转速、功率、电压:1400rpm、0.75kw、220V±10%单相,50/60Hz净重:80kg尺寸(长宽高):756*484*488mm噪声描述:60dB防护等级:IP60研磨机标准配置:研磨仪主机:1台;研磨罐锁紧装置:1套4个;250ml研磨机研磨罐保护装置:1套4个;100ml研磨机研磨罐保护装置:1套4个;电源线:1根;说明书:1本;保修卡:1张;合格证:1张
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  • 土壤研磨机应用领域:土壤、地质、环保、第三方检测、农牧业、农产品质量、资源与环境等,土壤制样、重金属分析 应用样品特征:脆性的,纤维性的,中低硬度的,干磨或湿磨 仪器机械处理原理:撞击力、剪切力、摩擦力 仪器机械处理类型:粉碎、研磨、混合、均一化 土壤研磨机控制系统:触摸屏、无线遥控 远程遥控:标配无线遥控器,可远距离控制研磨机的启动、停止、加速、减速以及可切换三种运行模式(单向持续运行,单向间隔运行,双向交替间隔运行) 显示方式:7.0寸彩色液晶显示屏,可显示、触控操作运行模式、运行时间、转速、交替运行间隔 运行模式:单向持续运行、单向间隔运行、双向交替间隔运行、定时停止 连续运行时间设定:0.1~9999.9分钟 交替、单向间隔暂停时间设定:0.1~9999.9分钟 主盘转速:50-450min 研磨罐转速:100-900min 传动比(行星盘、研磨罐):1:2 可连续工作(满负荷):90h 紧急停机:红色急停按钮可一键断电停机 断电记忆功能:断电之前的时间设定,断电开机后无须重新设定 土壤研磨机过载保护功能:有 研磨室设计:密封防尘,带四方位观察窗 同时处理样品种数:4种 适用研磨罐:本机是新款通用型,100ml、250ml、500ml三种规格研磨罐均可使用,可根据客户需求同时放不同规格的罐;对角对称即可(4个研磨罐为一套)。 最大进样尺寸:土壤12mm其他3mm 研磨罐配球量:罐子容积的三分之一 最大装样量:研磨罐容积的三分之二 出样粒度:最小可达0.1um(即1.0×10mm-4) 研磨罐材质:玛瑙、陶瓷、聚四氟乙烯、氧化锆、聚氨酯、不锈钢、尼龙、碳化钨、硬质合金等可选(常用玛瑙、氧化锆研磨罐) 研磨球材质:玛瑙、氧化锆、不锈钢、陶瓷、硬质合金、碳化硅等 研磨球直径:3、5、10、15、20mm(根据实际需求配置) 电源端口:国标、欧标、美标、英标等 电机转速、功率、电压:1400rpm、0.75kw、220V±10%单相,50/60Hz 净重:80kg 尺寸(长宽高):756*484*488mm 噪声描述:60dB 防护等级:IP60 土壤研磨机标准配置:研磨仪主机:1台;研磨罐锁紧装置:1套4个;250ml研磨机研磨罐保护装置:1套4个;100ml研磨机研磨罐保护装置:1套4个;电源线:1根;说明书:1本;保修卡:1张;合格证:1张
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研磨机械相关的方案

研磨机械相关的论坛

  • 药物分析实验前处理设备——药物研磨机/粉碎机?

    药物研究实验中常用的粉碎机/研磨机有很多种:超微粉碎机 其他药用粉碎机械 机械式药用粉碎机 药用粉碎机组 低温粉碎机 药用研磨机 气流不是很明白这些研磨机/粉碎机的原理,具体有什么区别?优点或缺点?应用方面有什么限制?希望行家高人赐教!不知道还有没有其他类型的研磨机?http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1010.gif

  • 组织研磨机选机指南

    组织研磨机选机指南

    针对市面上眼花缭乱的研磨机,每一种产品的经销商都号称自己的研磨机是最好的。那么,实验室在选择研磨机时候,如何才能选择一款自己满意呢?看外观?看用户数量的多少?看售后服务质量?还是实验效果?本文主要针对市面上目前最流行的三种研磨机做对比分析。水平式组织研磨机垂直式组织研磨机三维一体式组织研磨机生产厂家名称高通量组织研磨仪全自动样品快速研磨仪多样品冷冻研磨机型号Tissuelyser-IITissuelyser-24、48、96、192JXFSTPRP-24机器实物图http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/02/201502021450_533893_2983531_3.jpghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/02/201502021450_533894_2983531_3.jpg http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/02/201502021451_533895_2983531_3.jpg运动方式水平左右运动上下垂直运动三维运动年代第一代研磨机第二代研磨机第三代研磨机适用范围各种植物组破碎各种动物组织破碎真菌、细菌破碎各种植物组破碎各种动物组织破碎真菌、细菌破碎食品、药品成分分析检测各种植物组破碎各种动物组织破碎真菌、细菌破碎

  • 分析研磨机 国产

    有没有国产分析研磨机,类似IKA A11分析研磨机的,比较便宜的,哪个有好用的给推荐下,谢谢!

研磨机械相关的耗材

  • 现货供应艾卡(IKA) A11 分析研磨机
    现货供应艾卡(IKA) A11 分析研磨机,主要特点,咨询热线,15300030867,010-82752485-815,张经理,欢迎您的来电咨询!?水性或胶性的物质可通过加入水,将其磨碎;?可选用A 11.4 250 ml研磨杯;?随机配A 11.5 80ml的研磨杯,研磨杯为Tefel材质(PTFE,经玻璃纤维固化)和高级不锈钢(1.4571)制成,可用于需要液氮的研磨。现货供应艾卡(IKA) A11 分析研磨机,技术参数A11 分析研磨机工序类型分批处理工作原理剪切/冲击电机输入功率160 W电机输出功率100 W最大转速28000 rpm最大圆周速度53 m/s最大使用容积80 ml最大给料硬度6 Mohs最大给料颗粒10 mm冲击/剪切刀头材料不锈钢1.4034研磨室材料不锈钢1.4571工作时间 开1 min工作时间 关10 min研磨室,可用水冷却不研磨物料可在研磨室用干冰冷却是研磨物料可在研磨室用液氮冷却是外形尺寸85 x 240 x 85 mm重量1.5 kg允许环境温度5 - 40 °C允许相对湿度80 %DIN EN 60529 保护方式IP 43电压220 - 240 / 100 - 115 V频率50/60 Hz仪器输入功率160 W
  • 裸光纤研磨机 Radian™ 抛光玻璃棒,光纤束,光纤连接器
    Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换,用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型,以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节研磨片尺寸4”备注:Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好,60°可以抛光吗?也许使用更长的光纤支架?是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器,可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别?基本上,NOVA 具有 Radian 的所有功能,并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持,4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调?是的,压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节(0-45deg)● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工
  • 影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单,医药中间体高速胶体磨,医药中间体湿法超微粉碎机,医药中间体湿磨机,医药高速纳米研磨机 ,化工原料高剪切胶体磨,原料药高速纳米胶体磨,头孢类抗生素纳米胶体磨
    影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单,医药中间体高速胶体磨,医药中间体湿法超微粉碎机,医药中间体湿磨机,医药高速纳米研磨机 ,化工原料高剪切胶体磨,原料药高速纳米胶体磨,头孢类抗生素纳米胶体磨 所谓医药中间体,实际上是一些用于药品合成工艺过程中的一些化工原料或化工产品。这种化工产品,不需要药品的生产许可证,在普通的化工厂即可生产,只要达到一些的别,即可用于药品的合成。 我国每年约需与化工配套的原料和中间体2000多种,需求量达250万吨以上。经过30多年的发展,我国医药生产所需的化工原料和中间体基本能够配套,只有少部分需要进口。而且由于我国资源比较丰富,原材料价格较低,有许多中间体实现了大量出口。那么,我国医药中间体域面临哪些发展机遇呢?我国β-内酰胺类抗生素经过近50年的发展,已经形成了完整的生产体系。2012年几乎所有的β-内酰胺类抗生素(除利期内的品种外)我国都能生产,而且成本很低,青霉素产量居位,大量出口供应国际市场;头孢类抗生素基本能够自给自足,还能争取一部分出口。2012年,与β-内酰胺类抗生素配套的中间体我国全部能够自己生产,除了半合成抗生素的母核7-ACA和7-ADCA需要部分进口外,所有的侧链中间体均可生产,而且大量出口。 以β-内酰胺类抗生素的主要配套中间体苯乙酸为例,我国现有苯乙酸生产厂家近30家,总年产能力约2万吨。但多数企业规模偏小,大的年产2000吨,其他大多年产数百吨。2003年国内苯乙酸总需求量约1.4万吨,消费结构为:青霉素G占85%,其他医药占4%,香料占7%,农药及其他域占4%。随着国内香料、医药、农药等行业的发展,苯乙酸需求量将进一步增加。预计到2005年,我国医药工业将消耗苯乙酸约1.4万吨,农药行业将消费500吨,香料行业约消费2000吨。再加上其他域的消费量,预计2005年国内苯乙酸总需求量将达1.8万吨。 所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机,是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构,三组分散刀头,表面含有不同粒度大小的金属颗粒,这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计,增大了冷却表面积,更利于长时间工作。 产品说明:锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨,可获得更细悬浮液,技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。 第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。医药中间体CMD2000系列胶体磨(研磨分散机)的特点:① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。医药中间体CMD2000系列胶体磨设备参数选型表高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到大允许量的10%。影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单,医药中间体高速胶体磨,医药中间体湿法超微粉碎机,医药中间体湿磨机,医药高速纳米研磨机 ,化工原料高剪切胶体磨,原料药高速纳米胶体磨,头孢类抗生素纳米胶体磨

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研磨机械相关的资讯

  • 中国机械工程学会发布《轴承套圈(滚道)喷射式强化研磨机》团体标准
    日前,经中国机械工程学会标准化工作委员会审定,《轴承套圈(滚道)喷射式强化研磨机》(T/CMES 12002-2022)标准正式发布,并将于2022年2月实施。该标准由中国机械工程学会特种加工技术分会组织、广州大学广东省强化研磨高性能微纳加工工程技术研究中心(广州市工业和信息化委机器人智能装备研究平台)牵头研制。高端装备作为“大国重器”及“装备制造皇冠顶端的明珠”,处于国家高新技术价值链顶端和现代产业链核心环节,是实现“中国制造2025”、“制造强国”及“新基建”战略优先发展方向。而轴承作为重要的运动和动力传递核心功能部件,更被称为“装备芯片”,位列关键核心基础件首位。高端装备关键核心零部件射流冲击强化改性微纳研磨(成套)装备轴承套圈(滚道)喷射式强化研磨机针对以工业机器人减速器轴承为代表的高端装备关键核心零部件,面向 GCr15、9Cr18、Cronidur 30、Si3N4、ZrO2、X-30、CSS-42L、ZGCr15、GCr15SiMn等新一代高性能轴承高温合金材料,开展射流冲击强化改性微纳研磨高性能加工。该设备作为集磨粒微切削、超声强化、弹塑性变形、多相射流、固液相摩擦化学效应等多种方法于一体的抗疲劳、抗腐蚀、抗磨损的高性能制造装备,通过机-电-液-智等多目标协同融合控制,首创具有“表面微织构(油囊、纹理)、N-M络合物微纳尺度强化”特性的表面微纳强化改性层,改善精度等级、工况振动、有效运行寿命、MTBF、强化层硬度、扭矩传递效率等关键核心指标,实现轴承基础件在高功率密度加工环境下的宏\介\微多尺度抗磨延寿、高温耐蚀、抗疲劳、长寿命、精度保持性及控形控性适配性等高性能制造目标,突破其高精度、高能效、高寿命、高强度、高可靠性等“五高”服役性能瓶颈,助力装备运转平稳性、重复定位精度、回转精确度及可靠性寿命等服役行为性能指标显著提升。工业机器人减速器轴承射流冲击强化改性微纳研磨加工该技术标准规定了轴承套圈(滚道)喷射式强化研磨机的范围、术语定义、结构组成、技术参数、质量保证、安全性试验、检验规则标志、包装及贮运等要求,显著提升轴承等基础件成型质量、材料强度及工作性能等。依托该标准研制成功的技术装备可进一步拓展至航空航天、隧道盾构、武器装备、海洋工程、数控机床、轨道交通、新能源、精密仪器、智能农机、核电等重大装备发展领域,为最终形成具有完全自主知识产权的装备基础件射流强化改性微纳研磨加工装备标准群奠定了坚实的基础,对服务国家新材料新装备新制造交叉创新学科掌握标准制定权,突破国际高端装备高性能智能制造“卡脖子”技术壁垒提供关键变革性手段,具有重大意义和深远影响。同时,该系列另一项标准《轴承套圈(滚道)喷射式强化研磨加工工艺》也已进入立项预研。
  • 广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院预算1700万采购化学机械研磨机(CMP)
    p 8月17日,广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院发布《广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机(CMP)采购项目单一来源采购公示》,拟采购单一来源的CMP设备。/pp一、项目信息/pp 采购人:广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院/pp 项目名称:广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机(CMP)采购项目/pp拟采购的货物或者服务的说明:/ptable style="border-collapse:collapse "tbodytr class="firstRow"td style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="49" valign="top" 包号/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="161" valign="top" 货物名称/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="67" valign="top" 数量br//tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="163" valign="top" 采购预算(人民币)/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="123" valign="top"最高限价(人民币)/td/trtrtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="49" valign="top" 1/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="161" valign="top" 化学机械研磨机(CMP)/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="67" valign="top" 1/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="163" valign="top" 1700万元/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="123" valign="top" 1200万元/td/tr/tbody/tablep CMP过程是一个动态的微细加工过程,通过化学腐蚀和机械力共同作用实现对待抛光面材料表面的平滑处理。在该过程中,抛光液中的化学组分与待抛光面材料发生反应,在待抛光材料表面形成一层很薄、结合力较弱的生成物 而抛光液中磨粒在压力和摩擦作用下对待抛光材料表面进行微量去除。此外,抛光过程抛光液还通过在抛光区域形成流体膜以及带动磨粒在抛光区运动影响抛光过程。在高端TC-SAW器件的制备过程中,叉指电极的表面粗糙度、以及叉指电极的图案化,在后续的材料生长过程中,由于保型性,最终的覆盖层上表面不是一个平整的表面,会导致波的覆盖层表面的传播特性受到影响,所以,必须要对覆盖层的上表面进行平坦化处理。另外,电极层、以及表面覆盖层的厚度也要精确的控制,从而实现对于器件频率一致性的精确控制。CMP加工的过程中,主要关注的参数包含设备参数、研磨液参数、抛光垫参数、CMP对象薄膜参数等。CMP是一种集机械学、流体力学、材料化学、精细化工、控制软件等多领城最先进技术于一体的设备,是集成电路制造设备中较为复杂和研制难度较大的设备之一。为了完成本项目,急需采购符合相关技术指标的化学机械研磨机。/pp拟采购的货物或服务的预算金额:1700.0 万元(人民币)br//pp采用单一来源采购方式的原因及说明:/pp (1)、采用单一来源采购方式的原因及相关说明:/pp化学机械抛光(CMP)是芯片制造的五大关键技术之一,其装备与工艺技术在国内长期处于空白。国内近年来也取得了较大的进步,如华海清科等公司只有8寸机, 6寸机需要定制,加价幅度较大(没有明确),没有6寸铌酸锂/钽酸锂工艺经验。/pp 尽管中国大陆地区的CMP设备市场规模较大,但高端CMP设备均依旧依赖于进口,前三大厂家应材公司、荏原公司、东京精密。应用材料的CMP设备是8寸制程开始,6寸制程现阶段只有研磨头,不配备清洗功能,且没有SAW滤波器的经验。荏原(Ebara)公司的CMP设备,有6寸支撑,至今为止,还未在大陆的SAW滤波器厂家有过购买使用经验,国能销售以及技术支持团队不能保证碎片率。东京精密的CMP设备在SAW滤波器行业具有广泛的应用,国外如村田、太阳诱电、RF360等高端滤波器厂家,都在使用其相关设备。/ppTC-SAW器件对于CMP工艺的要求较高,一直也是国内滤波器产业需要突破的技术难题,必须要求厂家具有相关的经验,且对设备具有相关的改造经验。经详细调研,东京精密的CMP设备在SAW滤波器厂家具有广泛的应用,且能够满足研发需求,所以,申请单一来源。/pp (2)各专家对相关供应商因专利、专有技术等原因具有唯一性的具体论证意见,专家的姓名、工作单位和职称:/pp专家1:姓名 蒋侬辉 工作单位 广东农科院 职称 副研 意见: 同意/pp专家2:姓名 丘麒 工作单位 华南农业大学 职称 高工 意见: 同意/pp专家3:姓名 袁敏 工作单位 华南师范大学 职称 高工 意见: 同意/pp专家4:姓名 严丽 工作单位 广东轻工职业技术学院 职称 高工 意见: 同意/pp专家5:姓名 姚宇江 工作单位 华南师范大学 职称 高工 意见: 同意/pp (3)专家小组综合意见:/pp该项目采购设备之化学机械研磨机(CMP),经市场调研,满足采购人技术需求的供应商只有一家,为满足采购人的科研需求,建议使用单一来源采购方式进行。/pp二、拟定供应商信息br//pp 名称:苏州阿尔泰克电子科技有限公司/pp 地址:苏州高新区科发路101号520室/pp三、公示期限/pp 2020年08月17日 至 2020年08月24日 (公示期限不得少于5个工作日)/pp公告链接:a href="http://www.ccgp.gov.cn/cggg/dfgg/dylygg/202008/t20200817_14846803.htm" target="_blank"中国政府采购网/a/ppbr//p
  • 实验室组织研磨机:上海净信样品前处理设备提高样品研磨效果
    组织研磨机被广泛应用,它主要是应用于对生物样品的DNA提取实验分析,确保样品前处理的理想效果;同时它在种子纯度检测项目实验中的应用频率也较高,提高了对种子DNA的提取效果,同时也大大的提高了实验的工作效率。  样品前处理设备主要是通过垂直振荡和振荡系统的高频往复运动,使离心管中的冷冻样品与磨珠的相互碰撞摩擦,所产生的研磨剪切力和冲击力来使样品组织被完全破碎,其可在几秒钟到几分钟内快速实现对生物样品组织的粉碎、混合和细胞破壁,进而获得良好的样品磨碎效果。  组织研磨机是一款实验室样品制备的多面手仪器,不仅能够快速粉碎、均匀化处理硬、软、弹性等样品组织,还可满足理化实验分析的需求;不锈钢罐也配有不同的体积和材料,可用于样品干磨、湿磨和冷冻研磨,也可用于细胞破碎和DNA/RNA提取,还被广泛应用于生物医学、农业、食品等行业领域。  组织研磨机的主要优点:  1. 可快速高效地将样品磨碎,使其达到所需的粒度分布,满足后续实验要求,大大提高了工作效率。  2. 可充分研磨样品,利于后续实验的提取和分析,确保实验结果准确性。  3. 研磨结果均匀,保证实验结果的可靠性。  4. 采用独立研磨管,防止样品交叉污染,保护样品。  实验设备的使用注意事项还有注意这几点,仪器要放置在干燥通风的环境中进行使用;冷冻样品时,要注意避免液氮的溅出,做好防护,避免造成冻伤等事故;样品要对称分布在样品夹中,要确保样品夹的平衡;在关闭设备门之前,需要确认夹具是否已经完全固定,没有松动现象;在设置仪器程序参数时,对其设备的振荡频率参数设置不得超过设备的较大量程范围值。  组织研磨机的样品前处理操作,不仅提高了实验效率,还为实验提供了可靠的分析基础,进而成为实验室中样品前处理制备的常备实验仪器。
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